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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > metal cleaningに関連した英語例文

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metal cleaningの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1172



例文

The method includes a process of forming a lower conductive pattern on a semiconductor substrate and after the vapor deposition of a barrier metal film using a metal organic precursor, cleaning the vapor-deposited barrier metal film.例文帳に追加

この方法は半導体基板上に下部導電パターンを形成し、金属有機前駆体を使って、バリア金属膜を蒸着した後、蒸着されたバリア金属膜を浄化する段階を含む。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst 1 comprises a noble metal 2, a first compound 3 carrying the novel metal 2 and a second compound 4 including the novel metal 2 and the first compound 3 and comprising an oxide.例文帳に追加

本発明の排気ガス浄化触媒1は、貴金属2と、この貴金属2を担持する第1の化合物3と、この貴金属2及び第1の化合物3を内包する、酸化物よりなる第2の化合物4とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of cleaning harmful metal contaminant, the method for reusing chelate washing liquid which is used for solubilizing and removing harmful metal from a contaminant and for collecting metal with a small amount of chemical agent.例文帳に追加

汚染物から有害金属を可溶化除去するのに用いるキレート洗浄液の再利用が可能で、少量の薬剤で金属回収もできる有害金属汚染物の浄化方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning exhaust gas capable of preventing not only the mutual action of an alkali metal and a noble metal by proximately supporting both metals while separating them but also the movement of the alkali metal at the time of high temperature endurance.例文帳に追加

アルカリ金属と貴金属とを分離しつつ近接担持して相互作用を防止するとともに、高温耐久時にアルカリ金属の移動を防止できる排ガス浄化触媒とする。 - 特許庁

例文

The final point of a cleaning step for removing the metal-contaminated substance can be automatically estimated by measuring the quantity of the metal-contaminated substance, so that the removal work of removing the metal-contaminated substance is achieved optimally.例文帳に追加

金属汚染物質の量を計測することで、金属汚染物質除去のためのクリーニングステップの終点を自動的に評価できるので、その作業を最適に行なえる。 - 特許庁


例文

To provide a method for treating heavy metal-contaminated soil and a system for treating heavy metal-contaminated soil capable of effectively cleaning the soil contaminated with a heavy metal.例文帳に追加

重金属により汚染された汚染土壌を効果的に浄化することができる重金属汚染土壌の処理方法及び重金属汚染土壌の処理システムを提供する。 - 特許庁

A first metal-coated superconducting tape wire 13, a second metal-coated superconducting tape wire 13 and/or the reinforcing tape material 11 are prepared, and the first and second metal-coated superconducting tape wires are subjected to the ultrasonic cleaning.例文帳に追加

第一の金属被覆超電導テープ線材13と、第二の金属被覆超電導テープ線材13及び/または補強テープ材11を準備し、前記第一、第二の金属被覆超電導テープ線材を超音波洗浄する。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning device is provided with a base metal carrying part 20 carrying a PM oxidation catalyst comprising a base metal and oxidizing PM in a catalyst layer of the inner circumferential part in the radius direction, and a noble metal carrying part 21 carrying a noble metalcatalyst in a catalyst layer of the outer circumferential part in the radius direction.例文帳に追加

径方向内周部の触媒層には卑金属よりなりPMを酸化可能なPM酸化触媒を担持した卑金属担持部20を有し、径方向外周部の触媒層には貴金属触媒を担持した貴金属担持部21を有する。 - 特許庁

In an ionizing process (steps S5 to S7), when a second voltage higher than the first voltage is applied as a cleaning solution is kept flowing, the metal at the electrode is oxidized to turn to metal ions again, so that the metal released from the electrode can be made to flow out.例文帳に追加

イオン化過程(ステップS5〜S7)では、洗浄液を流通させつつ第1電圧より高い第2電圧を印加すると、電極の金属が酸化され再びイオンとなり、電極から離脱した金属を流し去ることができる。 - 特許庁

例文

To provide an electromagnetic pump for a molten metal in which the molten metal is hardly stagnated in a duct at a holding part of a protective tube of a core 2, scraps such as oxides of the molten metal are hardly generated, and the maintenance such as cleaning is easily performed.例文帳に追加

コア2の保護管の保持部分でダクト内の溶融金属の停滞、溶融金属の酸化物等のカスの溜まり等が生じにくく、しかもその清掃等のメンテナンスもしやすくする。 - 特許庁

例文

In the manufacturing method for the exhaust gas cleaning catalyst, an organic acid is contained in a noble metal salt aqueous solution so that a molar ratio of the organic acid and the noble metal may be a fixed range, and the noble metal is deposited on the heat resistant inorganic oxide carrier.例文帳に追加

