「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

In the wiring board 1, a metal terminal pad 17 has its top surface part made of an Au-plating layer 54 and also has an Ni-plating layer 53 right below the Au-plating layer 54 in contact with the Au-plating layer 54, and the thickness of the Au-plating layer 54 is set to ≥0.2 μm and ≤0.7 μm.例文帳に追加

配線基板１において、金属端子パッド１７は、最表面部がＡｕメッキ層５４からなり、該Ａｕメッキ層５４の直下に当該Ａｕメッキ層５４と接する形で配置されたＮｉメッキ層５３とを有し、Ａｕメッキ層５４の厚さを０．２μｍ以上０．７μｍ以下の範囲に設定する。 - 特許庁

A semiconductor device comprising a semiconductor layer 1, a gate insulation film 2, a gate electrode 3, an offset spacer layer 4, and an SD extension diffusion layer 6 subjected to ion implantation using the gate electrode 3 and the offset spacer layer 4 as a mask is manufactured by varying the thickness of the offset spacer layer 4 and each leak current level is measured.例文帳に追加

半導体層１と、ゲート絶縁膜２と、ゲート電極３と、オフセットスペーサ層４と、ゲート電極３およびオフセットスペーサ層４をマスクとしてイオン注入されたＳＤエクステンション拡散層６とを有する半導体装置を、オフセットスペーサ層４の膜厚を変化させて形成し、それぞれのリーク電流値を測定する。 - 特許庁

A barrier film has at least one layer of organic layer on a resin substrate, wherein a first SiO_x (x>2) layer having a thickness of 5 to 150 nm on the organic layer and at least two layers of inorganic layers which contain silicon atoms and oxygen atoms are formed on the SiO_x (x>2) layer.例文帳に追加

樹脂基材上に少なくとも１層の有機層を有するバリア性フィルムにおいて、該有機層上に厚み５〜１５０ｎｍの第１のＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層が積層され、該ＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層上にケイ素原子及び酸素原子を含有する無機層を少なくとも２層以上有することを特徴とするバリア性フィルム。 - 特許庁

The reflection type liquid crystal cell substrate consisting at least of a hard coat layer, an epoxy resin layer containing minute areas having a refractive index different from that of the epoxy resin and a reflection layer consisting of a metal thin layer is characterized in that the minute areas have a concentration distribution in the direction of the thickness of the epoxy resin layer and are unevenly distributed.例文帳に追加

少なくともハードコート層、エポキシ系樹脂と屈折率が相違する微小領域を含有するエポキシ系樹脂層、および金属薄層よりなる反射層からなり、且つ、上記微小領域がエポキシ系樹脂層の厚さ方向に濃度分布を有して偏在していることを特徴とする反射型液晶セル基板。 - 特許庁

The organic photoreceptor has an intermediate layer, a photosensitive layer and a protective layer having a thickness of at least 3 μm on a conductive support, wherein the protective layer contains fluorine-containing resin fine particles, and area ratios A1, A2 and A3 of fluorine-containing resin fine particles in the protective layer, satisfying specific relations.例文帳に追加

導電性支持体上に、中間層と感光層と膜厚が少なくとも３μｍ以上の保護層を有する有機感光体において、該保護層が含フッ素樹脂微粒子を含有し、該保護層中の含フッ素樹脂微粒子の面積率Ａ１、Ａ２及びＡ３が特定の関係を満たすことを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

Each material and each thickness of the barrier layer 21 and the quantum well layer 22 is selectively set so that electrons can pass through the barrier layer 21 by a tunnel effect, and that the X level of the barrier layer 21 which is present in a Γ mini-band and the Γlevel of the quantum well layer 22 can be turned into a resonating state.例文帳に追加

障壁層２１と量子井戸層２２の各材料と各厚さを、電子が障壁層２１をトンネル効果により通過可能であり、Γミニバンド中に障壁層２１のＸ準位が存在して障壁層２１のＸ準位と量子井戸層２２のΓ準位とが共鳴状態となるように選択設定される。 - 特許庁

The charging roller includes an elastic layer and a tube layer, the thickness of the tube layer is in the range of 100 μm to 500 μm, the conductive elastic layer is formed of a non-foamable resin, the conductive elastic layer is formed to a crown shape, the crown amount is in the range of 60 μm to 135 μm.例文帳に追加

