「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

A reversible heat-sensitive recording medium is provided with at least a protective layer and a reversible heat-sensitive recording layer, and the thickness of the protective layer is in the range of 25-1000 μm and the ratio A/B between the thickness A μm and the length of a long side B mm of the reversible heat-sensitive medium is 10/6 or more.例文帳に追加

少なくとも保護層と、可逆性感熱記録層とを有し、前記保護層が２５〜１０００μｍの範囲にある可逆性感熱記録媒体であり、前記可逆性感熱記録媒体の厚さＡμｍと、当該媒体の長辺Ｂｍｍとの比（Ａ／Ｂ）が、１０／６以上であることを特徴とする。 - 特許庁

This piezoelectric displacement element is provided with a piezoelectric ceramic layer which is 50 μm or less in thickness and at least a pair of electrodes arranged on the both faces of the piezoelectric ceramic layer, wherein the overall thickness is 100 μm or less, and at least one of the pair of electrodes contains Ag, and Ag is uniformly distributed in the piezoelectric ceramic layer.例文帳に追加

厚みが５０μｍ以下の圧電セラミック層と、この圧電セラミック層の両面に配置された少なくとも一対の電極とを備え、全体の厚みが１００μｍ以下であり、前記一対の電極のうち少なくとも一方がＡｇを含有し、前記圧電セラミック層にＡｇが均一に分布した圧電変位素子である。 - 特許庁

The sheet designed to be divided is formed by laminating a paper layer 3 and synthetic resin layer 4, wherein the perforated structure of the division line consists of a perforation 1 penetrating the sheet across the thickness and continuous notches 2 having uniform depth approximately penetrating only the synthetic resin layer 4 across its thickness.例文帳に追加

紙層３と合成樹脂層４とを重合して成る分割を前提としたシートにおいて、分割線に対し、当該シートを厚み方向に貫通するミシン目１と、合成樹脂層４のみを厚み方向にほぼ貫通する一様な深さの連続した切り込み２の双方を形成して成るミシン目構造を具備するシート。 - 特許庁

Ni plating layers of the same thickness are formed on both sides of a metal substrate, and etching is carried out only to the Ni plating layer of a mounting surface side of semiconductor elements, so that the thickness of the Ni plating layer of the mounting surface side is formed thinner than that of the Ni plating layer of a rear surface side to be connected to an external substrate.例文帳に追加

金属製基材の表裏面に同じ厚さのＮｉめっき層を形成し、半導体素子の搭載面側のみのＮｉめっき層をエッチング処理することによって、該搭載面側のＮｉめっき層の厚さを外部基板と接続する裏面側のＮｉめっき層より薄くすることを特徴としている。 - 特許庁

In the method for producing a copper alloy strip, plating of an Ni layer 2 is applied to the surface of a Cu alloy base material 1, successively, Cu plating of a Cu layer 3 and Sn plating of an Sn layer 4 are applied thereto in such a manner that the ratio of the Sn plating thickness/the Cu plating thickness is controlled to ≤6, and thereafter, reflowing treatment is performed.例文帳に追加

銅合金条の製造方法において、Ｃｕ合金母材１の表面にＮｉ層２のめっきを施した後、続いてＣｕ層３のＣｕめっき、Ｓｎ層４のＳｎめっきを、Ｓｎのめっき厚さ／Ｃｕのめっき厚さ比が６以下となるように施した後、リフロー処理を行う。 - 特許庁

The method for the measurement of the thickness of the horny layer measures spectrum by the Raman spectroscopy while varying a measurement depth toward the depth of the skin from the surface of the skin, and determines a spectrum measurement depth when the peak peculiar to the horny layer in the spectrum disappears as the thickness of the horny layer with the peak as an index.例文帳に追加

角層厚の計測方法であって、皮膚表面から皮膚深部方向に向けて、測定深度を変えながら、ラマン分光によりスペクトルを測定し、該スペクトル中の角層に特異的なピークを指標とし、該ピークが消失するときのスペクトル測定深度を角層厚として決定する、角層厚の計測方法。 - 特許庁