貴金属塩の水溶液に、該有機酸と該貴金属のモル比が一定の範囲になるように有機酸を含有させ、該貴金属を耐熱性無機酸化物担体に担持させる排気ガス浄化用触媒の製造方法である。 - 特許庁

The harmful heavy metal reducing material is suitable for applications of the harmful heavy metal reducing material for cleaning the water and soil which is contaminated by the harmful heavy metals and is produced in chemical and metal fields, etc.例文帳に追加

本発明の有害重金属低減材は、化学及び金属分野等において発生する、有害重金属によって汚染された水や土壌を浄化する有害重金属低減材用途に適する。 - 特許庁

Further, in the cleaning of the molten metal before the inspection step (S11) and after the molten metal preparing steps (S2 and S5), the surface of the molten metal is shielded with oxidation preventing gas.例文帳に追加

さらに、上記検査ステップ(S11)前で上記溶湯調製ステップ(S2,S5)後の溶湯清浄化に際して、溶湯表面を酸化防止ガスによりシールドする。 - 特許庁

This image forming device includes a cleaning part including a case body storing toner remaining after cleaning, a holder sheet metal holding a cleaning blade, and the sealing member comprising an elastic body arranged between the holder sheet metal and the case body, wherein the sealing member has a part pressed and deformed in the direction y crossing the longitudinal direction x of the holder sheet metal orthogonally.例文帳に追加

クリーニングした残トナーを収容する筐体と、前記クリーニングブレードを保持するホルダ板金と、該ホルダ板金と筐体との間に配置した弾性体からなるシール部材とを有し、該シール部材は、該ホルダ板金の長手方向xに直交する方向yの一部が押圧変形されているクリーニング部を有する画像形成装置とする。 - 特許庁

In the method for cleaning a semiconductor substrate, cleaning liquid is fed on the surface of a semiconductor substrate, a hydrophobic member is arranged to sandwich the cleaning liquid between the semiconductor substrate and the hydrophobic member, the cleaning liquid is widely brought into contact with the semiconductor substrate, metal impurities contained inside the semiconductor substrate are dissolved in the cleaning liquid, and then the hydrophobic member is removed.例文帳に追加

半導体基板の表面に洗浄液を供給し、該洗浄液を半導体基板との間に挟むように疎水性部材を配置し、該洗浄液を前記半導体基板に広く接触させ、前記半導体基板の内部に含まれる金属不純物を前記洗浄液中へ溶解させ、その後前記疎水性部材を取り外す。 - 特許庁

When cleaning the compound metal oxide film including plural kinds of metals, for example, Sr, Ti or the like, first, a first cleaning process for making a Cl2 gas flow as a cleaning gas and removing Ti is performed, and next, a second cleaning process for making a ClF3 gas flow as the cleaning gas and removing Sr (Ba is also included) is performed.例文帳に追加

複数種類、例えばSr、Ti等の金属を含む複合金属酸化物膜をクリーニングするに際して、まず、クリーニングガスとしてCl_2 ガスを流してTiを除去する第1のクリーニング工程を行ない、次に、クリーニングガスとしてClF_3 ガスを流してSr(Baも含む)を除去する第2のクリーニング工程を行なう。 - 特許庁

The cleaning method of a semiconductor wafer has a step for removing and cleaning foreign substances using an alkali-based chemical, cleaning step for neutralizing surface charge on the semiconductor wafer using slightly acidic cleaning liquid, and a step for removing and cleaning metal impurities remained on the semiconductor wafer using an acid-based chemical.例文帳に追加

本発明の半導体ウエハの洗浄方法は、アルカリ系薬液を用いて半導体ウエハ上の異物を除去洗浄する工程と、半導体ウエハの表面電荷を弱酸性の洗浄液を用いて中和する洗浄工程と、酸系薬液を用いて半導体ウエハ上に残る金属不純物を除去洗浄する工程とを備える。 - 特許庁

Electrons that impinge on ultrathin, self-cleaning metal can be used to increase the temperature sufficiently to remove the contaminating layers. 例文帳に追加

超薄で自己洗浄する金属絞りに衝突する電子は、汚染している層を取り除くために温度を十分に高めることに使うことができる。 - 科学技術論文動詞集

The air cleaning catalyst is constituted by a fullerenes polymer in which a metal atom exists between fullerene molecules.例文帳に追加

