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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > metal cleaningに関連した英語例文

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metal cleaningの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1172



例文

To provide a piezoelectric material of a barium bismuth niobate-based tungsten bronze structure metal oxide high in a degree of orientation, and to provide a piezoelectric element, a liquid ejection head, an ultrasonic motor, and a dust cleaning apparatus each using the same.例文帳に追加

配向度の高いニオブ酸バリウムビスマス系のタングステンブロンズ構造金属酸化物の圧電材料を提供する。 - 特許庁

To prolong the practical service life or the operation time of an injection pipe in a device of spraying the pickling solution or the cleaning solution on a metal work.例文帳に追加

金属処理材料に酸洗い液または洗浄液を噴射するための装置において、噴射管の実用寿命または運転時間を延長する。 - 特許庁

To provide a pod-shell cleaning apparatus and a method therefor whereby metal contamination of a pod shell can be removed.例文帳に追加

ポッドシェルの金属による汚れを除去できるポッドシェル洗浄装置及びポッドシェル洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To reduce damages to quartz member in a furnace and a metal furnace opening, and to prevent particles from being generated after furnace cleaning.例文帳に追加

炉内の石英部材および金属炉口部へのダメージを低減し、併せてクリーニング実施後のパーティクルの発生を低減する。 - 特許庁

例文

This method is suitable particularly for cleaning a CVD chamber after the execution of a metal chemical vapor deposition stage.例文帳に追加

この方法は金属化学蒸着工程を行った後にCVDチャンバーを清浄化するのに特に適している。 - 特許庁


例文

Since cleaning treatment can be done after reduction, a pattern composed only of target metal can be achieved.例文帳に追加

そして、還元後に洗浄処理を行うことが可能であるため、目的の金属のみから成るパターンが得られる。 - 特許庁

To provide a simple and highly efficient micronanobubble generator and a nozzle for the same which avoids metal contamination in cleaning semiconductor wafers or the like.例文帳に追加

半導体ウェハーなどを洗浄する場合に金属コンタミをなくし、簡便で高効率なマイクロ・ナノバブルの発生装置とノズルを作成する。 - 特許庁

Furthermore, the detergent composition of the present invention can be suitably used for cleaning of the surface of basal plate contaminated with a metal.例文帳に追加

また、本発明の洗浄剤組成物は、表面が金属で汚染された基板の洗浄に好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a ceramic member by which the joining strength between the ceramic member and a metal member can be increased.例文帳に追加

セラミック部材と金属部材との接合強度を高めることができるセラミック部材の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

例文

To subject the surface of a synthetic substance to etching, activation, cleaning treatment with a promotor optionally, and metal plating by chemical reduction and/or, in succession, by electrolysis.例文帳に追加

合成物質表面を腐食し、活性化し、洗浄し、随意に促進剤で処理し、化学還元的に電気分解により金属メッキする。 - 特許庁

例文

To improve cleaning performance by surely removing metal based soil such as metallic soap stuck to a filter so as to recover the filtration rate.例文帳に追加

フィルターにこびりついた金属石鹸などの金属系の汚れを確実に除去でき、ろ過流量を復活させて浄化性能を高める。 - 特許庁

The head part 42, while holding the substrate W, moves between a metal plating processing part 32 and the cleaning part 34 and performs a prescribed processing in each processing part.例文帳に追加

ヘッド部42は、基板Wを保持したまま、めっき処理部32と洗浄部34との間を移動して各処理部において所定の処理を行う。 - 特許庁

To provide a poly(vinyl acetal) resin excellent in the cleaning and removing ability for metal components and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

金属成分の洗浄除去性が優れたポリビニルアセタール樹脂、及び、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method of FOUP (front opening unified pod) cleaning and drying which can eliminate contamination of FOUP due to a metal.例文帳に追加

FOUPの金属による汚れを除去できるFOUP洗浄乾燥装置及びFOUP洗浄乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To effectively utilize metal cutting chips while inexpensively cleaning a contaminated waste fluid.例文帳に追加