The thin film device 100 satisfies T1>Tmin, wherein T1 denotes the thickness of the lowermost first dielectric layer 4 in contact with the base electrode 2 in the plurality of dielectric layers, and Tmin denotes the thickness of a thinnest dielectric layer in the plurality of dielectric layers 6 and 8 excluding the first dielectric layer 4.例文帳に追加

複数の誘電体層のうち下地電極２に接する最下層の第１の誘電体層４の厚さをＴ１とし、第１の誘電体層４を除く複数の誘電体層６，８のうち最も薄い誘電体層の厚さをＴｍｉｎとしたとき、Ｔ１＞Ｔｍｉｎを満たすことを特徴とする。 - 特許庁

A formation depth d1+tx from a first main surface J of an ion implantation layer 4 for peeling in a process for forming the ion implantation layer for peeling is adjusted by the energy of ion implantation, to adjust the thickness of a coupling silicon single crystal thin film 15 according to the thickness of the SOI layer 5 to be obtained.例文帳に追加

得るべきＳＯＩ層５の厚さに応じて結合シリコン単結晶薄膜１５の厚さを調整するために、剥離用イオン注入層形成工程における剥離用イオン注入層４の第一主表面Ｊからの形成深さｄ１＋ｔｘを、イオン注入のエネルギーにより調整する。 - 特許庁

To provide a complete depletion type SOI MOSFET capable of suppressing short channel effect caused by permitting a drain electric field to pass through a BOX layer when the thickness of an SOI layer or the BOX layer is made to be an identical thickness to that of a conventional complete depletion type SOI MOSFET, and of suppressing kink effect.例文帳に追加

ＳＯＩ層またはＢＯＸ層の厚さを従来の完全空乏型ＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴと同様の厚さとした状態で、ＢＯＸ層をドレイン電界が通り抜けることにより発生する短チャネル効果を抑制でき、さらにキンク効果を抑制することのできる、完全空乏型ＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴの提供。 - 特許庁

To provide a cylinder lining material for centrifugal casting which has a lining layer in which tungsten carbide particles and tungsten boride particles are dispersed in a nickel and/or cobalt alloy base material and has a particle-depleted layer of an extremely small thickness or a particle-depleted layer of a desirable thickness, and to provide a centrifugal casting method for manufacturing the cylinder lining material.例文帳に追加

ニッケルおよび／またはコバルト合金基地中に炭化タングステン粒子、硼化タングステン粒子が分散したライニング層を有し、粒子欠乏層の厚さがきわめて薄い、または、所望の厚さの粒子欠乏層を有する遠心鋳造用シリンダライニング材、シリンダライニング材を製造する遠心鋳造方法を提供する。 - 特許庁

An ocular position detection sensor 4 and a lacrimal layer detection sensor 5 are arranged on a peripheral portion of a display 3, the film thickness of the lacrimal layer on the ocular surface detected by the ocular position detection sensor 4 is measured by the lacrimal layer detection sensor 5, and an alarm is given when the film thickness is below a specified value.例文帳に追加

ディスプレイ３の周辺部に眼球位置検出センサー４および涙液層検出センサー５を配置し、眼球位置検出センサー４で検出した眼球表面の涙液層の膜厚を涙液層検出センサー５で測定し、膜厚が一定値以下になったとき、警告を発するようにしたものである。 - 特許庁

It includes a hardened layer 11a formed near the first face in an induction hardened structure having higher average hardness than a base material structure 12a near the second face 12, and a compression residual stress layer having a thickness near the first face at least not smaller than a thickness d of the hardened layer 11a.例文帳に追加

第２面１２近傍の母材組織１２ａよりも高い平均硬度を有する高周波焼入れ組織からなる硬化層１１ａを第１面近傍に有するとともに、第１面近傍において硬化層１１ａの厚さｄよりも少なくとも小さくない厚さの圧縮残留応力層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The photosensitive film used for display device spacers has a photosensitive resin composition layer, wherein a center value of the thickness of the photosensitive resin composition layer is 1-10 μm and a thickness tolerance of the photosensitive resin composition layer is within (the center value)±10%.例文帳に追加