フラーレン分子間に金属原子が存在してなるフラーレンポリマーからなることを特徴とする空気浄化触媒。 - 特許庁

A first exhaust gas cleaning catalyst is prepared by infiltrating palladium and platinum into a metal oxide carrier an adding tungsten to the resulting carrier.例文帳に追加

排ガス第1の浄化用触媒は、金属酸化物担体にパラジウムおよび白金を担持し、さらにタングステンを添加してなるものである。 - 特許庁

A second exhaust gas cleaning catalyst is prepared by infiltrating tungsten into a metal oxide carrier and infiltrating palladium and platinum into the resulting carrier.例文帳に追加

排ガス第2の浄化用触媒は、金属酸化物担体にタングステンを担持し、次いでパラジウムおよび白金を担持してなるものである。 - 特許庁

The cleaning unit 15 is provided with the first housing 36 made of aluminum, the second housing 38 made of sheet metal and side plates 32 made of resin.例文帳に追加

クリーニング装置15に、アルミニウム製の第1のハウジング36と、板金製の第2のハウジング38と、樹脂製の側板32を備える。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst is obtained by supporting a noble metal on manganese oxide having a hollandite type crystal structure.例文帳に追加

本発明の排気ガス浄化触媒は、ホーランダイト型結晶構造を有するマンガン酸化物に貴金属を担持して成ることを特徴とする。 - 特許庁

CATALYST FOR OXIDIZING METAL MERCURY, EXHAUST GAS CLEANING CATALYST PROVIDED WITH THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

金属水銀酸化用触媒及び金属水銀酸化用触媒を備えた排ガス浄化用触媒とその製造方法 - 特許庁

In the catalyst for cleaning the exhaust gas, a composite body comprising the noble metal 2 and cerium oxide 3 is covered by lanthanum-containing alumina 1.例文帳に追加

排ガス浄化用触媒は、貴金属2と酸化セリウム3とからなる複合体が、ランタン含有アルミナ1によって被覆されている。 - 特許庁

A cleaning liquid containing ammonia, hydrogen peroxide and a corrosion inhibitor is provided for a semiconductor substrate which has a metal film.例文帳に追加

アンモニア、過酸化水素及び防蝕剤を含有することを特徴とする金属膜を有する半導体基板の洗浄液。 - 特許庁

Plasma application is performed in a process step (4) for cleaning the surface of metal electrodes which are formed on a substrate.例文帳に追加

(4)の工程でプラズマ印加を行い、基板に形成された金属電極の表面をクリーニングする。 - 特許庁

The cleaning catalyst contains a transition metal oxide and has the oxygen-electron bond energy of ≥528.8 eV.例文帳に追加

浄化触媒は、遷移金属酸化物を含有し、酸素の電子の結合エネルギーが528.8eV以上である。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst contains an oxygen occlusion material having Ce, a HC adsorbent and Pd as a catalyst metal.例文帳に追加

Ceを有する酸素吸蔵材と、HC吸着材と、触媒金属としてのPdとを含有する排気ガス浄化用触媒を採用する。 - 特許庁

This glass fiber filter (6) keeps glass fibers in a quartz-rich condition by the heat cleaning, and a metal catalyst is carried on the surface thereof.例文帳に追加

このガラス繊維製フィルター(6)は、ヒートクリーニングによりガラス繊維を石英リッチにしておき、その表面に金属触媒を担持させる。 - 特許庁

To remove a metal containing a 3A group element or a 4A group element formed on a semiconductor substrate with a high cleaning degree.例文帳に追加

半導体基板上に形成された3A族元素あるいは4A族元素を含む金属を高い洗浄度で除去する。 - 特許庁

In this exhaust gas cleaning catalyst, Pd is supported on a rare earth Al oxide and at least one alkaline earth metal is added to the rare earth Al oxide.例文帳に追加

Pdが希土類系Al酸化物に担持され、上記希土類系Al酸化物に少なくとも1種のアルカリ土類金属が含まれている。 - 特許庁

This exhaust gas cleaning catalyst is formed by successively laminating a hydrocarbon absorbent layer and a catalytic metal layer on a monolithic carrier.例文帳に追加

一体構造型担体に炭化水素吸着材層と触媒金属層とを順次積層して成る排気ガス浄化用触媒である。 - 特許庁

A cleaning solution containing hydrogen peroxide and amine having cyclohexane rings that serves as a skeleton is used to clean a semiconductor substrate with a metal film.例文帳に追加

