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layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13314件
In the polishing pad provided with a polishing layer on a substrate layer, the polishing layer includes a thermosetting polyurethane foam having approximately spherical open cells and is self-adhered to the substrate layer, and thickness is 0.5-1 mm.例文帳に追加
基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、前記基材層に自己接着しており、かつ厚さが0.5〜1mmであることを特徴とする研磨パッド。 - 特許庁
The adhesive sheet for protecting the rear surface of the solar cell module includes a base material layer made of a synthetic resin and an adhesive layer stacked on the rear-surface side of the base material layer, where the average thickness of the adhesive layer ranges from not less than 0.01 mm to not more than 1 mm.例文帳に追加
本発明は、合成樹脂製の基材層と、この基材層の裏面側に積層される粘着剤層とを備え、この粘着剤層の平均厚さが0.01mm以上1mm以下である太陽電池モジュール裏面保護用粘着シートである。 - 特許庁
To provide an image forming body having an image inside a transparent layer suitable for preventing forgery and displaying the image in the thickness direction of the transparent layer by transmitting light inside the transparent layer in a direction parallel to the surface of the transparent layer.例文帳に追加
透明層内部に画像を有する偽造防止に適した画像形成体であって、透明層の内部を該透明層の表面と平行な方向に光を通すことにより、透明層の厚さ方向に画像を表示できる画像形成体を提供すること。 - 特許庁
To provide an absorptive article including a back flap having a flap absorbing layer, reducing the thickness of the flap absorbing layer, improving the liquid retentivity of the flap absorbing layer, and reducing a liquid return in the flap absorbing layer.例文帳に追加
フラップ吸収層を備えた後方フラップを有する吸収性物品において、フラップ吸収層の厚みを薄くし、フラップ吸収層の液保持性を高くし、フラップ吸収層における液戻りを少なくすることができる吸収性物品を提供すること。 - 特許庁
The outer peripheral surface of the roll substrate is clad with the Ni layer, then the Cr layer by plating and is then heat treated for ≥2 hours at ≥500°C, by which a Cr-Ni alloy region of 25 to 75 atomic % in Cr content is formed at the boundary between the Cr layer and the Ni layer at a thickness above 1 μm.例文帳に追加
ロール基体の外周面にNi層と次にCr層をめっきにより被覆した後、500 ℃以上の温度で2時間以上の熱処理を行って、Cr層とNi層との界面に、Cr含有量が25〜75原子%のCr−Ni合金領域を1μm以上の厚さで形成する。 - 特許庁
The graphite layer 3 is formed like a sheet by pressing the expanding graphite with the roller, and the dissipation layer 5 is formed as a silica layer with a thickness of approximately 100 nm by sputtering the silica on the surface of the graphite layer 3 in the oxygen ambient atmosphere.例文帳に追加
グラファイト層3は、膨張黒鉛をローラでプレス圧延することによりシート状に形成され、放熱層5は、グラファイト層3の表面に酸素雰囲気中でケイ素をスパッタリングすることにより、厚さ約100nmの二酸化ケイ素の層として形成されている。 - 特許庁
Thereafter, the curing means is selectively applied to the layer of the polymerizable liquid 11 in order to cure a part of the polymerizable liquid 11 adjusted to desired layer thickness by sweeping to form the next layer of the three-dimensional matter 40 on the previously formed layer of the matter 40.例文帳に追加
その後、所望の層厚に掃引された重合性液体11の一部を硬化させるために、重合性液体11の層に硬化手段を選択的に施すことにより、三次元物体40の次の層を物体40の先に形成された層の上に形成する。 - 特許庁
The membrane electrode assembly (MEA) for a fuel cell is formed by laminating a gas diffusion layer for anode 101, a catalyst layer for anode 102, an ion conductive membrane 103, a catalyst layer for cathode 104, and a gas diffusion layer for cathode 105 in order in the thickness direction.例文帳に追加
燃料電池用膜電極接合体(MEA)は、アノード用ガス拡散層101、アノード用触媒層102、イオン伝導体膜103、カソード用触媒層104、カノード用ガス拡散層105を厚み方向に順に積層して形成されている。 - 特許庁
