「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereafter, the silicon germanium crystalline layer 3 is polished by a CMP method, to make the thickness suitable for device formation.例文帳に追加

その後、デバイス形成に適した膜厚となるようシリコンゲルマニウム単結晶層３を化学機械的研磨法を用いて研磨する。 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING THICKNESS OF AMORPHOUS LAYER OF SAMPLE FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE AND METHOD FOR PREPARING SAMPLE FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

透過型電子顕微鏡用試料のアモルファス層の厚さ評価方法および透過型電子顕微鏡用試料の作製方法 - 特許庁

The separator layer 3 is formed in a thickness of 1 μm from a coating liquid containing amorphous titanium oxide by a spray coating method.例文帳に追加

セパレーター層３は、アモルファス型酸化チタンを含有する塗布液をスプレーコーティング法によって膜厚１μｍで形成する。 - 特許庁

The resistance is improved by using a filter for the display which has a specific Young's modulus and a transparent resin layer with specific thickness.例文帳に追加

特定のヤング率と特定の厚みの透明樹脂層を有するディスプレイ用フィルタを用いることで、耐衝撃性が向上する。 - 特許庁

The optical compensation layer has such wavelength dispersion characteristics that the longer the wavelength is, the smaller the retardation Rth in the thickness direction is made.例文帳に追加

光学補償層は、その厚み方向位相差Ｒｔｈが長波長ほど小さくなる波長分散特性を満足する。 - 特許庁

As for the second sheath layer 6, polyamide-ethylene-vinyl alcohol copolymer is used, and the thickness is set up in the range of 10 μm to 0.5 mm.例文帳に追加

第２シース層６には、ポリアミド、エチレン・ビニルアルコール共重合体を用い、厚さを１０μｍ〜０．５ｍｍの範囲に設定する。 - 特許庁

The film thickness of the wavelength conversion layer inclines at least in its peripheral part region and becomes thinner as it approaches end part.例文帳に追加

波長変換層の膜厚は、少なくともその周縁部領域において傾斜し、端部に近づくにつれ薄くなっている。 - 特許庁

The second oxide semiconductor layer 543 is composed of a Zn oxide semiconductor, and has a thickness within a range of 0.1-1.0 nm.例文帳に追加

第２の酸化物半導体層５４３は、Ｚｎ酸化物半導体よりなり、０．１〜１．０ｎｍの範囲内の厚みを有している。 - 特許庁

The first oxide semiconductor layer 542 is composed of a Ga oxide semiconductor, and has a thickness within a range of 0.5-2.0 nm.例文帳に追加

第１の酸化物半導体層５４２は、Ｇａ酸化物半導体よりなり、０．５〜２．０ｎｍの範囲内の厚みを有している。 - 特許庁

In the semiconductor substrate, an Si_1-xGe_x epitaxial layer in a thickness of approximately 100 nm is grown on the Si substrate.例文帳に追加

半導体基板は、例えばＳｉ基板上に、厚さが１００ｎｍ程度のＳｉ_1-xＧｅ_xエピタキシャル層を成長させたものである。 - 特許庁

The periphery of the second metal layer 22 is retreated to the inner side from the periphery of the pad 11P by an equal amount to the thickness thereof.例文帳に追加

第２の金属層２２の周縁部は、その厚さと同じ分だけ、パッド１１Ｐの周縁部から内側に後退している。 - 特許庁

To obtain a contact having an alloy layer containing a large amount of Cr having a prescribed thickness provided on a base place having excellent conductivity.例文帳に追加

導電率のよいベース板に、所定の厚さを有するＣｒを多量に含有した合金層を設けた接点を得る。 - 特許庁

To accurately control the thickness and electrical characteristics of each layer of a substrate simultaneously when the number of manufacturing steps of a multilayer substrate is reduced.例文帳に追加

多層基板の製造工程数を減少させると同時に、基板各層の厚さ及び電気的特性を正確に制御する。 - 特許庁

PREPARATION OF PEARL LUSTROUS SYNTHETIC PAPER OF BIAXIALLY ORIENTATED POLYPROPYLENE(BOPP) WITH THICKNESS OF 25-250 MICRON OBTAINED BY THREE-LAYER COEXTRUSION SYSTEM例文帳に追加

三層共押出方式で得られる厚み２５〜２５０ミクロン二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）パ—ル光沢合成紙の製造方法 - 特許庁

The outer layer may have a thickness of at least 20 mils (about 0.51 mm) and may be molecularly bonded to the skirt.例文帳に追加

この外層は少なくとも２０ミル（約０．５１ｍｍ）の厚さを有することができ、スカートに分子間結合させることができる。 - 特許庁

There is provided a device for measuring toner layer thickness, wherein a light source 801 emits light to a toner image, and a line sensor 804 detects light reflected from the toner image.例文帳に追加