弾性層とチューブ層を備える帯電ローラであって、チューブ層の厚さが１００μｍから５００μｍの範囲であり、導電性弾性層が非発泡性樹脂で形成され、導電性弾性層の形状がクラウン形状であって、クラウン量が６０μｍから１３５μｍである帯電ローラ。 - 特許庁

Rubbles are charged to the underside and side faces of the pipe P and a rubble layer in fixed thickness is built, an asphalt mixture 25 is placed on the rubble layer and a bearing layer 22 is constructed, an upper covering layer 26 is executed onto the layer 22 and a top-face protective material 28 is installed, and bearing and protection to a pipeline can be conducted.例文帳に追加

前記パイプＰの下面と側面に割石を投下して所定の厚さの割石層を構築し、その層にアスファルト混合物２５を打設して支持層２２を構築し、その上に上部被覆層２６を施工してから上面保護材２８を設けて、管路に対する支持と保護とを行い得るようにする。 - 特許庁

An insulating layer with a dielectric constant smaller than that of the liquid crystal is provided between a common electrode and a pixel electrode in which a plurality of slits are provided, and the insulating layer is etched so that the thickness of the insulating layer under the slits of the pixel electrode becomes thinner than that of the insulating layer under the transparent conductive layer of the pixel electrode.例文帳に追加

液晶の誘電率よりも誘電率の小さい絶縁層をコモン電極と複数のスリットが設けられている画素電極との間に設け、画素電極のスリット下の絶縁層の厚さを画素電極の透明導電層下の絶縁層の厚さよりも薄くなるように絶縁層をエッチングする。 - 特許庁

To reconcile appropriate setting of layer thickness of a liquid crystal layer between a reflection display area and a transmission display area by an insulating layer and assurance of fluidity of an alignment layer material between the plurality of transmission display areas even when the insulating layer is provided in a semi-transparent reflection type liquid crystal display device.例文帳に追加

半透過反射型の液晶装置において、液晶層の層厚を絶縁層によって反射表示領域と透過表示領域との間で適正に設定することと、絶縁層を設けた場合でも複数の透過表示領域の間での配向膜材料の流れ性を確保することを両立させる。 - 特許庁

The electrochromic element has at least a first electrode layer, an electrochromic layer, an ion conductive layer, and a second electrode layer, and the thickness of at least one layer of these constituent layers has a prescribed uneven distribution.例文帳に追加

表示装置用光学フィルターは、透明基板上の主要部分にエレクトロクロミック素子が形成されており、このエレクトロクロミック素子は少なくとも第一電極層、エレクトロクロミック層、イオン導電層、および第二電極層を有してなり、これらの構成層のうち少なくとも１つの層の厚みが所定の不均一分布を有している。 - 特許庁

The compound semiconductor device having the AlInAs buffer layer as the first compound semiconductor layer on the substrate and the second compound semiconductor layer on the first compound semiconductor layer is constituted by adjusting the film thickness of the AlInAs buffer layer to ≥1 μm.例文帳に追加

基板上に、第１の化合物半導体層としてＡｌＩｎＡｓバッファ層を有し、前記第１の化合物半導体層上に第２の化合物半導体層を有する化合物半導体素子において、前記のＡｌＩｎＡｓバッファ層の膜厚を１μｍ以上として化合物半導体素子を構成する。 - 特許庁

The transparent resin film with the pressure-sensitive adhesive layer includes the first transparent resin film, the oligomer blocking layer, and the pressure-sensitive adhesive layer laminated in this order, wherein the oligomer blocking layer is made of a curing product of alkoxysilane and/or a partial condensate thereof, and the oligomer blocking layer has a thickness of 5-35 nm.例文帳に追加

第一透明樹脂フィルム、オリゴマー防止層および粘着剤層がこの順に積層されている粘着剤層付き透明樹脂フィルムであって、前記オリゴマー防止層は、アルコキシシランおよび／またはその部分縮合物の硬化物により形成されたものであり、かつ前記オリゴマー防止層の厚みが５〜３５ｎｍである。 - 特許庁