金属切削屑の有効利用を図るとともに、汚染廃液の浄化を安価に達成できるような装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a detergent composition for dry cleaning using 1-bromopropane as a cleaning medium that inhibits the corrosion of metal by controlling the hydrolysis of the cleaning medium without deteriorating the performance required for a detergent such as detergency and softening effect.例文帳に追加

1−ブロモプロパンを洗浄媒体として用いるドライクリーニングにおいて、洗浄性や柔軟性などの洗浄剤としての性能を損なうことなく、洗浄媒体の加水分解を抑えて金属腐食を抑制することができる洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning an exhaust gas suppressing sintering by covering a noble metal with a covering substance and also having excellent catalytic performance, and to provide a method for efficiently cleaning an exhaust gas of an internal combustion engine using the catalyst for cleaning the exhaust gas.例文帳に追加

貴金属を被覆物質で被覆することでシンタリングが抑制されるだけでなく、且つ、優れた触媒性能を有する排ガス浄化用触媒、および当該排ガス浄化用触媒を用いて効率よく内燃機関の排気ガスを浄化する方法を提供する。 - 特許庁

In this cleaning method of harmful gas, the harmful gas including nitrogen fluorides is brought into contact with a cleaning agent which contains zirconium nitride as an active ingredient or a cleaning agent which contains zirconium nitride as an active ingredient and fluoride of alkaline earth metal as forming assitant ingredient and, thereby, is cleaned.例文帳に追加

窒素フッ化物を含有する有害ガスを、窒化ジルコニウムを有効成分として含む浄化剤、あるいは窒化ジルコニウムを有効成分として、アルカリ土類金属のフッ化物を成型助剤成分として含む浄化剤と接触させて浄化する。 - 特許庁

To provide a composition for cleaning an electronic device that exhibits excellent cleaning performance for etching residue, resist residue and the like without causing any damage to a metal material selected from the group consisting of aluminum, titanium, cobalt and copper and to provide a method for cleaning an electronic device using the composition.例文帳に追加

アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料にダメージを与えることなく、エッチング残渣やレジスト残渣等の洗浄性能に優れた電子デバイスの洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic cleaning device in treatment before plating of a belt-like metal, which secures an ultrasonic cleaning optimum distance to the objective face to be cleaned and also gives effective ultrasonic cleaning even to the opposite face of the object to be cleaned.例文帳に追加

帯状金属のメッキ前処理における超音波洗浄装置において、被洗浄対象面に対し超音波洗浄適正距離を確保し、かつ被洗浄対象反対面に対しても有効な超音波洗浄を与える装置を提供する。 - 特許庁

A sheet metal member 302, a white plate 303, a black plate 304 and a cleaning member 305 are arranged in the cleaning means 301, and the cleaning member images the white plate 303 by the first reading part 19 to perform black foreign matter detection, shading correction and images the black plate 304 by the first reading part 19 to perform white foreign matter detection.例文帳に追加

清掃手段301は、板金部材302、白色板303、黒色板304、清掃部材305が配置され、白色板303を第1読取部19で撮像して黒の異物検知及びシェーディング補正、黒色板304を第1読取部19で撮像して白の異物検知を行う。 - 特許庁

To provide a cleaning method for an ashing residual in which a cleaning property for the ashing residual is improved and not only metal wiring is hardly corroded but also removability from a semiconductor wafer after cleaning is improved even when a porous film is used as an insulating film.例文帳に追加

アッシング残渣の洗浄性に優れ、かつ金属配線の腐食を生じにくいだけでなく、絶縁膜として多孔質膜を用いた場合にも、洗浄後の半導体用基板からの除去性に優れたアッシング残渣の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The cleaning device includes a cleaning brush 36 where brush fiber having the proximity of the tip coated with a coating layer of 1E+12 Ω/square or more is arranged on the whole circumference of a core metal spirally at high density, and a recovery roller 37 for recovering a collection object collected by the cleaning brush 36.例文帳に追加