光源８０１は、トナー像に対して光を照射し、ラインセンサ８０４は、トナー像からの反射光を検出する。 - 特許庁

It is desirable that the ceramic layer 22 has the thickness not less than 5 μm and the Vickers hardness not less than 700 kg/mm2.例文帳に追加

セラミックス層２２は、５０μｍ以上の厚みおよび７００ｋｇ／ｍｍ^2以上のビッカース硬度を有することが好ましい。 - 特許庁

In the filter membrane, the separator layer 4 includes the thickness gradient decreasing in the flow direction (f) of the fluid to be treated.例文帳に追加

本発明によれば、前記セパレータ層（４）が、処理されるべき流体の流れ方向（ｆ）に減少する厚さ勾配を有している。 - 特許庁

Then, the sealing resin layer 7 is formed on the passivation film 3 to have a thickness larger than the height of the post 8.例文帳に追加

次に、パッシベーション膜３上に、封止樹脂層７がポスト８の高さよりも大きい厚さを有するように形成される。 - 特許庁

The rubber sheet 21 comprises the surface rubber layer 0.15-0.40 in loss tangent tanδ and 0.4-3.0 mm in thickness.例文帳に追加

ゴムシート２１は、損失正接ｔａｎδが０．１５〜０．４０で、かつ厚みが０．４〜３．０ｍｍである表面ゴム層を備える。 - 特許庁

The copper filament 12 is penetrated to the nitride region 13 from the copper layer 11 in the film-thickness direction and reaches on the top face of the nitride region 13.例文帳に追加

この銅フィラメント１２は、銅層１１から窒化物領域１３を膜厚方向に貫通してその上面に達する。 - 特許庁

A thermoactive adhesive agent layer 323 has a thickness of 10 micron to 200 micron, and surface roughness of 10 micron or less.例文帳に追加

熱活性接着剤層３２３は、１０ミクロンから２００ミクロンの厚みを有し、且つ１０ミクロン以下の表面粗さを有する。 - 特許庁

To form a liquid developer on the surface of a developing roller into a thin layer of stable thickness even when the temperature of the inside of the apparatus changes.例文帳に追加

装置内部の温度が変化した場合であっても現像ローラ表面の現像液を安定した厚みで薄層化させる。 - 特許庁

Thereby, the layer 24b is polished down to the thickness of the member 14, with the surfaces of the material 21 as a reference.例文帳に追加

これにより、基材２１の表面を基準として、絶縁樹脂層２４ｂを研磨ストッパ部材１４の厚さまで研磨する。 - 特許庁

Further, the content of Al2O3 in the first coat layer 1 is controlled to ≥95%, thickness to 50 to 300 μm, and porosity to ≤15%.例文帳に追加

また、第１コート層１のＡｌ_2Ｏ_3含有率を９５％以上、厚みを５０〜３００μm、気孔率を１５％以下とする。 - 特許庁

To provide a novel method of manufacturing a high density printed circuit board capable of removing a core insulating layer having an inevitable thickness.例文帳に追加

必然的な厚さを有する絶縁層コアを除去することが可能な新規のプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Because the multilayered dielectric layer 3 is formed through stacking, it can be formed with variations in thickness suppressed, and turbulence of the electric field can be prevented.例文帳に追加

多層の誘電体層３を堆積形成するので、厚さのばらつきを抑えて形成でき、電界の乱れを防げる。 - 特許庁

There are set method steps for measuring the thickness of the liquid layer 12 with the use of measuring devices 20, 20' and 20" in a printing machine.例文帳に追加

印刷機において測定装置２０，２０′，２０′′を用いて液体層１２の厚さを測定する方法ステップを有している。 - 特許庁

Further, the thickness of a residual film δ of the n-type contact layer 102 in a recess D on the back of a crystal growth substrate may be about Λ/2.例文帳に追加

また、結晶成長基板裏面の凹部Ｄにおけるｎ型コンタクト層１０２の残存膜厚δはΛ／２程度で良い。 - 特許庁

And, by providing the transparent thin-film layer 5, a reflection factor can be reduced further by adjusting an refractive index and a film thickness.例文帳に追加

また、透明薄膜層５を設け、屈折率と膜厚を調整することにより反射率を極めて小さくすることができる。 - 特許庁

The clad layers 22 and 26 comprise a material with a refractive index lower than that of the active layer 24, and they have a thickness of 2 μm or larger.例文帳に追加

クラッド層２２および２６は、活性層２４よりも屈折率が低い材料からなり、厚さが２μｍ以上である。 - 特許庁

A Si layer 4c is formed into a thickness of a few μm to a few tens of μm so that the light from the top surface can pass therethrough.例文帳に追加

Ｓｉ層４ｃは、上面からの光を透過可能なように数μｍ〜数１０μｍ程度の厚さに形成されている。 - 特許庁

To provide a spin coating device which is simple in structure and capable of forming a chemical coating layer of uniform thickness on a wafer.例文帳に追加