In the organic electroluminescent element having at least a layer of organic layer containing an emission layer between a pair of electrodes, the emission layer contains at least a microcrystal that is a type of emission material and at least a type of host material, and a plurality of microcrystals are present in the thickness direction of the emission layer.例文帳に追加

一対の電極間に、発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、発光層は、少なくとも一種の発光材料である微結晶と、少なくとも一種のホスト材料とを含有し、かつ発光層の厚み方向に微結晶が複数個存在する有機電界発光素子。 - 特許庁

The laminated film formed by laminating films of at least two layers of a light transmission layer and an adhesion layer has 30 to 300 μm film thickness, film thickness accuracy within ±2.0 μm and ≥78% light transmittance at 405 nm.例文帳に追加

光透過層及び粘着層の少なくとも２層のフィルムが積層された積層フィルムであり、積層フィルムの膜厚が３０〜３００μｍ、膜厚精度が±２．０μｍ以内、かつ、４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The laminate for a wiring board comprises a metal foil layer having thickness of 7-15 μm and a tensile modulus of ≤40 GPa at 25°C in one side or both sides of a polyimide insulating layer having thickness of 10-15 μm and a tensile modulus of ≤5 GPa at 25°C.例文帳に追加

２５℃における引張弾性率が５ＧＰａ以下であり厚さ１０〜１５μｍのポリイミド絶縁層の片側又は両側に、２５℃における引張弾性率が４０ＧＰａ以下であり厚さ７〜１５μｍの金属箔層を設けた配線基板用積層体。 - 特許庁

In such a flexible fluid transport pipe, the thickness of the metallic tape wound inside among the metallic tapes of the reinforcing layer 3 is thickened more than the thickness of the metallic tape wound outside in response to the stress actually applied to the metallic tapes of the inner-outer layers of the reinforcing layer 3.例文帳に追加

そのような可撓性流体輸送管において、補強層３の内外層の金属テープに実際にかかる応力に対応させて、補強層３の金属テープの内、内側に巻いた金属テープの厚さを、外側に巻いた金属テープの厚さより厚くする。 - 特許庁

In the evernescent wave exciting fluorescence observation, a liquid layer thickness adjusting member comprising a light transmitting plate-like object is placed on the probe solution in a reaction tank provided on a waveguide substrate and the thickness of the probe solution layer is reduced to reduce background light.例文帳に追加

エバネッセント波励起蛍光観察において、導波路基板上に設けた反応槽中のプローブ溶液上に、光透過性の板状体からなる液層厚調整部材を載置し、プローブ溶液層の厚みを薄くすることにより背景光を低減する。 - 特許庁

The organic transistor 10 has an organic semiconductor layer 14 formed by the droplet coating method, having a portion of more than 50 nm in film thickness; and a channel region 17 selectively formed in a portion of the organic semiconductor layer 14, having a film thickness of 50 nm or less.例文帳に追加

液滴塗布法で形成され、膜厚が５０ｎｍを越える部位を有する有機半導体層１４を有し、チャネル領域１７が、有機半導体層１４中の、膜厚が５０ｎｍ以下の部位に選択的に形成されている有機トランジスタ１０。 - 特許庁

In a developing cartridge 16, a layer thickness regulating member 24 includes: a blade 100 configured to regulate a layer thickness of toner on the outer circumferential surface of a developing roller 22 by contacting the outer circumferential surface of the developing roller 22; and a support member 101 supporting the blade 100.例文帳に追加

現像カートリッジ１６において、層厚規制部材２４は、現像ローラ２２の外周面に接触することによって現像ローラ２２の外周面上のトナーの層厚を規制するブレード１００と、ブレード１００を支持する支持部材１０１とを含んでいる。 - 特許庁

The oxygen composition ratio of the diffusion prevention layer 12a is higher than that of the photodiode electrode 12 in the center of a film thickness direction, or the zinc composition ratio of the diffusion prevention layer 12a is higher than that of the photodiode electrode 12 in the center in the film thickness direction.例文帳に追加

拡散防止層１２ａは、フォトダイオード電極１２の膜厚方向の中央の酸素組成比よりも高い酸素組成比を有する、若しくは、フォトダイオード電極１２の膜厚方向の中央の亜鉛組成比よりも高い亜鉛組成比を有する。 - 特許庁