表示装置スペーサー用に使用される感光性フィルムであって、感光性フィルムは感光性樹脂組成物層を有し、感光性樹脂組成物層の膜厚の中心値が１〜１０μｍであり、感光性樹脂組成物層の膜厚公差が中心値±１０％以内であることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性フィルム。 - 特許庁

The ceramic porous plate has fine pore parts having 5 nm to 200 μm average pore diameter and ≥0.5 mm thickness and a thin film having film thickness controlled in a molecular layer or atomic layer level is formed on at least a part of the inside wall of the fine pore parts by an atomic layer deposition (ALD) method.例文帳に追加

平均細孔径が５ｎｍ〜２００μｍの細孔部を有し厚さが０．５ｍｍ以上のセラミック多孔質板であって、該細孔部内壁の少なくとも一部にＡＬＤ法によって分子層または原子層レベルで膜厚制御された薄膜が形成されていることを特徴とするセラミック多孔質板を提供する。 - 特許庁

This pressure sensitive transfer tacky tape installed with the tacky agent layer having unevenness shape on its base substrate, is characterized by having the thickness of the recessed part of the above tacky agent layer is ≤80% of the thickness of the projecting part and also having ≥15 wt.% gel fraction of the tacky agent layer.例文帳に追加

基材上に凹凸形状を有する粘着剤層が設けられた感圧転写粘着テープであって、該粘着剤層の凹部の厚みが該凸部の厚みの８０％以下であり、かつ、該粘着剤層のゲル分率が１５重量％以上であることを特徴とする感圧転写粘着テープである。 - 特許庁

When the metal thin film type magnetic layer having 5 to 55 nm thickness is deposited on the other principal surface side of the non-magnetic substrate by a vacuum thin film deposition method, a shielding layer consisting of diamond like carbon and having 3 to 25 nm thickness is provided between the non-magnetic substrate and the magnetic layer by plasma CVD method.例文帳に追加

非磁性支持体の一主面側に真空薄膜形成法により、厚さ５ｎｍ以上、５５ｎｍ以下の金属薄膜型磁性層を形成するに際して、該非磁性支持体と該磁性層との間にダイヤモンドライクカーボンからなる厚さ３ｎｍ以上、２５ｎｍ以下のシールド層をプラズマＣＶＤ法により設ける。 - 特許庁

The fixing belt 58 is formed by providing a silicone rubber layer 58b having the thickness of 200-300 μm as an elastic layer on the outer circumferential surface of a metal belt 58a molded cylindrically, and by coating the outside further with a mold releasing layer 58c having the thickness of about 30 μm made of a fluororesin, such as PTFE or PFA.例文帳に追加

定着ベルト５８は、円筒状に成型された金属ベルト５８ａの外周面に、弾性層として厚さが２００〜３００μｍのシリコーンゴム層５８ｂを設け、更に外側にＰＴＦＥやＰＦＡなどのフッ素系樹脂からなる３０μｍ程度の離型層５８ｃを被覆したものである。 - 特許庁

Disclosed is the objective lens 34 formed of plastic which is used for an optical pickup 3 for recording and reproducing an optical disk, wherein a tertiary order coma aberration quantity caused when the objective lens is tilted satisfies a prescribed relational expression where a distance in the thickness direction from the zeroth layer to nth layer being the maximum cover layer thickness is used as a parameter.例文帳に追加

光ディスク記録再生用光ピックアップ３に用いられるプラスチック製の対物レンズ３４において、当該対物レンズを傾斜させたときに発生する３次コマ収差量を、カバー層厚さが最大とされる第０層から第ｎ層までの厚さ方向の距離をパラメータとする所定の関係式を満足させる。 - 特許庁

The thickness of the layer 16 of the roller 10 is increased by such peeling operation but the layer 16 is maintained in fixed thickness by a layer regulating member 32 elastically abutting on the roller 10 by fixed load, so that the image is peeled without rolling the image recording body 87B in.例文帳に追加

画像剥離ローラ１０の熱溶融樹脂層１６はこの剥離動作によって厚さが増加するが、一定荷重で弾性的に画像剥離ローラ１０に当接された層規制部材３２によって一定の厚さに維持されるため、画像記録体８７Ｂを巻き込むことなく、画像剥離を行なうことができる。 - 特許庁