In the thermosensitive recording element comprising an undercoat layer and a thermosensitive recording layer sequentially laminated on a paper support, the layer thickness difference of the undercoat layer between the thickest part and the thinnest, is not more than 60 % of the intermediate value.例文帳に追加
紙支持体上に下塗層、感熱記録層を順次積層して成る感熱記録体において、該下塗層の層厚が、その最も厚い部分と最も薄い部分との差がその中間値に対し60%以内であることを特徴とする感熱記録体。 - 特許庁
This O-ring includes: a first rubber layer 11; and a second rubber layer 12 which has a friction coefficient smaller than that in the first rubber layer 11, is laminated on the first rubber layer 11 in a thickness direction and is exposed to at least one of an outer peripheral side and an inner peripheral side.例文帳に追加
第1ゴム層11と、該第1ゴム層11よりも摩擦係数が小さく、該第1ゴム層11に対して厚さ方向に積層されると共に、外周側及び内周側の少なくとも一方に露出した第2ゴム層12と、を有している。 - 特許庁
Since the thickness of the Cu-coated layer 3 is 5% or larger and 7% or smaller of the diameter of the resin core 2, stress at the interface between a Cu land 22a and the solder layer 4 and the interface between an Ni plated layer 13 of the circuit board 10 and the solder layer 4 is alleviated.例文帳に追加
Cu被覆層3の厚さは、樹脂コア2の直径の5%以上かつ7%以下であるので、Cuランド22aと半田層4との界面、および、回路基板10のNiめっき層13と半田層4との界面における応力が緩和される。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor having a middle layer and a photosensitive layer on an electrically conductive substrate, the middle layer contains at least titanium oxide particles and a binder resin and the thickness of the photosensitive layer is 7-20 μm.例文帳に追加
導電性支持体上に中間層、感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が少なくとも酸化チタン粒子及びバインダー樹脂を含有しており、該感光層の膜厚が7〜20μmであることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
A color filter layer (3) is provided on a substrate (2), and a retardation layer (4) having optical anisotropy and having an in-plane retardation and a thickness direction retardation and a light transmission layer (5) having optical isotropy are formed in order on each color pixel of the color filter layer.例文帳に追加
基板(2)の上にカラーフィルタ層(3)が設けられ、カラーフィルタ層の各色画素の上には、順に光学的異方性を有し面内位相差及び厚み方向位相差をもつ位相差層(4)・光学的等方性を有する光透過層(5)が形成されている。 - 特許庁
The LED operation layer 3, further, includes a space layer 12 which extends in a direction (direction parallel to the surface direction of the LED operation layer), orthogonal to the thickness direction in the first contact layer 4, in addition to a two-dimensional diffraction grating 10A comprising a plurality of recessed parts 11A.例文帳に追加
このLED動作層3は、複数の凹部11Aからなる2次元回折格子10Aの他に、第1のコンタクト層4において厚み方向と直交方向(LED動作層の面方向と平行方向)に延在する空間層12を有する。 - 特許庁
In the laminated body for image forming device 51 provided with at least a first layer 51a and a second layer 51b, it is constituted so that any difference in variation of size in the same direction of the first layer 51a and the second layer 51b due to a change in environment is smaller than the whole thickness.例文帳に追加
少なくとも第1の層51aと、第2の層51bと、を有する画像形成装置用積層体51は、環境変化による第1の層51aと第2の層51bの同一方向における寸法変化の差が総厚みよりも小さい構成とされる。 - 特許庁
Since the dielectric breakdown proofness of the lower insulating layer 30 and the upper insulating layer 33 increases, by making thin the thickness of the lower insulating layer 30 or the upper insulating layer 33, it becomes possible to narrow a shielding space K2, without causing dielectric breakdown.例文帳に追加
下部絶縁層30および上部絶縁層33の耐絶縁破壊性が向上するため、絶縁破壊を生じさせることなく下部絶縁層30や上部絶縁層33の厚みを薄くすることにより、シールド間隔K2を狭小化することが可能となる。 - 特許庁
