「metal cleaning」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate cleaning device capable of removing a metal contaminant and an organic contaminant accumulated in the device.例文帳に追加

装置内に蓄積された金属汚染物質や有機汚染物質を除去することができる基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst is obtained by the method and has an at least 1.0% concentration of the noble metal carried by the porous body.例文帳に追加

上記排ガス浄化触媒製造方法より得られ多孔質体への貴金属担持濃度が１．０％以上である排ガス浄化触媒である。 - 特許庁

To easily remove a metal oxide film attached in a reaction chamber though cleaning is performed with remote plasma.例文帳に追加

リモートプラズマを用いたクリーニングでありながら、反応室内に付着した金属酸化膜を容易に除去することができるようにする。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid which can remove particles, organic impurities and metal impurities while preventing damage to a device.例文帳に追加

デバイスに与えるダメージを抑制しつつ、パーティクル、有機不純物および金属不純物を除去することが可能な洗浄液を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning catalyst requiring little amount of activated metal, causing little lowering of activity even in a long time use under a high temperature condition.例文帳に追加

活性金属の必要量が少なく、高温の条件下で長期間使用しても活性が低下し難い排ガス浄化触媒等を提供する。 - 特許庁

To easily achieve the electrolytic cleaning of a metal work irrespective of the size and shape thereof without using any electrolytic tank.例文帳に追加

電解槽を用いないで、金属製の被洗浄物を大きさや形状等に関わらず容易に電解洗浄を行う。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning catalyst prepared by this manufacturing method, a catalyst containing a third metal component in addition to Ru and Pd and a method for manufacturing the same are also disclosed.例文帳に追加

また、ＲｕとＰｄに加えて、第三の金属成分を含む触媒とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method wherein an unnecessary compound metal oxide film can be removed without damaging a processing container.例文帳に追加

処理容器に損傷を極力与えることなく不要な複合金属酸化物膜を除去することができるクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

Since the soot collides with the stepped portion and is temporarily caught, the contact probability of the soot with a catalyst metal increases to improve a soot cleaning performance.例文帳に追加

段差部にスートが衝突して一時捕捉されるため、スートと触媒金属との接触確率が高まり、スート浄化性能が向上する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning an exhaust gas excellent in an exhaust gas diffusibility and capable of suppressing sintering of a noble metal, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

排ガス拡散性に優れ、貴金属のシンタリングを抑制し得る排ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A cleaning catalyst is applied and carried on the entire surface of the honeycomb core body 15 and the inner surface of the outer cylinder 16 to form the rolled metal carrier.例文帳に追加

そして、ハニカムコア体１５の全面及び外筒１６の内面にコーティングされて、浄化用触媒が担持され、巻回型メタル担体となる。 - 特許庁

The present invention also relates to a method for cleaning the multi-metal microelectronic device using the composition of present invention.例文帳に追加

本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning silicon wafers that effectively removes metal impurities from silicon wafer surface and improves the surface roughness of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエハー表面の金属不純物を有効に除去すると共に、シリコンウエハーの表面粗さを改善させなること。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning an exhaust gas which suppresses poisoning by sulfur and suppresses sintering of a catalytic noble metal.例文帳に追加

硫黄被毒を抑制し、かつ触媒貴金属のシンタリングを抑制した排ガス浄化用触媒を提供する。 - 特許庁

On the rear side of the mounting plane 101 of the cleaning blade 16, the reinforcing member 102 composed of a metal plate or the like is fixed.例文帳に追加

クリーニングブレード１６の取り付け面１０１の裏面には、板金等で形成された補強部材１０２が固定されている。 - 特許庁

The process C is for washing the metal material surface with cleaning water having 20-60°C of temperature, for a time from one minute to 12 hours.例文帳に追加

工程（Ｃ）：金属材料の表面を、２０〜６０℃の洗浄水で１分以上１２時間以下の時間、洗浄する工程。 - 特許庁

To provide a metal mask for forming a crystal electrode film, with which spots are reduced after cleaning a crystal plate, and film blurrs of the electrode film are eliminated.例文帳に追加

