「ler」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The focus value is found by using the dependency of an LER value of a resist pattern on a focus value.例文帳に追加

レジストパターンのＬＥＲ値がフォーカス値に依存して変動することを利用してフォーカス値を求める。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables to form a pattern having excellent line edge roughness (LER) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition formable of a pattern having excellent resolution and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for suppressing an increase in wiring resistivity caused by an LER and/or LWR accompanying miniaturization.例文帳に追加

微細化に伴うＬＥＲやＬＷＲに起因する配線の抵抗率の増大を抑制し得る手法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern excellent in line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

The display device MD1 is manufactured after manufacturing each of liquid crystal elements LEb, LEg, LEr and the layering them.例文帳に追加

表示装置ＭＤ１は、液晶表示素子ＬＥｂ、ＬＥｇ、ＬＥｒをそれぞれ作製した後、それらを積層することで作製される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass stamper with high yield, with which line edge roughness (LER) is reduced.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が低減されたガラススタンパを高い歩留まりで製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method of a film to be etched capable of both obtaining highly accurate dry etching and reduction of LER.例文帳に追加

高精度のドライエッチング加工とＬＥＲの低減をともに実現することのできる被エッチング膜の加工方法を提供する。 - 特許庁

Each of the IP routers 7-1 to 7-n store only in-AS path information and sets a default path to a nearby LER.例文帳に追加

各ＩＰルータ７−１〜７−ｎは、ＡＳ内経路情報のみを保持するとともに、最寄のＬＥＲへのデフォルト経路を設定する。 - 特許庁

To provide a salt functioning as an acid-generating agent affording a chemically amplified resist composition that exhibits improved LER and forms a pattern of a good shape.例文帳に追加

ＬＥＲが改善され、良好な形状のパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which reduces LER and is excellent in resolution and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＬＥＲの低減、解像性に優れたポジ型レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of providing a resist pattern having excellent line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce LER (line edge roughness) of a formed gate electrode by suppressing the effect of crystal grains of a low-resistance polycrystalline silicon film when forming the gate electrode by etching.例文帳に追加

エッチングによるゲート電極の形成にあたり、低抵抗多結晶シリコン膜の結晶粒界の影響を抑えることで、形成されたゲート電極のＬＥＲを低減する。 - 特許庁

The peptide having the bifidobacteria proliferation-promoting effect and shown by the array of Glu-Ler-Met is obtained by purification of a decomposed product or by chemical synthesis based on the array information.例文帳に追加

また、Glu-Leu-Metの配列で示されるビフィズス菌増殖促進効果を有するペプチドを分解物から精製するか、配列情報をもとにこのペプチドを化学合成する。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing device capable of performing drawing by minimizing LER (line edge roughness) of various patterns, and to provide an electron beam drawing method, an electron beam drawing program and a recording medium.例文帳に追加

種々のパターンのＬＥＲを最小にして描画を行うことの可能な電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、電子ビーム描画プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a monomer for resins of resist compositions forming patterns having excellent line edge roughness (LER) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の樹脂用モノマーを提供する。 - 特許庁

To provide a salt for an acid-generating agent of a resist composition which can form patterns having excellent resolution, focus margin (DOF) and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度、フォーカスマージン（ＤＯＦ）及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having an outstanding line edge roughness (LER) and a focus margin (DOF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having outstanding resolution and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

The plurality of wirings include a wiring group in which 2^N (N is an integer of 4 or more) or more wirings having a positive coefficient of correlation of an LER (Line Edge Roughness) on both side faces are lined continuously.例文帳に追加

そして、これら複数の配線は、両側面のＬＥＲ（Line Edge Roughness）の相関係数が正である配線が、連続して２^N本（Ｎは４以上の整数）以上並んだ配線群を含む。 - 特許庁

To provide a salt achieving even better line edge roughness (LER) in a formed pattern, a resist composition comprising the salt, and a method for forming a pattern.例文帳に追加

得られるパターンにおいて、さらに良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を実現することができる塩、この塩を含有するレジスト組成物及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a compound with which excellent sensitivity, high stability, and high resolution are obtained and the amount of discharged gas and LER (line edge roughness) can be reduced, a polymer including the compound, and a chemically amplified resist composition including the polymer.例文帳に追加

優れた感度、高安定性、及び高解像度が得られ、ガス排出量及びＬＥＲを低減することができる、化合物、これを含む重合体、及びその重合体を含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive compound capable of forming a resist pattern with a low line edge roughness (LER), to provide a photosensitive composition containing the photosensitive compound, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

In finding the focus value, an LER value of a resist pattern for measuring a focus which is formed by exposing an object for which the focus value is to be measured is measured.例文帳に追加