The invention relates to the resin coated sheet including the sheet like supporting body with a resin layer and a blocking inhibiter layer sequentially layered on at least one side, wherein the glass transition temperature (Tg) of the resin layer is not more than +60°C, and the blocking inhibitor layer has a thickness of 0.1-20 μm.例文帳に追加
シート状支持体の少なくとも片面に樹脂層とブロッキング防止層を順次設けた樹脂塗工シートにおいて、前記樹脂層のガラス転移温度(Tg)が+60℃以下、且つ前記ブロッキング防止層の厚さが0.1〜20μmの構成とする。 - 特許庁
Namely, when the surface of a first mask layer and the side surface of the aperture part are covered with a second mask layer, the aperture area of the first recessed part is formed to be smaller than the aperture part because of the layer thickness of the second mask layer itself with which the side surface of the aperture part is covered.例文帳に追加
すなわち、第1マスク層の層上及び開口部の側面が第2マスク層で覆われると、第1凹部の開口面積は、開口部の側面を覆う第2マスク層自身の層厚によって、開口部よりも小さく形成されることになる。 - 特許庁
There is disclosed a laminated polyester film including a polyester film (a layer A) and a layer B disposed at least on one side thereof, with the thickness of the polyester film (the layer A) being from 0.5 to 10 μm and the number of surface defects on the layer B being not greater than 10 pieces/25 cm^2.例文帳に追加
ポリエステルフィルム(層A)の少なくとも片面に層Bを有する積層ポリエステルフィルムであって、ポリエステルフィルム(層A)の厚みが0.5μm〜10μmであり、層B側の表面欠点の数が10個/25cm^2以下である積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
There is provided the adhesive tape 5 for concrete curing, which comprises a base material layer 1 and an adhesive layer 2 prepared on one surface of the base material layer, wherein a maximum load F obtained by product of tear strength TR of the base material layer 1 and thickness t is 5-40 (N) in general.例文帳に追加
基材層1と、その一の面に設けられた粘着剤層2とからなり、基材層1の、引裂強さTRと厚さtとの積で求められる最大荷重Fが、概ね5〜40(N)であるコンクリート養生用粘着テープ5の提供による。 - 特許庁
In the fixing belt having a heat-resistant endless belt layer and a release layer formed on the surface, the release layer consists of a fluorocarbon resin layer having ≥13 Hv Vickers' hardness, ≤0.4 μm surface roughness (Ra) and ≥25 μm thickness.例文帳に追加
耐熱性エンドレスベルト層と表面に設けられた離型層とを有する定着ベルトにおいて、前記離型層が、ビッカース硬度13Hv以上、表面粗さ(Ra)0.4μm以下であり、厚さ25μm以上のフッ素樹脂層であることを特徴とする。 - 特許庁
When the thickness values of the conductive layer 35 before and after the heat treatment are set in the range, the black layer 34 and the conductive layer 35 can be stably applied and effectively utilized, so that pattern damage on the electromagnetic wave shielding layer can be suppressed and a surface resistance value can be reduced.例文帳に追加
導電層35の熱処理前後の厚さを係る範囲内に設定すれば、黒色層34と導電層35を安定に塗布して有効に両立させることができ、電磁波シールド層のパターン損傷を抑制防止して表面抵抗値を低減できる。 - 特許庁
A developing device applies potential difference between a developing roller 41 and a layer regulating member 12 that regulates the layer thickness of a developer layer formed on the developing roller 41 so as to suppress the occurrence of streaks due to deteriorated developer passing through the layer regulating member 12.例文帳に追加
現像ローラ41上に形成される現像剤層の層厚を規制する層規制部材12と、現像ローラ41との間に電位差を与えることにより、劣化した現像剤が層規制部材12をすり抜けることによるスジの発生を抑制する。 - 特許庁
The nonwoven fabric is provided with a film-like layer prepared by pressure bonding of fibers on the whole face in the direction intersecting at right angles to the thickness direction of the nonwoven fabric and a fiber layer containing fibers bonded with the above described film-like layer on one face or both faces of the above described film-like layer.例文帳に追加
