「pattern drawing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

LASER BEAM IRRADIATION DEVICE, LASER BEAM IRRADIATION METHOD AND PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加

レーザ照射装置、レーザ照射方法、及びパタン描画方法 - 特許庁

A pattern by drawing equally-spaced parallel lines vertically as well as horizontally. 例文帳に追加

縦横に一定の幅で線を描き格子状にした文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

a fabric pattern obtained by drawing on a wet surface with India ink and then transfering the design to cloth, called 'nagashisumi' 例文帳に追加

墨流しという技法を用いて写し取った模様 - EDR日英対訳辞書

POSITION DETECTION DEVICE, PATTERN DRAWING APPARATUS, AND POSITION DETECTING METHOD例文帳に追加

位置検出装置、パターン描画装置および位置検出方法 - 特許庁

PATTERN DRAWING METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画方法及び装置 - 特許庁

To provide a device and method for drawing a pattern which can determine the quality of focus adjustment, while drawing the pattern.例文帳に追加

パターン描画中に焦点調整の良否を行うことができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING UNEVEN PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ELECTRONIC BEAM DRAWING, MICROSCOPIC PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVE-CONVEX PATTERN SUPPORTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

When the membrane mask is to be manufactured, correction is made according to strain after etching in pattern drawing, in advance at drawing of the mask pattern.例文帳に追加

メンプレンマスク作製において、エッチング後の歪みに応じてあらかじめパターン描画時に補正をしてマスクパターンを描画する。 - 特許庁

The design device generates checking drawing data 26 obtained by removing the outer serif pattern and the inner serif pattern from the drawing data 24, and verifies the shape of a drawing pattern included in the checking drawing data 26 according to a verification rule.例文帳に追加

そして、設計装置は、アウターセリフパターン，インナーセリフパターンを描画データ２４から除去したチェック用描画データ２６を生成し、そのチェック用描画データ２６に含まれる描画用パターンの形状を検証ルールに従って検証する。 - 特許庁

Then, based on the result of the jackpot drawing, the Pachinko game machine stops the pattern showing the result of the drawing after a special pattern for showing the result of the drawing is varied.例文帳に追加

そして、大当たり抽選の抽選結果に基づき、当該抽選結果を示すための特別図柄を変動させた後、抽選結果を示す図柄で停止させる。 - 特許庁

To provide a pattern data high-speed drawing method of large-scale pattern data for rapidly and rationally drawing large-scale pattern data expressed by XY coordinate on a display device, and a pattern data high-speed drawing device suitable for the execution of the method.例文帳に追加

ＸＹ座標で表現される大規模図形データを、ディスプレイ装置上に迅速かつ合理的に描画する大規模図形データ高速描画方法および該方法の実行に適する図形データ高速描画装置を提供する。 - 特許庁

MATERIAL FOR DRAWING MINUTE PATTERN AND METHOD FOR MINUTE PROCESSING USING THE MATERIAL例文帳に追加

微細パターン描画材料及びそれを用いた微細加工方法 - 特許庁

Current pattern of a drawing 2 is for controlling a lift quantity of a valve.例文帳に追加

バルブのリフト量を制御するために、図２の通電パターンがある。 - 特許庁

The photomask drawing device suitable for the classified pattern data is chosen.例文帳に追加

分類されたパターンデータに適したフォトマスク描画装置を選択する。 - 特許庁

The control section 40 acquires an image drawing pattern corresponding to two-dimensional image data and displays the image drawing pattern on the three-dimensional display device 20.例文帳に追加

制御部４０は、二次元画像データに対応する描画パターンを取得し、描画パターンを三次元表示デバイス２０に表示する。 - 特許庁

PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ORIGINAL MOLD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND MANUFACTURING METHOD OF INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

パターン描画装置、パターン描画方法、情報記録媒体製造用原盤の製造方法、および情報記録媒体の製造方法 - 特許庁

PATTERN DRAWING APPARATUS, PATTERN DRAWING METHOD, METHOD FOR MAKING MASTER FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR MAKING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

パターン描画装置、パターン描画方法、情報記録媒体製造用原盤の製造方法、および情報記録媒体の製造方法 - 特許庁

A pattern management part 5 outputs a color whose pattern is not set in drawing data to a color discrimination pattern setting part 6.例文帳に追加

パターン管理部５は描画データ中のパターンの設定されていない色を色識別パターン設定部６へ出力する。 - 特許庁

DRAWING METHOD FOR TEST PATTERN, IMAGING DEVICE, AND RECORDING MEDIUM ON WHICH TEST PATTERN IS FORMED例文帳に追加

テストパターンの描画方法、および画像形成装置、並びにテストパターンが形成された記録媒体。 - 特許庁

Specifically, the pattern that is drawn in the state is a pattern that does not require high drawing precision.例文帳に追加

但し、この状態で描画するパターンは、高い描画精度が必要とされないパターンとする。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, MICROPATTERN DRAWING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING RUGGED PATTERN CARRIER MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

To utilize a stage for a general exposure device, as it is, as a stage for pattern drawing of a mask-drawing device.例文帳に追加