水晶板を洗浄した後のシミを低減し、電極膜の膜ボケを無くした水晶電極成膜用メタルマスクを得る。 - 特許庁

When the noble metal is deposited on the Y_2O_3/Nd_2O_3-added particulate carrier, this exhaust gas cleaning catalyst having improved heat resistance can be obtained.例文帳に追加

以上よりＹ2Ｏ3とＮｄ2Ｏ3を添加した該粒子状担体に貴金属を担持することで、耐熱性が向上した排ガス浄化用触媒が得られる。 - 特許庁

To provide a method for cleansing wafers with high cleanliness and removing metal impurities attached on the surfaces of the wafer even when a spin cleaning operation is utilized.例文帳に追加

スピン洗浄を用いた場合であっても、ウエハ表面の金属不純物を除去でき、清浄度の高いウエハの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning metallic deposited by-products from the surface of a metal-organic matter chemical vapor depositing(MOCVD) chamber on the spot.例文帳に追加

金属−有機物化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）チャンバの表面から金属堆積副生成物を洗浄するためのその場方法を提供すること。 - 特許庁

RESIN-COATED METAL PANEL EXCELLENT IN CLEANING PROPERTIES, HDD CASE USING THE SAME, AND HDD APPARATUS USING HDD CASE例文帳に追加

清浄性に優れる樹脂被覆金属板、前記金属板を用いたＨＤＤケースおよび前記ＨＤＤケースを用いたＨＤＤ装置 - 特許庁

To provide a method and a device for producing ionized water useful for cleaning, which ionized water is completely free from metal impurities caused from electrodes or solid fine particles.例文帳に追加

電極に由来する金属不純物や固体微粒子の全くない洗浄用イオン水の製造方法とその製造装置を提供する。 - 特許庁

In this exhaust gas cleaning catalyst, Pd oxide is deposited on an Al oxide and the Al oxide is expressed by the formula: LnALO3 (wherein Ln is the noble metal).例文帳に追加

Ｐｄ酸化物がＡｌ酸化物に担持され、上記Ａｌ酸化物がＬｎＡｌＯ_３（Ｌｎ：希土類元素）である。 - 特許庁

The sheet metal 42 forms part of the storage case for storing toner scraped by the cleaning blade 41.例文帳に追加

板金４２は、クリーニング用ブレード４１が掻き落としたトナーを収容する収容ケースの一部となっている。 - 特許庁

To provide a method and a device for cleaning a semiconductor substrate, inexpensively and easily removing metal impurities contained inside a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板内部に含まれる金属不純物を低コストかつ容易に除去可能な半導体基板の洗浄方法および洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Specifically, part of a shield case of the charger 5 is formed from a sheet metal fixing the cleaning blade of the photoreceptor.例文帳に追加

つまり、帯電器５のシールドケースの一部が感光体のクリーニング用ブレードを固定する板金で構成されている構造となっている。 - 特許庁

Timing of cleaning may be before or after forming a primary metal layer with a dry method, as long as the timing is before forming a copper layer used as a conductor.例文帳に追加

洗浄するタイミングは、導体となる銅層を形成する前であれば、乾式法で１次金属層を形成する前でも良く、後でも良い。 - 特許庁

A thickness of the metal-containing barrier layer is not substantially changed by the hybrid in-situ dry cleaning process.例文帳に追加

前記金属含有バリア層の厚さは、ハイブリッドその場ドライクリーニングプロセスによって実質的には変化しない。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a semiconductor device which attains compatibility between the inhibition of dissolution of a gate metal material and the acquisition of a favorable contact resistance.例文帳に追加

ゲートメタル材料の溶解抑制と良好なコンタクト抵抗取得とを両立可能な半導体装置の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method which can improve efficiency in complexing a metal that has deposited on an inner part of a container, and to provide a treatment apparatus therefor.例文帳に追加

容器内部に付着した金属の錯体化の効率を向上させることができる洗浄方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, elimination of the dry cleaning process itself and so on are achieved to efficiently recover the raw material itself and the metal contained in the raw material.例文帳に追加