本発明の不織布は、不織布の厚さ方向に対して直角方向全面に、繊維の圧着によるフィルム状の層を有し、前記フィルム状の層の片面又は両面に、前記フィルム状の層と接合した繊維を含む繊維層を備えている。 - 特許庁
In the resin covered metal tube formed by covering the outer peripheral surface of a metal tube with a resin layer, a rolling processed part consisting of a difference in level having thickness slightly thinner than that of a resin layer or impression or a rolling processed part consisting of a difference in level and impression is formed between a resin layer and a resin layer peeled part.例文帳に追加
金属管の外周面に樹脂層を被着してなる樹脂被覆金属管において、樹脂層と樹脂層剥離部との間に樹脂層より僅かに薄肉の段差部または圧痕、あるいは段差部と圧痕とからなるローリング加工部を設ける。 - 特許庁
This substrate for a multilayer printed board includes a first insulating layer 10 made of completely set resin having a secured thickness accuracy, an insulating layer 20 of a B stage made of semi-set resin, and a conductive layer 30 formed through sputtering on the first insulating layer 10.例文帳に追加
多層プリント基板用基材は、厚さ精度を確保した完全硬化樹脂よりなる第1の絶縁層10と、半硬化状態の樹脂よりなるBステ−ジの絶縁層20と、第1の絶縁層10にスパッタリングで形成した導電層30を備えている。 - 特許庁
The coefficient of thermal expansion of the metal which constitutes the interconnection layer 6 and the thickness of the interconnection layer 6 are so selected that the coefficient of thermal expansion on the surface of the interconnection layer 6 may close to that of the semiconductor element mounted on the surface of the interconnection layer 6.例文帳に追加
配線層6の表面における熱膨張係数が、配線層6の表面上に搭載される半導体素子の熱膨張係数に近い値となるように、配線層6を構成する金属の熱膨張係数と配線層6の厚さを選択する。 - 特許庁
In this panel, a protective layer 12 consisting of a nano-structure control film in which several thousands layers are laminated in one thin film with a thickness per layer of several nm to several tens nm is adhered to a phosphor layer 11 composed of a photostimulable phosphor through an adhesive layer 14.例文帳に追加
輝尽性蛍光体からなる蛍光体層11上に、1枚の薄いフィルム中の積層数が数千層であって、1層の厚さが数ナノ〜数十ナノメートルであるのナノ構造制御フィルムからなる保護層12を接着層14を介して接着する。 - 特許庁
The electrode comprises, at least, an electrode substrate and an electrode catalyst layer, the electrode catalyst layer being infiltrated into the electrode substrate to form the mixture layer, the mixture layer having a thickness of 20 μm or less.例文帳に追加
少なくとも、電極基材と電極触媒層とから構成される電極において、該電極基材の中に該電極触媒層が浸み込んで混合層を形成しているとともに、該混合層の厚さが20μm以下であることを特徴とする電極 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a wiring board in which the thickness of a conductive layer is substantially uniform on the wiring board which has a resin insulation layer; a field via which passes the layer and is formed by filling with plating; and the conductive layer formed thereon by plating.例文帳に追加
樹脂絶縁層と、これを貫通しメッキにより充填形成されたフィルドビアと、これらの上にメッキにより形成された導体層とを有する配線基板において、導体層の厚さがほぼ均一な配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
This power distribution member 10 is formed by bending and overlapping a sheet including a first layer formed of a first material and a second layer formed of a second material of which the electrical resistance is smaller than that of the first material and having the layer thickness thinner than that of the first layer.例文帳に追加
この配電用部材10は、第1材料により形成される第1層と、第1材料より電気抵抗が小さい第2材料により形成され、第1層より層の厚さが薄い第2層とを含むシートを曲げて重ねることで形成される。 - 特許庁