マスク描画装置のパターン描画用のステージに、一般の露光装置用のステージをそのまま利用する。 - 特許庁

To provide: a generation method of pattern data for electron beam drawing, which can draw an excellent minute pattern without using a trial-and-error method by test drawing, in drawing a minute pattern using an electron beam drawing device; a proximity effect correction method used for it; and a pattern formation method using the data.例文帳に追加

電子線描画装置を用いて極小なパターンを描画する際、テスト描画による試行錯誤無しに、良好な極小パターンが描画できる電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step for dividing a pattern area which is an area to draw the electron beams into drawing areas; a step for specifying a drawing order to the divided drawing areas; a step for drawing the drawing area according to the drawing order; and a step for drawing the drawing areas in the reverse order of the drawing order.例文帳に追加

電子線描画を行う領域であるパターン領域を描画領域に分割する工程と、分割された描画領域に描画順序を指定する工程と、描画順序に従って描画領域を描画する工程と、描画順序とは逆順に描画領域を描画する工程と、を備えることを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device and a drawing method by which a pattern can be accurately and easily drawn even when the drawing region of the drawing pattern to be formed on the surface of a sample is large.例文帳に追加

試料の表面に形成する描画パターンの描画領域が大きい場合でも、描画パターンを正確、かつ容易に描画することができる荷電粒子ビーム描画装置および描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing system by which decline in throughput in the pattern drawing process can be suppressed even if number of light modulation devices is increased.例文帳に追加

光変調素子の数が増加しても、パターン描画工程におけるスループットの低下を抑えることができるパターン描画システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING IRRADIATION PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND DRAWING SYSTEM例文帳に追加

照射パターンデータ作成方法、マスク製造方法、及び描画システム - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus which is inexpensive and in which pattern forming processes are reduced, when patterns in mirror image relation with respect to a substrate are formed on both faces of the substrate and a pattern drawing method, and to provide an inspection apparatus in the pattern drawing apparatus.例文帳に追加

基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成する場合において、低コストで、工程が短縮化されたパターン描画装置およびパターン描画方法、ならびにこのパターン描画装置における検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a spatial light modulator having a high extinction ratio and to provide a pattern drawing apparatus, capable of drawing a pattern with an excellent drawing quality by mounting the spatial light modulator.例文帳に追加

高い消光比を有する空間光変調器および該空間光変調器を装備して優れた描画品質でパターンを描画することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet image-drawing method and an inkjet image-drawing apparatus, capable of drawing a highly accurate line pattern with a few scanning numbers in a short time.例文帳に追加

少ない走査数にて短時間に高精度な線パターンを描画できるインクジェット描画方法およびインクジェット描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask pattern, with which increase in a time period for drawing is suppressed and improvement of accuracy in drawing is possible.例文帳に追加

描画時間の増加を抑え、描画精度の向上が可能なマスクパターン作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge apparatus and a drawing method, capable of reliably distinguishing quality of a drawing pattern.例文帳に追加

確実に描画したパターンの良否を区別できる描画方法および液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank for drawing an electron beam capable of forming a three-dimensional resist pattern by one time drawing.例文帳に追加

１度の描画で立体的なレジストパターンを形成することができる電子線描画用マスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device capable of rapidly correcting a drawing position on a substrate by photography performed once.例文帳に追加

一度の撮影で迅速に基板の描画位置を補正することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING AND RECESSING PATTERN SUPPORT, AND MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

OPTICAL LENS BARREL, ELECTRON IRRADIATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF MASK DRAWING PATTERN例文帳に追加

光学鏡筒、電子照射方法、及びマスク描画パターンの製造方法 - 特許庁

COLORED DRAWING GENERATION SYSTEM BY SELECTING COLOR PATTERN AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

配色パターンの選択による彩色図面の作成システム及びその方法 - 特許庁

To provide a drawing device capable of speedily forming an exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンを速やかに作成することができる描画装置を提供する。 - 特許庁

REGION DIVIDING DEVICE, PATTERN DRAWING DEVICE, REGION DIVIDING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

領域分割装置、パターン描画装置、領域分割方法およびプログラム - 特許庁

A storage section 21 stores drawing data corresponding to the pattern to be drawn.例文帳に追加

記憶部２１は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。 - 特許庁

The drawing device 5 draws a pattern of an image 9 on the displacement shape 41.例文帳に追加

描画手段５は、変位形状４１に、画像９のパターンを描画する。 - 特許庁

The pattern data 11 are supplied to an EB drawing device, and the photomask is manufactured.例文帳に追加

パターンデータ１１をＥＢ描画装置に供給し、フォトマスクを製造する。 - 特許庁

POSITION DETECTING METHOD AND APPARATUS, PATTERN DRAWING APPARATUS, AND OBJECT TO BE DETECTED例文帳に追加

位置検出方法、位置検出装置、パターン描画装置及び被検出物 - 特許庁

In a judgement circuit 52, by collating the glitch position data and the drawing pattern data, whether the drawing pattern strides over the glitch occurrence position is judged.例文帳に追加

判定回路５２において、グリッチ位置データと描画パターンデータを照らし合わせることにより、描画パターンがグリッチ発生位置を跨ぐか否かを判定する。 - 特許庁