芯金の全周に先端部近傍にのみ1E+12Ω/□以上の被覆層をコーティングしたブラシ繊維を高密度で螺旋状に配置したクリーニングブラシ36と、クリーニングブラシ36で捕集した被捕集物を回収する回収ローラ37と、を備えている。 - 特許庁

To provide a cleaning/rust preventing composition having cleaning property and rust preventing property in combination and capable of unifying two steps of a cleaning step and a rust-preventing step into one step and reducing the load for the management of oil to be used in a conventional metal working process or the like.例文帳に追加

従来の金属加工工程等において、洗浄工程とさび止め工程の二つの工程を一元化することが可能になるとともに、使用油管理の負担の低減を図ることができる、洗浄性とさび止め性を兼ね備えた洗浄兼さび止め油組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide cleaning liquid for a substrate for a semiconductor device capable of simultaneously removing particle contaminants, organic contaminants and metal contaminants without corroding any surface of the substrate and capable of highly cleaning the surface of the substrate in a short time wherein water rinse nature is also good, and a cleaning method.例文帳に追加

基板表面を腐食することなくパーティクル汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板及び洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The method of cleaning is such that the ethylene-unsaturated carboxylic ester copolymer or its metal neutralization product in the extruder is purged by providing the resin composition for cleaning of the invention into the extruder before molding of the polyolefin resin and then melt-extruding the resin composition for cleaning of the invention while heating.例文帳に追加

洗浄方法は、ポリオレフィン系樹脂の成形前に押出成形機に本発明の洗浄用樹脂組成物を供給し、加熱下に溶融押出しすることにより、成形機内のエチレン−不飽和カルボン酸共重合体あるいはその金属中和物をパージする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning material constituted so as to ensure the thermal impact resistance to an instantaneous high temperature occurring each occasion at the time of regenerative combustion by uniformly carrying a catalyst on an exhaust gas cleaning material made of a metal to prevent the cracking or melting loss of the exhaust gas cleaning material accompanying a thermal shock.例文帳に追加

金属製の排ガス浄化材に触媒を均一に担持させることによって再生燃焼時に時々発生する瞬間的な高温に対する耐熱衝撃性を確保し、熱衝撃に伴う排ガス浄化材の亀裂や溶損などを防ぐことが可能な排ガス浄化材を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a method for producing a copper phthalocyanine crude by cleaning unpurified copper phthalocyanine, the cleaning is done with an inorganic base solution, such as an alkali metal hydroxide solution.例文帳に追加

銅フタロシアニン未精製物を洗浄して、銅フタロシアニンクルードを得る銅フタロシアニンクルードの製法において、銅フタロシアニン未精製物を少なくともアルカリ金属水酸化物等の無機塩基溶液で洗浄する。 - 特許庁

To obtain an improved cleaning composition for metals, more practically, an improved cleaning composition for metals which improves metal saturation and crystallization in microetching at fabrication of a microelectronic package.例文帳に追加

金属用の改良された洗浄用組成物、より具体的には、マイクロ電子パッケージの製造におけるマイクロエッチングの間の、金属飽和および結晶化を改良する金属用の改良された洗浄用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali metal-free alkali detergent used for cleaning for the purpose of uniformly applying plating to a semiconductor wafer or the like and for alkali cleaning for the purpose of improving its wettability.例文帳に追加

半導体ウエハーなどに均一にめっきを施すために行う、洗浄および濡れ性向上のためのアルカリ性洗浄に使用する洗浄剤であって、アルカリ金属を含まないアルカリ性洗浄剤を提供すること。 - 特許庁

This method is for cleaning the gas by removing the harmful chemical substances in the gas, and cleaning is performed by water containing metal components with a catalyst action.例文帳に追加