Depositing of a polysilicone film having a thickness of 1.5 μm using pressure-reduced CVD and ion pouring into the polysilicone film are repeated twice for annealing to fill a hole in a recessed part 18 formed in an LTO layer 16 and add a polysilicone lower layer 19 having a thickness of 3 μm to the LTO layer 16.例文帳に追加

減圧ＣＶＤを用いた１．５μｍの厚さのポリシリコン膜の堆積と、かかるポリシリコン膜へのイオン注入とを２回繰り返した後に、アニールすることにより、ＬＴＯ層１６に形成された凹部１８の孔埋めを行うとともに、厚さが３μｍのポリシリコンの下層１９をＬＴＯ層１６に付加させる。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor substrate includes the steps of: forming a first SiGe layer with a thickness of 10 to 200nm; applying anneal processing to the substrate at a temperature of 900°C; and forming a second SiGe layer with a thickness of 10 to 300nm on the first SiGe layer.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜２００ｎｍで形成する工程と、前記基板を９００℃以上でアニール処理する工程と、前記第１のＳｉＧｅ層上に、第２のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜３００ｎｍで形成する工程とを備えていることを特徴とする半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

An insulating layer 20 is formed on the insulating substrate 10 so as to surround all periphery of the center contact pattern 50, the periphery contact pattern 70 is formed on the insulating layer 20 including the upper part of the first extraction pattern 60, and the thickness of the first extraction pattern 60 is formed thinner than the thickness of the insulating layer 20.例文帳に追加

絶縁基板１０上に中央接点パターン５０の全周を囲むように絶縁層２０を形成し、且つ外周接点パターン７０は、第一引出パターン６０の上部をも含む絶縁層２０上に形成され、さらに第一引出パターン６０の厚みは絶縁層２０の厚みよりも薄く形成されている。 - 特許庁

To provide an optical head device wherein light condensed into a recording layer through an objective lens is not affected by the thickness nonuniformity of a transparent resin layer located between the recording layer and the objective lens, an information recording and reproducing device and information recording and reproducing method using the optical head device, and a thickness nonuniformity detecting method.例文帳に追加

対物レンズを介して記録層に集光される光が記録層と対物レンズとの間に位置される透明樹脂層の厚みムラの影響を受けない光ヘッド装置およびその光ヘッド装置を用いた情報記録再生装置ならびに情報記録再生方法および厚みムラ検出方法を提供する。 - 特許庁

The protective film provided with an adhesive layer on a light transmitting film base material is provided with the direction confirmation marks between the light transmitting film base material and the adhesive layer, wherein the ratio A/B of the thickness A of the direction confirmation mark to the thickness B of the adhesive layer is ≥0.05 and ≤0.20.例文帳に追加

透光性フィルム基材上に粘着層を設けてなる保護フィルムであって、該透光性フィルム基材と粘着層の間に方向確認用マークを設けてなり、かつ方向確認用マークの厚み（Ａ）と粘着層の厚み（Ｂ）の比、（Ａ）／（Ｂ）が０．０５以上０．２０以下であることを特徴とする保護フィルムとする。 - 特許庁

The positive electrode 3 is formed of a conductive layer containing a carbon nano structure, and the thickness of the conductive layer is controlled so that the absolute value of the difference between the ionization potential Φ_a2 of the conductive layer after controlling the thickness of the carbon nano structure and the ionization potential Φ_H of the functional thin film 4 may be smaller.例文帳に追加

陽極３はカーボンナノ構造体を含有する導電層により形成され、導電層の厚みが、カーボンナノ構造体の厚さを制御した後の導電層のイオン化ポテンシャルΦ_ａ２と機能性薄膜４のイオン化ポテンシャルΦ_Ｈとの差の絶対値が小さくなるように制御されている。 - 特許庁

The range of the thickness variation from the protective layer surface to the respective information layers in the multilayer optical information recording medium is set equal to or less than a predetermined error of thickness with respect to thickness reference lines having thickness set for each of a plurality of ranges divided in the radial direction, thereby substantially suppressing an influence of the thickness variation and achieving excellent recording and reproducing characteristics.例文帳に追加