To provide a scattering layer consisting of a non-colored transparent resin layer by uniformly dispersing particulates having refractive indices different from one another and used as reflecting bodies in the scattering layer consisting of transparent resin and making the thickness and the surface of the transparent resin layer uniform and flat respectively.例文帳に追加
透明樹脂からなる散乱層中に、反射体として使用する屈折率の異なる微粒子を均一に分散させ、透明樹脂層の厚さを均一にしかも表面を平坦にして、無着色の透明樹脂層からなる散乱層を提供する。 - 特許庁
In an epitaxial layer 3, a plurality of trenches 6 which are dug from the surface of the epitaxial layer up to an N^-type region 4 by penetrating a body region 5 and in which gate electrodes 8 are buried are formed at a plurality of positions spaced in a direction orthogonal to the layer thickness direction of the epitaxial layer 3.例文帳に追加
エピタキシャル層3には、その層厚方向と直交する方向に間隔を空けた複数の位置に、その表面からボディ領域5を貫通してN^-型領域4まで掘り下がり、ゲート電極8が埋設されたトレンチ6が複数形成されている。 - 特許庁
The ferrite mixed resin layer is formed in such a way that 65-90% of weight ratio of a ferrite powder having a grain diameter of 1-190 μm is mixed with the same resin material as that of the outer resin layer to form the film layer of a thickness of about 0.1-0.5 mm thinner than the outer resin layer.例文帳に追加
フェライト混合樹脂層は、外側樹脂層と同一樹脂材料に対して粒径1〜190μmのフェライト粉体を重量比65〜90%に混合し、厚さを外側樹脂層よりも薄い0.1〜0.5mm程度の膜層とする。 - 特許庁
The pigment sensitized solar cell includes a semiconductor layer composed of a photoelectric conversion layer and a reverse electron injection preventing layer, wherein the photoelectric conversion layer is formed from a metal oxide semiconductor, and the surface roughness coefficient is between 100 and 3000 while the film thickness is between 1 and 50 μm.例文帳に追加
半導体層が光電変換層と逆電子注入防止層により構成され、光電変換層は金属酸化物半導体により成り、表面の粗さ係数が100以上3000以下で、膜厚が1μmから50μmである。 - 特許庁
This terminal is a terminal formed by successively laminating a nickel plating layer, copper plating layer, and tin plating layer on the surface of at least a contact portion of a base metal made of a copper alloy with a mating material, in which the thickness of the tin plating layer, is below 1.1 μm.例文帳に追加
銅合金製母材の少なくとも相手材との接触部の表面に、順次、ニッケルめっき層、銅めっき層及び錫めっき層を積層してなる端子であって、前記錫めっき層の厚みが1.1μm以下であることを特徴とする端子。 - 特許庁
The thickness and location of the resist layer region of photosensitivity with respect to the reflective layer are selected to include from within the interference pattern higher contrast portions of the interference pattern in the direction of the resist thickness, to exclude lower contrast portions of the interference pattern in the resist thickness direction from the resist layer region of photosensitivity, and to improve contrast of the aerial image in the resist layer region of photosensitivity.例文帳に追加
レジスト層の感光性領域での空中像のコントラストを向上させるため、レジスト層の感光性領域の反射層に対する厚さおよび位置は、干渉パターンのうち、レジスト層の厚さの方向において相対的にコントラストが高い干渉パターンの部分を含み、レジスト層の厚さの方向において相対的にコントラストが低い干渉パターンの部分を前記レジスト層の前記感光性領域から除外するように選択される。 - 特許庁
The three terminal-type magnetoresistance effect element includes: a first ferromagnetic layer; a second ferromagnetic layer having a larger magnetic coercive force than that of the first ferromagnetic layer; a nonmagnetic material of which the film thickness provided between the first ferromagnetic layer and the second ferromagnetic layer monotonously changes; and a gate electrode provided on the first ferromagnetic layer via a gate insulating film.例文帳に追加
第1の強磁性体層と、前記第1の強磁性体層より保磁力の大きな第2の強磁性体層と、前記第1の強磁性体層と前記第2の強磁性体層との間に設けられた膜厚が単調に変化する非磁性体と、前記第1の強磁性体層上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極とを設ける。 - 特許庁