本発明の方法は、気体中の有害化学物質を除去することにより気体を清浄化する方法であって、触媒作用を有する金属成分を含む水により清浄化することを特徴とする。 - 特許庁

Moreover, in the method for cleaning the ceramics susceptor 2 having the semiconductor setting surface 2a, a complexing agent to form a complex with the metal atom is used for the cleaning process.例文帳に追加

また、半導体設置面2aを有するセラミック製サセプター2を洗浄する方法であって、金属原子と錯体を形成する錯化剤を用いて洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a combined contaminated soil cleaning apparatus performing cleaning of the soil combined-contaminated by heavy metal, a volatile organic compound (VOC) such as a light oil having a low vaporization temperature, trichloroethylene and benzene, dioxin or the like.例文帳に追加

重金属や蒸発温度の低い軽質油やトリクロロエチレン、ベンゼン等の揮発性有機化合物(VOC)、ダイオキシン等で複合汚染された土壌を浄化処理する複合汚染土壌浄化処理装置の提供。 - 特許庁

To detect an electrolytic current before the electrolytic current is reduced by the adhesion of scale to an electrode in a water cleaning apparatus for cleaning water by flocculation action posessed by a metal hydrate generated by electrolysis.例文帳に追加

電気分解により生成する金属水和物のもつ凝集作用により浄化する水浄化装置において、電極へのスケール付着等で電解電流が減少する前に検知する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas purification catalyst that reduces catalyst metal scattering in an atom or molecule level, a method for manufacturing the same, an exhaust gas cleaning filter, a method for manufacturing the same, and an exhaust gas cleaning device.例文帳に追加

原子または分子レベルでの触媒金属飛散を低減させた排ガス浄化触媒とその製造方法、および、排ガス浄化フィルタとその製造方法、および、排ガス浄化装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning catalyst, particularly, a catalyst capable of cleaning the exhaust from a two-stroke two-wheel vehicle in excellent performance, which is manufactured by using inexpensive ruthenium stable in price without using an expensive noble metal.例文帳に追加

高価な貴金属を使用せず価格が安定で廉価なルテニウムを用いて、排気ガスの浄化用触媒、特に2ストローク二輪車の排気ガスに使用可能な優れた浄化性能を有する触媒を提供する。 - 特許庁

The catalyst 10 for cleaning exhaust gas is provided with: a honeycomb carrier 1; an undercoat layer 2; and an exhaust gas cleaning catalyst layer 3 containing catalyst powder in which a noble metal is restrained from being agglomerated while being dispersed highly.例文帳に追加

排気ガス浄化用触媒10は、ハニカム担体1と、アンダーコート層2と、貴金属が高分散しつつ凝集が抑制された触媒粉末を含む排気ガス浄化触媒層3と、を備えている。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst system is provided with a noble metal catalyst and the exhaust gas cleaning catalyst arranged in series in this order in the direction of the exhaust gas flow in the passage of the exhaust gas.例文帳に追加

排気ガス流路に排気ガスの流れ方向に対して、排ガス浄化用触媒とNOx浄化触媒をこの順で直列に配置して成る排ガス浄化用触媒システム。 - 特許庁

To provide an improved brazing filler metal for cleaning and repairing engine parts, and provide a more rapid and sure method for cleaning of gas- turbine engine parts which is required for application of brazing.例文帳に追加

エンジン部品を清浄化・修理するための改善されたろう付け材料、および、ろう付けを施す上で必要なガスタービンエンジンの部品を清浄化するための、より迅速で確実な方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the manufacturing method of the semiconductor device includes a process of cleaning and removing side wall deposits 6 and resist residues on the metal wiring layer made of aluminum alloy using those compositions for semiconductor cleaning.例文帳に追加