フォーカス値を求める場合、フォーカス値測定対象の露光により形成されたフォーカス測定用レジストパターンのＬＥＲ値を測定する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition excellent in fine resolution and improving at least one of the LER and SW of a resist pattern, and also to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細解像性に優れ、レジストパターンのＬＥＲおよびＳＷの少なくとも一方を改善できる化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist processing device, a resist applying and developing device, and a resist processing method that reduce LER or LWR by flattening a side surface of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの側面を平坦化することによりＬＥＲ又はＬＷＲを低減することができるレジスト処理装置、レジスト塗布現像装置、およびレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X rays which has high sensitivity, high resolution, and a rectangular pattern shape and also has a superior LER characteristic and superior dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a high resolution resist pattern with good rectangularity and reduced LER, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

矩形性が良好で、ＬＥＲが低減された、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyvalent phenolic material as a base material for a pattern forming material with which a pattern with high resolution and reduced line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

ＬＥＲの低減された高解像性のパターンが形成できるパターン形成材料の基材用の多価フェノール材料、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern in which line edge roughness (LER) is reduced and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a network controller that can inform a center terminal about a situation where the network controller cannot replay a call from the center terminal, because two B ISDN channels connected to the network control ler are busy.例文帳に追加

網制御装置が接続されているＩＳＤＮ回線のＢチャネルが２本使用中であるために応答できないことをセンタ端末へ通知できるようにすること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた軟Ｘ線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a base material for a pattern forming material, a positive resist composition, and a method for forming a resist pattern which enable a pattern with reduced line edge roughness (LER) to be formed.例文帳に追加

ＬＥＲの低減されたパターンが形成できるパターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for improving fine resolution, LER and depth of focus, and to provide a method for forming a resist pattern which uses the resist composition.例文帳に追加

微細な解像性、ＬＥＲ及び焦点深度幅を向上させることを目的とするレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition which improves line edge roughness(LER), has high sensitivity and high resolving power and ensures improved surface roughness of a resist pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を改良し、高感度、高解像力を有し、更にレジストパターンの表面荒れが改良されたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyol compound for photoresists which can reduce line edge roughness (LER) and can efficiently obtain a high purity polyol compound for photoresists useful in preparing a resist composition having excellent resolving power and etching resistance.例文帳に追加

ＬＥＲを低減することができ、且つ、解像性及び耐エッチング性に優れるレジスト組成物を調製するために有用なフォトレジスト用ポリオール化合物を高い純度で効率よく得ることができるフォトレジスト用ポリオール化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin suitable as a resist composition capable of forming a resist pattern having small LER, a resin produced by the production method, a resist composition containing the resin and a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

ＬＥＲの小さいレジストパターンを形成可能なレジスト組成物に好適に使用される樹脂の製造方法、該製造方法により製造される樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a drawing method and a rectangular region dividing method in electron beam drawing capable of preventing generation of a non-drawing portion and preventing occurrence of problems such as drawing irregularity or formation of stripes in the entire drawn image and degradation in LER (line edge roughness).例文帳に追加

非描画部分の発生を防止することができ、描画像全体からみて描画ムラや筋の形成、ＬＥＲの悪化などという現象の発生を防止することができる電子線描画における描画方法及び矩形領域分割方法を提供する。 - 特許庁

To realize measuring a soak time in a measuring time and measuring accuracy according to utilization, simplicity and low cost in an electronic control ler controlling upon receiving power supplied from a battery when power source switch is turned on.例文帳に追加

電源スイッチのオンによりバッテリから供給される電力を受けて制御を行う電子制御装置において、用途に応じた測定時間及び測定精度でソーク時間を計測することができ、しかもこれを簡易かつ低コストに実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a post processing method of a resist pattern that is not restricted with respect to a resist composition to be used, and can make LER and LWR smaller especially when forming a fine resist pattern while suppressing variation in dimensions of the resist pattern itself.例文帳に追加

使用するレジスト組成物について制約を受けず、特に微細なレジストパターンを形成した際においても、レジストパターン自体の寸法変動を抑えつつ、ＬＥＲ及びＬＷＲを小さくすることが可能なレジストパターンの後処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiosensitive composition with its resolution, defocus latitude (DOF) and line edge roughness(LER) improved on the basis of lithographic technology using a shortwave exposure illuminant enabling supermicro-fabrication, a lamination technique and a positive type chemically- amplified resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源、薄膜化技術及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力、デフォーカスラチチュード（ＤＯＦ）、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition giving a high resolution with a suppressed LER deterioration caused by film-thinning at the time of forming a chemically amplified resist film with a film thickness of 10-100 nm in lithography, and also to provide a resist patterning process using the chemically amplified positive resist composition.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。 - 特許庁

To evaluate a fine resolution and a slight difference in solubility of radiation-sensitive resin, and to obtain a radiation-sensitive resin composition which generates no development defect and has superior LER characteristic, while maintaining conventional resist performance using this evaluation method.例文帳に追加

感放射線性樹脂の微小な解像性や溶解性の僅かな相違点を評価し、この評価方法を用いて、従来のレジスト性能を維持したまま、現像欠陥を発生することがなく、またＬＥＲ特性に優れた感放射線性樹脂組成物を得る。 - 特許庁