The second epitaxial layer 13 is provided with an inclined layer 14 having the concentration of n-type impurities continuously lowered in the concentration of n-type impurities in the thickness direction from the first epitaxial layer 12, and a constant concentration layer 15 having the concentration of n-type impurities substantially equal to that of the surface of the inclined layer 14 on the surface side of the inclined layer 14.例文帳に追加
この第2のエピタキシャル層13は、第1のエピタキシャル層12側から厚さ方向に連続的にN型の不純物濃度が低められる傾斜層14と、この傾斜層14の表面側にこの傾斜層14の表面と略同一濃度のN型の不純物濃度を有する定濃度層15とを備えている。 - 特許庁
After sensing the electromagnetic wave r radiated by the processing layer 4 when so removing the insulation layer 2 by the laser L as to expose the processing layer 4, the thickness t of the insulation layer 2 are so calculated from the required number of shots of the laser L to remove the insulation layer 2 as to decide the distribution of the thicknesses t of the insulation layer 2 by comparing calculated values with a decision reference value.例文帳に追加
レーザLによる絶縁層2の除去によって処理層4が露出した時に該処理層4が放射する電磁波rを検出して、絶縁層2を除去するのに要したレーザLのショット数から絶縁層2の厚みtを算出し、判定基準値と比較することにより絶縁層2の厚みt分布を判定した。 - 特許庁
The organic electroluminescent element is equipped with a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer and an electron transport layer, in this order, in between an anode and a cathode, wherein the hole injection layer contains at least a conjugate compound and fluorine-containing polymer organic acid, and the hole injection layer has a film thickness of 0.1 nm-20 nm.例文帳に追加
陽極と陰極の間に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子輸送層を、この順で備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記正孔注入層が、少なくとも共役化合物と含フッ素ポリマー有機酸とを含み、前記正孔注入層の膜厚が、0.1nm〜20nmである有機エレクトロルミネッセンス素子である。 - 特許庁
A fluoroplastic coated metal plate is constituted so that a colored resin layer 2 and the fluoroplastic layer 4 provided on the surface of the colored resin layer 2 through a transparent adhesive layer 3 are provided on at least one surface 1a of a metal plate 1 and the thickness of the colored resin layer 2 is below 10 μm and the fluoroplastic layer 4 comprises perfluoro type fluoroplastic.例文帳に追加
金属板1の少なくとも一方の面1a上に、着色樹脂層2と、該着色樹脂層2の表面に透明な接着剤層3を介して設けられたフッ素樹脂層4とを有し、前記着色樹脂層2の厚みが10μm未満であるとともに前記フッ素樹脂層4がパーフルオロ型フッ素樹脂からなるフッ素樹脂被覆金属板。 - 特許庁
Alternatively, the photoelectric conversion element 1 includes the Mo electrode 20, an MoSe_2 layer 80 provided by selenizing the surface on the Mo electrode 20, and the photoelectric conversion semiconductor layer 30 containing Se provided on the MoSe_2 layer 80 after forming the MoSe_2 layer 80, wherein the layer thickness of the MoSe_2 layer 80 is 10-50 nm.例文帳に追加
あるいは、光電変換素子1を、Mo電極20と、このMo電極20上の表面をセレン化して設けられたMoSe_2層80と、このMoSe_2層80上の形成後にMoSe_2層80上に設けられたSeを含む光電変換半導体層30とを有し、MoSe_2層80の層厚が10nm以上50nm未満とする。 - 特許庁
The wiring board is manufactured by a method characterized in that an insulating resin layer covering a top layer wiring layer 4 containing a wiring, of which a part of thickness is larger than other part, is formed, and a part of the insulating resin layer is removed until the upper part of a thick portion 6 of the top layer wiring layer is exposed, to form a pad.例文帳に追加
一部の厚みが他の部分より大きい配線を含む最上層配線層4を覆う絶縁樹脂層を形成し、そしてこの絶縁樹脂層の一部を、最上層配線増の厚みの大きい部分6の上部を露出するまで除去してパッドを形成することを特徴とする方法により、配線基板を製造する。 - 特許庁