The optical distance between an anode 10 and a cathode 24 including a red luminous layer 16 and a blue luminous layer 18 or the like and the thickness including the anode 10 of the light emitting element are made such a thickness in which the red light and the blue light can be reinforced by interference.例文帳に追加

発光素子の赤色発光層１６，青色発光層１８などを合わせたアノード１０とカソード２４との間の光学距離と、アノード１０を合わせた厚みを、干渉により赤色および青色の光を干渉によって増強できる厚さとする。 - 特許庁

The ratio of the layer thickness between the surface and back layers is desirably within a range 1/9-1/3 in a case that the multilayered sheet consists of two layers, and the thickness ratio of the surface/back/covering layers is desirably 1/8/1 to 1/3/1 in such a case that the layer consists of 3 layers.例文帳に追加

多層シートが２層構成の場合には、層の厚さ比が、表層／裏層＝１／９〜１／３の範囲内であることが好ましく、３層構成の場合には、層の厚さ比が、表層／裏層／被覆層＝１／８／１〜１／３／１の範囲内であることが好ましい。 - 特許庁

To provide an optical pickup system having compatibility to a plurality of optical disks different in standard of protective layer thickness, and a large operation distance and good aberration characteristics even when a disk protective layer thickness is applied to a relatively thick disk.例文帳に追加

規格の異なる複数の保護層厚の光ディスクに互換性を有する光ピックアップ光学系において、ディスク保護層厚が相対的に厚いディスクに適用する場合にも大きな作動距離と良好な収差特性を持つ光ピックアップ光学系を提供すること。 - 特許庁

To provide a nonmagnetic single component developer having high fluidity of the developer which prevents deposition of the toner on a layer thickness regulating blade or a developer carrying roller and which can form a uniform toner layer thickness without addition of a large amount of silica or without using a spherical toner.例文帳に追加

多量のシリカの添加、及び球形トナーの使用もなく、現像剤の流動性が高く、かつ層厚規制ブレードや現像剤搬送ローラへのトナーの固着を防止して、トナー層厚を均一化することが可能な非磁性一成分現像剤を提供すること。 - 特許庁

It is desirable that the high refractive index layer has a refractive index of 1.63-2.03 nm in a light wavelength of 400 nm and the film thickness of 40-99 nm, and that the low refractive index layer has a refractive index of 1.33-1.53 in a light wavelength of 400 nm and the film thickness of 5-100 nm.例文帳に追加

高屈折率層は光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．６３〜２．０３、膜厚が４０〜９９ｎｍであり、低屈折率層は光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３、膜厚が５〜１００ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a material suitable for a transparent protective film, a method of manufacturing a color filter, and the color filter, concerning a multi-gap type liquid crystal display device having different layer thickness of a liquid crystal layer in each color by making a film thickness of color pixel of a color filter substrate different.例文帳に追加

カラーフィルタ基板の色画素の膜厚を異ならせる事により各色ごとに液晶層の層厚が異なるマルチギャップ方式の液晶表示装置において、好適な透明保護膜用材料およびカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

The concentration of the metal element changes in the thickness direction of the negative electrode active material layer 21B, and a metal element increase/decrease region in which the concentration of the metal element increases and then decreases in thickness direction exists inside the negative electrode active material layer 21B.例文帳に追加

金属元素の濃度は負極活物質層２１Ｂの厚み方向において変化しており、負極活物質層２１Ｂの内部には、金属元素の濃度が厚み方向において増加したのち減少する金属元素増減領域が存在している。 - 特許庁

The display device further has a first spacer 4 which keeps thickness of an adhesion resin layer 3 for adhering the display panel 1 to the parallax barrier panel 2 constant and a second spacer 8 which keeps the cell thickness of the liquid crystal layer 7 constant and the first spacer 4 is arranged on the second spacer 8.例文帳に追加

さらに、表示パネル１と視差バリアパネル２とを接着する接着樹脂層３の厚みを一定に保つ第一スペーサー４と、液晶層７のセル厚を一定に保つ第二スペーサー８とを備え、第一スペーサー４は、第二スペーサー８上に配置されている。 - 特許庁