これにより、ドライクリーニング処理自体をなくすなどして原料自体の回収や原料に含まれる金属の回収を効率的に行う。 - 特許庁

To provide a token cleaning device capable of reliably removing stains such as fingermarks or metal powders accumulated in recessed parts of uneven patterns or scratches of token surfaces.例文帳に追加

メダル表面の凹凸模様や傷の窪みに溜まっている手垢や金属粉等の汚れを確実に除去する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus capable of adjusting the feed quantity of cloth and not generating dust such a metal powder or the like.例文帳に追加

布の送り量を調整することができ、かつ、金属粉等のダストが発生しない基板の清掃装置を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning exhaust gas, in which an expensive noble metal is not used so that this catalyst is made inexpensive and which is made to exhibit oxidative activity which is inferior to that of Pt or the like but is satisfactory.例文帳に追加

高価な貴金属を用いずに安価な触媒とするとともに、Ptなどには及ばずとも十分な酸化活性を発現できるようにする。 - 特許庁

To provide a environmentally friendly cleaning fluid, capable of preventing corrosion of metal, and simultaneously capable of reducing an etching amount of a polysilicone.例文帳に追加

親環境的であり、金属の腐食を防止することができるのと同時に、ポリシリコンのエッチング量を減らすことができる洗浄液を提供する。 - 特許庁

In the pretreatment method to hot dip plating, a metal is dipped into the cleaning agent prior to hot dip plating.例文帳に追加

また、溶融めっきに先立って、前記洗浄剤に金属を浸漬する溶融めっきの前処理方法である。 - 特許庁

To provide an exhaust cleaning catalyst capable of improving NOx conversion performance and reducing the quantity of a noble metal to be used.例文帳に追加

ＮＯｘ転化性能を向上させ、貴金属使用量を低減し得る排気浄化触媒を提供する。 - 特許庁

After wet cleaning, the low-pressure annealing of limited duration is performed at a high temperature to satisfactorily remove the absorbed components prior to metal deposition.例文帳に追加

湿式クリーニング後で、金属堆積前に、行われる高温での限られた時間の低圧アニールにより、吸収された成分は充分除去される。 - 特許庁

The cleaning sheet is suitably used to remove dust and/or dirt attached to the surface of the solid material such as glass, plastic, or metal.例文帳に追加

ガラス、プラスチック、金属等の固体の表面に付着した塵や汚れを除去するのに適したクリーニングシート。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a solid material to which metal salt is stuck where the oxidation in the surface of the solid material is suppressed.例文帳に追加

固体材料表面の酸化が抑制された、金属塩の付着した固体材料の洗浄方法の提供。 - 特許庁

To provide a simple cleaning device which is combined with a strainer comprised of a metal honeycomb featured by a low pressure loss, high strength, and others.例文帳に追加

低圧損・高強度等優れた特徴を有するメタルハニカムからなるストレーナと組合わせた簡単な洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To make cleaning of VOC contamination ground and reversal of ground strength compatible regardless of a kind of solidifying material added to a metal based reducing agent.例文帳に追加

金属系還元剤に添加する固化材の種類を問わず、ＶＯＣ汚染地盤の浄化と地盤強度の回復を両立すること。 - 特許庁

To prevent putting on an epitaxyial layer caused during cleaning by controlling metal fine particle not attached directly to the layer.例文帳に追加

シリコンエピタキシャル層へ金属微粒子が直に付着することを抑制し、洗浄に伴うピットの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a cleaning blade in which good adhesion of a holder metal and a blade member is obtained without applying an adhesive.例文帳に追加

接着剤を塗布することなく、ホルダー金具とブレード部材の良好な接着が得られるクリーニングブレードを提供する。 - 特許庁

Since the stationary cleaning is possible, it is possible to clean the sintered metal membrane without detaching the filter membrane even in a large scale filter, or the like.例文帳に追加

本発明により定置洗浄が可能となるので、大規模なろ過装置等においても、ろ過膜を取り外さずに洗浄することができる。 - 特許庁