多層光情報記録媒体における保護層表面から各情報層までの厚み変動幅を、半径方向に複数の範囲に分割され、各々の範囲毎に設定された厚みを有する厚み基準線に対して、所定の厚み誤差以下とすることで、厚み変動の影響を実質的に抑制し、良好な記録再生特性を実現する。 - 特許庁

To provide a method capable of discriminating whether the film thickness of a thin film layer formed on a substrate having a pattern formed on the surface is within a tolerance or not, easily in a short time without using an expensive film thickness measuring device.例文帳に追加

表面にパターンのある基板上に形成した薄膜層の膜厚が許容範囲内か否かの判別を、高額な膜厚測定器を使わずに短時間で容易に行える方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device using a film thickness measuring method of a material to be treated capable of accurately measuring the actual amount of film remaining on a layer to be treated and etching depth on-line, and to provide a plasma treatment device using the film thickness measurement method.例文帳に追加

被処理層の実際の残膜量やエッチング深さをオンラインで正確に測定することのできる被処理材の膜厚測定方法を用いたエプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solar cell for suppressing the generation of the bending of a substrate, and for forming a BSF (Back Surface Field) layer whose thickness is effective even when the thickness of the substrate is thin.例文帳に追加

基板の厚さが薄くても、基板の反りの発生を抑えるとともに有効な厚さのＢＳＦ（Ｂａｃｋ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｆｉｅｌｄ）層の形成できる太陽電池の製造方法を得る。 - 特許庁

A thickness and a unit weight of the plain part 22 after compression is almost equal to a thickness and a unit weight of the metal plate 1 at a part with the electrode mixture layer 24 after compression.例文帳に追加

圧縮後の無地部２２の厚み寸法および単位重量は、圧縮後の電極合剤層２４を形成した部分の金属板１の厚み寸法および単位重量とほぼ等しい。 - 特許庁

The dielectric mask (dummy mask) is formed on the side of a region where a large buried layer thickness is required to concentrate a stock material to a specific region, thereby increasing the thickness of the required region.例文帳に追加

厚い埋め込み層厚が必要な領域の脇に誘電体マスク（ダミーマスク）を形成し、原料を特定の領域に集中させることにより、必要な領域の層厚を増大させる。 - 特許庁

The device 112 controls the depositing processes of the devices 101, 102, and the etching processes of the devices 104, 105 so that the film thickness of the semiconductor layer is the predetermined thickness.例文帳に追加

制御装置１１２は、半導体層の膜厚が所定の厚さになるように、堆積装置１０１、１０２による堆積処理、又はエッチング装置１０４、１０５によるエッチング処理を制御する。 - 特許庁

The metallic retainer 4 has a nitride layer 6b having a thickness of 1-9% of a plate thickness of the metallic retainer 4, on inner faces of the pockets 4a kept into contact with the rolling elements 5.例文帳に追加

金属製保持器４は、転動体５が接触するポケット４ａの内面に金属製保持器４の板厚の１％以上且つ９％以下の厚さの窒化層６ｂが形成されている。 - 特許庁

At least one layer of the hard coat layers has a film thickness of 0.5-15 μm and contains 0.5-30 mass% of fine light transmitting particles having an average particle size of 10-60% of the film thickness.例文帳に追加

そして、ハードコート層の少なくとも一方の層は、膜厚が０．５〜１５μｍであり、平均粒子径が膜厚の１０〜６０％の透光性微粒子を０．５〜３０質量％含む層である。 - 特許庁

Then, through the above steps, cracks are developed for the thickness t of the brittle material substrate in a length of 15-55% of the thickness t from the modified layer to the surface of the substrate.例文帳に追加

そして、以上の工程によって、脆性材料基板の厚みｔに対して、厚みｔの１５％以上５５％以下の長さで改質層から基板の表面に向かって亀裂を進展させる。 - 特許庁

The value "the hydrochloric acid transmission quantity/film thickness" of the surface release layer 3 i.e. the hydrochloric acid transmission quantity after 30 days in the chemical fluid transmission examination divided with the film thickness is ≥300(g cm/cm^2 cm).例文帳に追加