The conductive material has a Cu-Sn alloy covering layer which contains a Cu of 20 to 70at% and has an average thickness of 0.2 to 3.0 m, and an Sn covering layer having an average thickness of 0.2 to 5.0 μm formed formed in this order on the surface of a base material composed of a Cu plate strip.例文帳に追加

Ｃｕ板条からなる母材の表面に、Ｃｕ含有量が２０〜７０ａｔ％で平均の厚さが０．２〜３．０μｍのＣｕ−Ｓｎ合金被覆層と平均の厚さが０．２〜５．０μｍのＳｎ被覆層がこの順に形成された導電材料。 - 特許庁

To provide a three dimensional fabric able to suppress loosening of yarns constituting each layer even when a yarn in the thickness direction serving to bind each layer constituting the three dimensional fabric is broken, and enhance cushioning properties (elasticity) in the thickness direction.例文帳に追加

三次元織物を構成する各層を結合する役割を果たす厚さ方向糸が切れても、各層を構成する糸がばらばらになるのを抑制することができ、厚さ方向のクッション性（弾力性）を高めることができる三次元織物を提供する。 - 特許庁

The superconductor 100 is composed of a superconducting layer 2 having a thickness of 0.75 μm to 3.0μm, formed by applying not less than three times film formation on the base layer 1, where the thickness of the superconducting film at every film formation is 0.3 μm or smaller.例文帳に追加

下地層１に３回以上の成膜により層厚が０．７５μｍ〜３．０μｍの超電導層２が形成されている超電導体１００であって、各回の成膜における超電導膜の膜厚が０．３μｍ以下である超電導体１００。 - 特許庁

A halftone/shading layer 2 consisting of a zirconium oxide film having the same film thickness as the film thickness of shading regions is formed by reactive sputtering, etc., on a transparent substrate 1 and is subjected to a patterning treatment by dry etching, etc., by which the shading regions 2a and a translucent layer 2c is formed.例文帳に追加

透明基板１上に遮光領域膜厚と同じ膜厚を有する酸化ジルコニウム膜からなるハーフトーン兼遮光層２を反応性スパッタ等で形成し、ドライエッチング等にてパターニング処理して遮光領域２ａ及び半透明層２ｃを形成する。 - 特許庁

To provide a development device which has not density irregularity caused by fixing to a layer thickness regulating member or defective follow-up during whole solid printing because a load of a toner in a container is concentrated near a development roller as it is, and the toner does not flow and retains near the layer thickness regulating member.例文帳に追加

容器内トナーの荷重がそのまま現像ローラ付近に集中し、トナーが流動せず層厚規制部材付近に滞留してしまい、層厚規制部材に固着もしくは全ベタ印刷時に追従不良による濃度ムラのない現像装置を提供する。 - 特許庁

In this metal pattern forming method, a plating layer with a thickness of 1 μm or smaller is formed on the surface of the silver thin film pattern formed on a support using a neutral or basic copper plating bath and electroplating for a thickness increase is further applied to the surface of the plating layer.例文帳に追加

支持体上に形成された銀薄膜パタン上に中性、あるいは塩基性の銅めっき浴により厚さ１μｍ以下のめっき層を形成した後、さらに厚付のための電解めっきすることを特徴とする金属パタンの形成方法。 - 特許庁

This polarizing beam splitter 100A has a structure constituted by sandwiching the first parallel flat plate layer 106A having the polarizing separation function, thickness t_106A, and refractive index N_106A and the second parallel flat plate layer 108A having thickness t_108A and refractive index N_108A in between glass prisms 102, 104 having refractive index Np.例文帳に追加

偏光ビームスプリッタ１００Ａは、偏光分離機能を持つ厚みｔ_106A ，屈折率Ｎ_106A の第１平行平板層１０６Ａと、厚みｔ_108A ，屈折率Ｎ_108A の第２平行平板層１０８Ａを、屈折率Ｎｐのガラスプリズム１０２，１０４に挟み込んだ構造にする。 - 特許庁

intervals of a direction orthogonal to the film thickness direction from side faces 30a, 30b of the main pole 30 to the shielding layer 77 are set larger than an interval of the film thickness direction from the top face 30c of the main pole 30 to the shielding layer 77.例文帳に追加