スピンコーティング装置において、複雑な構造を伴うことなく、均一な膜厚の薬液コーティング層をウェーハ上に形成する。 - 特許庁

The luster adjusting resin layer either can be of uniform thickness or can be partially formed in a pattern shape to represent an uneven surface design.例文帳に追加

艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁

To improve the characteristic by suppressing the occurrence of a pyroelectric effect of a piezo-electric thin film layer by external light while keeping the small size and small thickness.例文帳に追加

小型・薄型化を保持して外部光による圧電薄膜層の焦電効果の発生を抑制して特性向上を図る。 - 特許庁

To enable the thickness of an ink layer to be preset in an inking unit of a printer so that waste sheets can be reduced to the utmost.例文帳に追加

印刷機のインキ装置でのインキ層厚を、できるだけ少ない損紙しか生じないように予め設定できるようにする。 - 特許庁

To provide a recording medium which can obtain high output and also has low medium noise, even if the thickness of a magnetic layer is made thin.例文帳に追加

磁性層の厚みを薄くしても、高出力を得ることができ、かつ媒体ノイズも低い磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

Further, the preferable average particle diameter of the filler 5 is equivalent to 30 to 100% of the thickness of the water-resistant resin layer 3.例文帳に追加

充填剤５の平均粒子径としては耐水樹脂層３の厚みの３０％以上１００％以下が好ましい。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having an intermediate layer and a photosensitive layer in this order on a support, the intermediate layer has a thickness of 0.3-5 μm and contains an organic electron transport material and the photosensitive layer contains a high molecular weight hole transport material.例文帳に追加

支持体上に、中間層、感光層をこの順に有する電子写真感光体において、該中間層の膜厚が０．３〜５μｍであり、該中間層が有機電子輸送物質を含有し、該感光層が高分子量正孔輸送物質を含有する。 - 特許庁

To provide a light-emitting element with small distortion occurring at the interface with an organic material layer and a second conductive layer arranged on it, in which thickness of the light-emitting layer is maintained uniformly and loss of conductivity of the second conductive layer can be suppressed.例文帳に追加

有機材料層とその上に配される第二導電層との界面に生じる歪みが小さく、発光層の厚みが均一に保持されるとともに、第二導電層が有する導電性の損失も抑制することが可能な発光素子を提供する。 - 特許庁

After forming a material amorphous layer comprising a tin oxide (SnO_2) having the thickness of 10-30 nm or the like on an insulating substrate 1, the amorphous layer is polycrystallized by rapid heating processing, to thereby form a metal oxide semiconductor fine crystal layer 3 which is a gas sensitive layer.例文帳に追加

絶縁性基板１に、厚さ１０〜３０ｎｍの、酸化スズ（ＳnＯ_2）などからなる材料非晶質層を形成した後、この非晶質層を急速加熱処理によって多結晶化して、ガス感応層である金属酸化物半導体微結晶層３を形成する。 - 特許庁

Further, the electrode contains 10-90 mass % ceramic layer and 90-10 mass % metallic binder layer, and at least the uppermost surface layer having 10 μm thickness of the coating layer is coated with the oxides of the metallic phase or metallic binder phase.例文帳に追加

更に、セラミックス相を１０〜９０質量％含有し、金属結合相を９０〜１０質量％含有する不溶性電極であり、被覆層の少なくとも最表層１０μｍの範囲が金属相または金属結合相の酸化物で被覆されていること。 - 特許庁

A method of producing the silicon-based material layer comprises: a process of forming an amorphous layer having a specified thickness on a silicon-based substrate; a process of doping the amorphous layer with a specified metal ion; and a process of annealing the amorphous layer doped with the metal ion.例文帳に追加

また、Ｓｉベースの基板に所定厚さの非晶質層を形成する工程と、非晶質層に所定の金属イオンをドーピングする工程と、金属イオンがドーピングされた非晶質層をアニーリングする工程とを含むＳｉベースの物質層の製造方法である。 - 特許庁

A piezoelectric layer 22 laminated on recessed groove parts 19a formed in a second insulating layer 19 is formed with stepped parts 22a stepped down with a level difference deeper than the layer thickness d1 of the piezoelectric layer 22 in a flow direction A so as to be divided in stages.例文帳に追加

第２絶縁層１９に形成された凹溝部１９ａに積層された圧電体層２２には、前記流れ方向Ａにおいて圧電体層２２の層厚ｄ１より深い段差で段落ちした段差部２２ａがそれぞれ形成されて段分けされている。 - 特許庁

In preferable embodiments, the anodic oxide coating is formed after etching in an acid solution of ≤pH 5 and the film has 3 to 12 μm film thickness; and the photosensitive layer comprises a charge generating layer and a charge transport layer deposited on the charge generating layer.例文帳に追加

ｐＨ５以下の酸溶液によるエッチング処理後に陽極酸化被膜が形成され、かつ、該陽極酸化被膜の膜厚が３〜１２μｍである態様、感光層が、電荷発生層と、該電荷発生層上に積層された電荷輸送層とからなる態様が好ましい。 - 特許庁