The magnetic recording medium wherein a gas barrier layer, the base layer and the magnetic layer are formed in this order on at least one surface of a flexible polymer substrate is characterized in that the magnetic layer has a granular structure consisting of a ferromagnetic metal alloy and a non-magnetic oxide and the base layer and the magnetic layer have 10 to 45 nm total thickness.例文帳に追加
可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に、ガスバリヤ層、下地層および磁性層をこの順に形成した磁気記録媒体であって、上記磁性層は強磁性金属合金と非磁性酸化物からなるグラニュラ構造をもち、上記下地層と磁性層の総厚が10nm以上45nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
In the metallic luster thermal transfer recording medium in which at least a mold release layer, a vapor deposited anchor layer, a metal vapor deposited layer and an adhesive layer are sequentially laminated in this order on a base material, the anchor layer contains 0.1 to 3 wt.% of particles each having a mean particle size larger than a thickness of the anchor layer.例文帳に追加
基材上に、少なくとも、離型層、蒸着アンカー層、金属蒸着層、接着層がこの順序で積層されている金属光沢熱転写記録媒体であって、前記蒸着アンカー層に、蒸着アンカー層の厚さより平均粒子径が大きな粒子を0.1〜3重量%含有することを特徴とする金属光沢熱転写記録媒体。 - 特許庁
In the inkjet recording medium, a refractive index of a first layer provided in an appreciation surface of the metal layer is different from that of a second layer provided on the appreciation surface of the first layer, and a thickness of the first layer (different refractive layer) is a value, which is a quarter integral number of a wavelength range of a visible light ray.例文帳に追加
金属層の鑑賞側の面上に設けられた第一の層の屈折率がこの第一の層の鑑賞側の面上に設けられた第二の層と屈折率が異なっており、且つ第一の層(異屈折率層)の厚さが可視光線の波長範囲の1/4の整数倍の値であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁
The aluminum nitride substrate comprises an oxide layer 3 and is characterized in that an oxide layer 3 is formed on the surface of an aluminum nitride layer 2, the oxide layer 3 contains aluminum nitride crystal particles 4, and the thickness of a virtual layer formed of only aluminum oxide calculated based on the total content of the aluminum oxide component in the oxide layer is 5-100 μm.例文帳に追加
窒化アルミニウム層2の表面に酸化層3が形成されており、酸化層3は窒化アルミニウム結晶粒子4を含有し、酸化層3中の酸化アルミニウム成分の総含有量に基づいて、酸化アルミニウムのみからなる仮想の層の厚みを算出したときの厚みが5〜100μmになる酸化層を有する窒化アルミニウム基板。 - 特許庁
Consequently, both reflective mode characteristics and transmissive mode characteristics are improved by coating the pixel electrode layer and the reflection layer with the inner polarizing layer having small thickness corresponding to the reflection region and large thickness corresponding to the transmission region while fabricating the polarizers with the coating method during the manufacturing process of the array substrate and the color filter substrate.例文帳に追加
これによって、偏光子をアレイ基板及びカラーフィルター基板の製造工程のうち、コーティング方式に制作しながら、反射領域に対応しては薄い厚さを、透過領域に対応しては厚い厚さのインナー偏光子層をコーティングすることで、反射モードの特性と透過モードの特性を全部向上させることができる。 - 特許庁
This semiconductor device 20A including a semiconductor wafer 21 and a resin layer 22 covering at least a part of the semiconductor wafer is configured by forming a bending reducing groove 23 crossing a part or whole part of the thickness direction of the resin layer, or reaching from the resin layer to a part of the thickness direction of the semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウェハ21と少なくとも該半導体ウェハの一部を覆う樹脂層22とを含む半導体装置において、該樹脂層の厚さ方向の一部または全部、あるいは樹脂層から半導体ウェハの厚さ方向の一部まで達する反り抑制溝23が設けられたことを特徴とする半導体装置20A。 - 特許庁
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