さらに前記主磁極３０の側面３０ａ，３０ｂから前記シールド層７７までの膜厚方向と直交方向の間隔が、前記主磁極３０の上面３０ｃから前記シールド層７７までの膜厚方向の間隔よりも大きく形成される。 - 特許庁

Connection terminals 4 of the image display panel 2 are arranged in rectangular frame shape or in parallel, and the thickness of the binder layer 8 of an ACF 6 at four corners of the connection terminals 4 is made thicker than the thickness of the binder layer 8 at a part other than the four corners (Fig.1C).例文帳に追加

画像表示パネル２の接続端子４は矩形枠状もしくは並列に配置されており、その接続端子４群の四隅におけるＡＣＦ６のバインダ層８の厚さを、その四隅以外の部分のバインダ層８の厚さよりも厚くする（図１Ｃ）。 - 特許庁

The picture element region has a transmission region T and a reflection region R performing a transmission mode and a reflection mode, respectively, and thickness dr of the liquid crystal layer 30 in the reflection region R is thinner than the thickness dt of the liquid crystal layer 30 in the transmission region T.例文帳に追加

絵素領域は、透過モードと反射モードの表示を行う透過領域Ｔと反射領域Ｒとを有し、反射領域Ｒ内の液晶層３０の厚さｄｒは、透過領域Ｔ内の液晶層３０の厚さｄｔよりも小さい。 - 特許庁

The glossy film is characterized by having a compression thickness of 12μm or more when 32.0 kgf/cm^2 load is applied in the thickness direction, and a glossy layer (B) in at least one surface of a base layer (A) composed of a thermoplastic resin having a porosity of 10 to 60%.例文帳に追加

肉厚方向の３２ｋｇｆ／ｃｍ^2荷重負荷時の圧縮厚さが１２μｍ以上であり、空孔率が１０〜６０％である熱可塑性樹脂よりなる基層（Ａ）の少なくとも片面に光沢層（Ｂ）を有することを特徴とする光沢フィルム。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display panel in which a fluorescent substance layer of a prescribed thickness can be formed on the whole display panel, and a variation in the electrical property of the display panel caused by a variation in the thickness of the fluorescent substance layer can be reduced, and to provide a screen panel.例文帳に追加

所定の膜厚の蛍光体層をディスプレイパネル全面にわたって形成でき、蛍光体層の膜厚の変動によるディスプレイパネルの電気特性のばらつきを低減することができるディスプレイパネルの製造方法及びスクリーン版を提供する。 - 特許庁

The concentration of the metal element changes in the thickness direction of the negative electrode active material layer 21B, and a metal element increase and decrease region in which the concentration of the metal element increases and, then, decreases in thickness direction exists inside the negative electrode active material layer 21B.例文帳に追加

金属元素の濃度は負極活物質層２１Ｂの厚み方向において変化しており、負極活物質層２１Ｂの内部には、金属元素の濃度が厚み方向において増加したのち減少する金属元素増減領域が存在している。 - 特許庁

In the molded multilayer ceramic electronic component, the thickness T1 of an ineffective layer is 30 to 200 μm and the thickness T2 of a resin so formed as to be adjacent to the ineffective layer outside it is in a range of 100 and 700 μm.例文帳に追加

本発明のモ−ルド型積層セラミック電子部品は、無効層の厚みＴ１が３０〜２００μｍであり、且つ無効層の外側に隣接するように形成された樹脂の厚みＴ２が１００〜７００μｍの範囲内にあることを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a measuring technique for the film thickness of the antireflective layer of an antireflective film capable of measuring continuously the film thickness of the antireflectve layer over the full width of a film during driving condition of a film under manufacturing of an antireflective film.例文帳に追加

本発明は、反射防止フィルムの製造中、フィルム走行状態でフィルム全巾にわたり連続的に反射防止層の膜厚を測定することが可能な、反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A first light shielding area that regulates a display area is arranged on a light transmission substrate, a cell thickness adjustment layer is provided on the substrate and a second light shielding area that regulates boundaries of a plurality of pixel areas is arranged on the cell thickness adjustment layer in the display area.例文帳に追加

透光性基板上に表示領域を規定する第１の遮光領域が配置され、表示領域内においては基板上にセル厚調整層が設けられ、その上に複数の画素領域の境界を規定する第２の遮光領域が設けられる。 - 特許庁