「metal processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目)

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metal processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1689件

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HIGH STRENGTH BOLT MADE OF HIGH STRENGTH METAL MATERIAL CREATED BY SHEARING PROCESSING例文帳に追加

せん断変形加工により創製した高強度金属材料を素材とする高強度ボルト - 特許庁

To provide a metal elution method for eluting metal in a sample into as much liquid (pressurized thermal water) as possible, a metal analysis method using the metal elution method as pre-processing, and a metal elution device for performing the metal elution method.例文帳に追加

試料中の金属を極力多量の液体（加圧熱水）中に溶出させる金属溶出方法、その金属溶出方法を前処理として用いる金属分析方法、及び上記金属溶出方法を行うための金属溶出装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Damages made on the exposed surface of the lower layer metal film by the oxygen-based plasma processing are removed by performing hydrogen-based plasma processing.例文帳に追加

酸素系プラズマ処理によって下層金属膜の露出面にできたダメージを、水素系プラズマ処理を行って取り除く。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resin coated metal plate excellent in film processing adhesiveness even in a severe forming processing.例文帳に追加

厳しい成形加工時においても、フィルム加工密着性に優れた樹脂被覆金属板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To exchange a roll without providing any roll exchanging rail inside a processing vessel in a metal strip processing apparatus.例文帳に追加

金属ストリップの処理装置において、処理容器の内部にロール交換用レールを設けることなく、ロールの交換を可能にする。 - 特許庁

例文

An inert gas is introduced into the processing chamber so that the metal vaporized material is not vaporized in a stage of raising the temperature in the processing chamber.例文帳に追加

処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING HEAVY METAL FROM PROCESSING RESIDUE OF FISHES AND SHELLFISHES AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID FERTILIZER FROM PROCESSING RESIDUE OF FISHES AND SHELLFISHES例文帳に追加

魚介類加工残滓より重金属を除去する方法および魚介類加工残滓より液体肥料を製造する方法 - 特許庁

The first coating layers 64 are made of a low melting-point metal and formed by applying molten processing to this low melting-point metal.例文帳に追加

第１コート層６４は低融点金属からなり、この低融点金属に対して溶融処理を施すことによって形成される。 - 特許庁

METAL MATERIAL FOR ELECTRONIC COMPONENT, ELECTRONIC COMPONENT, ELECTRONIC DEVICE, PROCESS FOR PROCESSING METAL MATERIAL, PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC OPTICAL COMPONENT例文帳に追加

電子部品用金属材料、電子部品、電子機器、金属材料の加工方法、電子部品の製造方法及び電子光学部品 - 特許庁

例文

RESIN-COATED METAL SHEET WITH EXCELLENT PROCESSING, WELDING AND CORROSION RESISTANCE PROPERTIES, AND FINISHED PIECE AND PRODUCTION PROCESS USING THE RESIN-COATED METAL SHEET例文帳に追加

加工性、溶接性および耐食性に優れた樹脂被覆金属板、並びに該樹脂被覆金属板を用いた加工品とその製法 - 特許庁

例文

After irradiating locally a metal film forming a spacer layer 6 with an Ar ion beam, the metal film is subjected to an oxidation processing.例文帳に追加

スペーサ層６を形成する金属膜に局所的にＡｒイオンビームを照射し、そののちに当該金属膜を酸化処理する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an endless metal belt which can restrain change of the circumferential length of the endless metal belt to which shot peening processing is applied.例文帳に追加

ショットピーニング処理が施された無端金属ベルトの周長の変化を抑制できる無端金属ベルトの製造方法の提供。 - 特許庁

Furthermore, the heating processing is performed at the same time as the metal film 13 is formed, and the metal film 15 containing oxygen may be formed on the high fusion point metal silicide layer 12 at the same time as the metal film 13 is formed.例文帳に追加

また上記熱処理を金属膜１３の成膜と同時に行って、金属膜１３を形成すると同時に高融点金属シリサイド層１２上に酸素を含む金属膜１５を形成してもよい。 - 特許庁

To provide a processing liquid capable of suppressing pattern collapse of a fine metal structure such as a semiconductor device or a micromachine, and to provide a method for producing a fine metal structure by using the processing liquid.例文帳に追加

半導体装置やマイクロマシンといった金属微細構造体のパターン倒壊を抑制しうる処理液及びこれを用いた金属微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition which is used for laminating to metal cans and does not whiten the laminated layers, even when subjected a laminated metal plate to a deep drawing processing or a stretching processing.例文帳に追加