過酸化水素およびシクロヘキサン環を骨格に持つアミンを含有する金属膜を有する半導体基板の洗浄液。 - 特許庁

This exhaust gas cleaning catalyst is characterized by carrying the catalytic metal particles on catalyst carrying layers formed on the surfaces of the ferromagnetic particles.例文帳に追加

強磁性粒子の表面に形成した触媒担持層に触媒金属粒子を担持したことを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 特許庁

Active soil which carries out ion-exchange and alkaline earth metal sulfite as a reduction catalyst are used as a material for cleaning a water quality.例文帳に追加

イオン交換を行う活性土壌と還元触媒としてのアルカリ土類金属亜硫酸塩を水質浄化材として使用すること。 - 特許庁

To exchange a cleaning roller made of metal provided for a fixing roller in appropriate timing.例文帳に追加

定着用ローラに設けられる金属製クリーニングローラの適切なタイミングでの交換を可能にする。 - 特許庁

Further, an inorganic oxide of an intermediate layer is arranged between the metal filter 1 and an exhaust gas cleaning catalyst.例文帳に追加

また、金属製フィルター1と排ガス浄化触媒の間には中間層の無機酸化物を配置している。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst contains oxygen storing/releasing material particles 1, carrier particles 2 and noble metal fine particles 3 including the Rh in the same layer.例文帳に追加

酸素吸蔵放出材粒子1と、担体粒子2と、Rhを含む貴金属微粒子3とを、同一層中に備えている排ガス浄化触媒。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid containing ammonia-hydrogen peroxide solution for a semiconductor substrate which has a metal film on the surface.例文帳に追加

表面に金属膜を有する半導体基板のアンモニア−過酸化水素溶液による洗浄液を提供する。 - 特許庁

This mat washing device adds the metal ions to the cleaning liquid and feed it to the water spray tube 36.例文帳に追加

前記金属イオンを洗浄液に添加し、かつこれを前記散水管36に供給可能にしたマット洗浄装置であること。 - 特許庁

The room temperature cleaning catalyst is obtained by carrying a noble metal on an oxide with oxygen deficiencies introduced by reduction treatment.例文帳に追加

ここに、常温浄化触媒は還元処理によって酸素欠損が導入された酸化物に貴金属を担持してなるものを用いる。 - 特許庁

To provide a metal catalyst carrier and a production method thereof which enhance an exhaust-gas cleaning performance without adding parts further.例文帳に追加

部品を別途追加することなく、排気浄化性能を高めることができる金属触媒担体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The catalyst is a cleaning catalyst at normal temperature and formed by carrying a noble metal on an oxide, into which oxygen deficiency is introduced by a reduction treatment.例文帳に追加

常温浄化触媒であって、還元処理によって酸素欠損が導入された酸化物に貴金属を担持してなる。 - 特許庁

The cleaning process of a film containing a metal atom deposited in the treatment chamber 1 includes the following four processes.例文帳に追加

処理室1内に付着した金属原子を含む膜のクリーニング工程を次の4つの工程から構成する。 - 特許庁

To produce a catalyst for cleaning an exhaust gas, which carries a noble metal catalyst the cluster size of which is simply and easily controlled on an oxide carrier.例文帳に追加

より簡便にクラスターサイズが制御された貴金属触媒を酸化物担体に担持させた排ガス浄化用触媒を提供する。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst is formed by dispersing a substance A capable of becoming a noble metal adsorbing site in a porous substance.例文帳に追加

多孔質物質中に、貴金属吸着サイトとなり得る物質Aが分散されて成る排ガス浄化用触媒である。 - 特許庁

To provide a water cleaning cartridge which removes heavy metal ions without causing problems such as the lowering of a flow rate, clogging or the like.例文帳に追加

流量低下や目詰まりなどの問題を生じさせることなく、重金属イオンを除去することができる浄水カートリッジを提供する。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING TUBE FOR HEAT TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METALLIC CONTAMINATION GETTER SUBSTRATE, AND REGENERATIVE METAL CONTAMINATION GETTER SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板熱処理用チューブの清浄化方法並びに金属汚染ゲッター基板及び再生金属汚染ゲッター基板 - 特許庁

例文

To provide a simple and effective method for cleaning a semiconductor structure, as preparation for depositing a metal film on the semiconductor structure.例文帳に追加

半導体構造上に金属膜を堆積する準備として、半導体構造を洗浄する簡単で効率的な方法が必要である。 - 特許庁

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