さらにこれらの半導体洗浄用組成物を用いてアルミニウム合金から構成される金属配線層3の側壁堆積物6やレジスト残渣を洗浄除去する工程を有する。 - 特許庁

In further another embodiment, the catalyst for cleaning exhaust gas is obtained by forming a catalyst layer, which contains the cleaning catalyst containing the transition metal oxide and having the oxygen-electron bond energy of ≥528.8 eV, on an integral structured carrier.例文帳に追加

排ガス用浄化触媒は、遷移金属酸化物を含有し、酸素の電子の結合エネルギーが528.8eV以上である浄化触媒を含有する触媒層を一体構造型担体に形成して成る。 - 特許庁

To provide a powdered cleaning composition for automated machines that clean hard articles, the cleaning composition having high scale adhesion-inhibiting effect and high detergency to a thermally modified oil without substantially using a hydroxide of an alkali metal.例文帳に追加

アルカリ金属の水酸化物を実質的に使用せずに、高いスケール付着抑制効果と熱変性油に対する高い洗浄性を有する、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent a faulty cleaning due to a foreign matter such as paper powder held between an image carrier and a cleaning member such as a scraper made of metal from occurring.例文帳に追加

像担持体と金属製スクレーパ等のクリーニング部材との間に紙粉等の異物が挟み込まれることによって生じるクリーニング不良を防止する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a semiconductor substrate which does not make metal wiring be eluted without generating a spot on the surface of a semiconductor substrate, and to provide a semiconductor substrate processing device used for such cleaning.例文帳に追加

半導体基板の表面にシミを発生させず、しかも、金属配線を溶出させることのない半導体基板の洗浄方法と、そのような洗浄に使用される半導体基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning device for consistently taking slag of high impurity concentration out of a crucible when removing impurities from a material (in particular, metal) containing impurities by a melting method by using a cooling crucible.例文帳に追加

不純物を含む材料(特に金属)から冷却坩堝を用いて溶融法によって不純物を除去する際に、不純物濃度が高いスラグを坩堝外に安定して取り出すことができる浄化方法及び浄化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning-drying apparatus which improves characteristics and yield of a semiconductor device by preventing metal impurities and particles or impurities in pure water from sticking to an object surface to be cleaned and by performing pure cleaning.例文帳に追加

被洗浄物表面に金属不純物やパーティクルあるいは純水中の不純物が付着するのを抑制し、清浄な洗浄を行うことで、半導体装置の特性や歩留りを向上できる洗浄乾燥装置を得る。 - 特許庁

To provide a method capable of inexpensively manufacturing ceramics having a catalytic action and cleaning exhaust gas without using an expensive noble metal, and to provide a converter for cleaning exhaust gas utilizing the ceramics.例文帳に追加

セラミックス自体が触媒作用を有し、高価な貴金属を使用する必要がなく、安価に製造できる排気ガス浄化用のセラミックスの製造方法及びそれを利用した排気ガス浄化用コンバータを提供する。 - 特許庁

There is provided an air ventilating-cleaning device introducing outdoor air indoors after allowing it to pass through a metal oxide filter 5 and a zeolite/photocatalyst filter 6 by a fan 8 for cleaning.例文帳に追加

ファン8により,室外空気は金属酸化物フィルタ5およびゼオライト/光触媒フィルタ6を通過して浄化された後,室内に導入されるようにした空気換気浄化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition of a cleaning agent for metal, which has adequate foamability, and improved cleanability and durability of a cleaning liquid (capability of keeping detergency even after having been repeatedly used).例文帳に追加

適度な発泡性を有し、洗浄性、洗浄液の耐久性(繰り返し洗浄でも洗浄力を維持できる等)が向上した金属用洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

例文

A silicon substrate 100 provided with a partially exposed metal wiring is supplied with a cleaning liquid 123, and the surface of silicon substrate 100 is covered with the cleaning liquid 123.例文帳に追加

部分的に露出した金属配線が設けられているシリコン基板100上に洗浄液123を供給し、該洗浄液123によってシリコン基板100の表面を覆う。 - 特許庁

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