ラミネートされた金属板を製缶加工の一工程である深絞り加工や延伸加工に供してもラミネート層に白化を起こさない金属缶ラミネート用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a processing unit for removing a native oxide of a metal that is formed on the surface of the metal film on a wafer W and polishing units 16 and 17 for performing chemical mechanical polishing of the metal film of the wafer W.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェハＷ上の金属被膜の表面に形成された該金属の自然酸化膜を除去する処理ユニットと、ウェハＷの金属被膜を化学機械的研磨する研磨ユニット１６，１７とを備えている。 - 特許庁

The noise absorbing fabric is provided in which metal is subjected to metal processing on at least one surface of the fabric, wherein the common logarithmic value of the surface resistivity of the surface subjected to the metal processing is within the range of 0-4.例文帳に追加

布帛の少なくとも一方の面に、金属が金属加工されたノイズ吸収布帛であって、金属加工された面の表面抵抗率の常用対数値が、０〜４の範囲内にあることを特徴とするノイズ吸収布帛。 - 特許庁

This metal like decorative film is constituted by applying hairline processing to one side of the polyester film, providing the metal vapor deposition layer on the hairline processing surface of the polyester and providing a thermoplastic resin film on the surface of the metal vapor depostion layer.例文帳に追加

本発明の化粧フィルムは、ポリエステルフィルムの片面にヘアライン加工が施され、該ヘアライン加工面に金属蒸着層が設けられ、その金属蒸着面に熱可塑性樹脂フィルムが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an aqueous lubricant composition for processing metal materials which is excellent in processability, degreasing property and operational environmental property and is suitably employed in the field of plastic processing of various metal materials, particularly nonferrous metal materials such as magnesium-based or aluminum-based ones, particularly in the field of warm press processing.例文帳に追加

加工性、脱脂性及び作業環境性などに優れ、各種金属材料、特にマグネシウム系やアルミニウム系の非鉄金属材料の塑性加工分野、とりわけ温間プレス加工分野において好適に用いられる水系金属材料加工用潤滑剤組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing device for processing molten resin disposable as it is without using a core (winding core) made of paper, resin or metal.例文帳に追加

紙製または樹脂製または金属製のコア（巻き芯）を使用せずにそのまま廃棄等が可能な溶融樹脂の処理を行う処理方法及び処理装置に関する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method of achieving accurate processing of a semiconductor device with a high-k/metal structure by accurately detecting an end point of the plasma processing of the semiconductor device.例文帳に追加

Ｈｉｇｈ−ｋ／メタル構造を有する半導体素子のプラズマ処理の終点を高精度に検知して高精度加工を実現するプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING LIQUID SUPPRESSING ADSORPTION OF METAL THERETO, PREPARING METHOD FOR PROCESSING LIQUID, AND PROCESSING METHOD THEREFOR USING THE SAME例文帳に追加

半導体基板への金属の吸着を抑制した半導体基板用処理液及びこの処理液の調製方法並びにこれを用いた半導体基板の処理方法 - 特許庁

It is also possible that a metal plate or a composite material of metal and ceramic is placed on the processing object mounting surface of the ceramic heater to which the processing object is mounted, and at least the metal plate or a composite material of metal and ceramic is covered with the covering material having a heat conductivity of 200 W/mK or higher.例文帳に追加

被処理物を搭載するセラミックスヒータの被処理物搭載面上に、金属板あるいは金属とセラミックスの複合体の板を載せ、少なくとも金属板あるいは金属とセラミックスの複合体の板の上に、熱伝導率２００Ｗ／ｍＫ以上の被覆材料を被覆してもよい。 - 特許庁

The method for processing a semiconductor substrate includes a first processing step for polishing the metal layer on a barrier layer, a second processing step for oxidizing the metal layer left on the insulating layer by supplying an oxidizing processing liquid after the first processing step, and a third processing step for polishing the oxidized metal layer with a chemical/mechanical water system dispersing element after the second processing step.例文帳に追加

本発明の半導体基板の処理方法は、バリア層上の金属層を研磨する第１の処理工程と、前記第１の処理工程後において、前記絶縁層の上に残留する金属層を、酸化性の処理液を供給することにより酸化させる第２の処理工程と、前記第２の処理工程後において、酸化処理された金属層を、化学機械研磨用水系分散体を用いて研磨する第３の処理工程と、を含む。 - 特許庁

The first reflecting layer 42 consists of a first metal material, and a second reflecting layer 44 consists of a second metal material having a higher resistance against a pattern processing than the first metal material.例文帳に追加