前記表面離型層３は、薬液透過試験における３０日後の塩酸透過量を膜厚で除した値［塩酸透過量／膜厚」が、３００（ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｃｍ）以上であること。 - 特許庁

Moreover, by making the multi-layered structure, thickness of each layer of the two kinds of the materials is made thin and therefore by having thicker film thickness, generation of cracks is avoided when heat is applied.例文帳に追加

また、多層構造とすることで、２種類の材料の各層の膜厚を薄くすることができ、よって膜厚が厚くなることによって、熱が加わった際に生じるクラックの発生を回避できる。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which is uniform in thickness and where conductor patterns can be easily given interlayer continuity, and a plating layer used for forming the conductor patterns is not required to be controlled in thickness and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導体パターンの層間導通性を簡易に付与することができ，かつパターン形成用のメッキ厚みの制御が不要で均一な厚みのプリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The main insulation layer 12m is composed by winding a composite tape consisting of a kraft paper and a plastic film and is made of a plurality of tapes having a different ratio k of thickness of the plastic portion to the thickness of the composite tape.例文帳に追加

主絶縁層12mは、クラフト紙とプラスチックフィルムとからなる複合テープを巻回してなり、複合テープの厚さに対するプラスチック部分の厚さの割合kが異なる複数のテープからなる。 - 特許庁

In the copper-clad laminate, copper foil 1-8 μm in thickness with a heat resistant carrier 10-22 μm in thickness is laminated directly on at least one side of a polyimide layer.例文帳に追加

ポリイミド層の片面あるいは両面に、キャリアの厚みが１０〜２２μｍであり銅箔の厚みが１〜８μｍである耐熱性キャリア付き極薄銅箔が直接積層されてなる銅張積層板。 - 特許庁

A mirror plate which is separated by a predetermined distance from the multilayer film whose film thickness(es) is (are) measured and reflects light, is provided, and the film thickness is calculated from rays of reflected light produced by being reflected by the boundaries of each layer and the mirror plate.例文帳に追加

膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。 - 特許庁

To form to a substrate a coating layer having an uniform thickness, which does not contain any residue of a binder by enabling a control of a constant thickness of powders on the substrate without using the binder.例文帳に追加

バインダを用いることなく基材上の粉末の厚みを一定に調節可能とすることにより、バインダの残留物を含有することのない均一な厚みのコーティング層を基材に対して形成する。 - 特許庁

Writability is improved when the trailing magnetic layer 24d has a thickness greater than those of the other magnetic layers 24a to 24c (preferably, more than 25% of the total thickness of all the magnetic layers 24a to 24d).例文帳に追加

トレーリング磁性層２４ｄが他の磁性層２４ａ〜２４ｃよりも厚い場合（より好ましくは、すべての磁性層２４ａ〜２４ｄの総膜厚の２５％を越える場合）に、記録特性が向上する。 - 特許庁

A side wall of the cylindrical flexible joint 1 is formed of a laminated sheet 18 (a thickness of 0.1 to 6 mm) of an oriented porous PTFE film 12 and a crushed dense PTFE layer 11 having a thickness less than 50 μm.例文帳に追加

筒状フレキシブルジョイントの側壁が、延伸多孔質ＰＴＦＥフィルム１２と厚さが５０μｍ未満の圧潰緻密ＰＴＦＥ層１１との積層シート１８（厚さ０．１〜６mm）で構成されている。 - 特許庁

In the formula, G represents the shear elastic modulus reference value of a second member, Es represents an elastic modulus of a first member, ts represents a thickness of the surface layer portion, tc represents a thickness of the core portion, and λ_0 represents a wavelength of cylindrical buckling, respectively.例文帳に追加

Ｇ＝１００＊Ｅｓ＊ｔｓ＊ｔｃ／λ_０^２ ・・・（１） ただし、 Ｇ：第二の部材のせん断弾性率基準値 Ｅｓ：第一の部材の弾性率 ｔｓ：表層部の厚さ ｔｃ：コア部の厚さ λ_０：円筒座屈の波長 - 特許庁