「pattern drawing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The concavo-convex shape on an exposure surface 14a of a drawing object 14 where a drawing pattern is to be formed is measured with a shape measuring device 28.例文帳に追加

描画パターンが形成される被描画体１４の露光面１４ａの凹凸形状を形状測定器２８で測定する。 - 特許庁

To decrease the number of exposure scanning times when a pattern drawing apparatus acts on a substrate having a plurality of drawing object regions.例文帳に追加

パターン描画装置が複数の描画対象領域を有する基板を対象とする場合における露光走査の回数を低減する。 - 特許庁

A first pattern is formed in a first region on the photomask according to the first drawing data 7 by using a first photomask drawing apparatus.例文帳に追加

第１フォトマスク描画装置を用いて第１描画データ７に従ってフォトマスク上の第１領域に第１パターンを形成する。 - 特許庁

To efficiently form a desired drawing pattern while realizing a pattern with high accuracy without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁

To form an accurate pattern without reducing a data processing speed even in the case of a high-density drawing pattern having a large data amount.例文帳に追加

データ量の多い高密度の描画パターンに対しても、データ処理スピードを落とすことなく高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus and a method therefor which can draw a line pattern with high position accuracy in a short time.例文帳に追加

高い位置精度の線パターンを短時間に描画することのできるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

The process bias Δ represents a reduction amount of a pattern to be actually formed on a drawing object with respect to the irradiation pattern.例文帳に追加

プロセスバイアスΔは、実際に被描画体に形成される形成パターンの前記照射パターンに対する縮小量である。 - 特許庁

The method requires no process of newly creating a drawing data for correcting a pattern edge, but allows real-time pattern edge correction.例文帳に追加

パターンのエッジを修正するための描画データを新たに作成する必要が無く、リアルタイムにパターンのエッジが修正される。 - 特許庁

When the hairline pattern of one separated area is drawn, the drawn hair line pattern is transferred to an image output device 6 by the raster drawing device 5.例文帳に追加

そして、ラスタ描画装置５は、一つの分割領域のヘアラインパターンを描画すると画像出力装置６に渡す。 - 特許庁

To efficiently form a desired drawing pattern on a substrate while obtaining a pattern with high resolution without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁

To provide a method which efficiently executes processing without increasing the capacity of pattern data when deforming the pattern data at the time of reticle drawing.例文帳に追加

レチクル描画時のパターンデータを変形する際に、パターンデータの容量を増やさずに効率よく処理する方法を提供する。 - 特許庁

The electron beam is thereby blanked in an interval from the drawing finish position of the pattern to the drawing start position of the next pattern, based on the drawing clock signal Bclk, and the patterns are drawn sequentially along the spiral track STr.例文帳に追加

これにより、この描画クロック信号Ｂｃｌｋに基づいて、あるパターンの描画終了位置から次のパターンの描画開始位置までの間に電子線がブランキングされ、スパイラルトラックＳＴｒに沿って順次パターンが描画される。 - 特許庁

To provide a drawing device and a drawing method that can securely reduce jaggedness that an image pattern has when the image pattern is drawn on an image recording medium using a plurality of drawing elements arrayed in two dimensions.例文帳に追加

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じるジャギーを確実に低減させることのできる描画装置及び描画方法を提供する。 - 特許庁

A drawing pattern acquisition part 32 acquires a drawing pattern 23 generated on the basis of a result of comparison of a numerical value successively generated from a given numeric row and an alpha value indicating a degree of transparency in composing the drawing objects, successively performed by every image element.例文帳に追加

描画パターン取得部３２は、所定の数値列から順に生成した数値と、図形オブジェクトの合成時の透明度を示すアルファ値とを画素ごとに順に比較した結果を基に生成された描画パターン２３を取得する。 - 特許庁

To provide a data management device of a pattern drawing apparatus capable of reducing the space for storing masks and the cost of management, as well as decreasing a burden of creating drawing data, and to provide a pattern drawing system including the data management device.例文帳に追加

マスクの保管スペースや管理コストを低減させるとともに、描画データの作成にかかる負担も低減させることができるパターン描画装置のデータ管理装置および当該データ管理装置を含むパターン描画システムを提供する。 - 特許庁

An entry to a special pattern start port 82 is made possible according to a winning in the preliminary primary drawing and preliminary secondary drawing is performed according to the entry to the special pattern start port 82.例文帳に追加

予備一次抽選に当選したことに応じて特別図柄始動口８２への入賞を可能とし、特別図柄始動口８２への入賞に応じて予備二次抽選を行う。 - 特許庁

To mask respective bits of attribute information holding the drawing pattern of special toner and to print the special toner even when drawing pattern information is eliminated.例文帳に追加

特殊トナーの描画パターンが保持されている属性情報の各ビットをマスク処理して描画パターン情報が消去された場合であっても特殊トナーを印刷できるようにする。 - 特許庁

To provide a fine-pattern drawing method for drawing while uniformly keeping a coating space of drops even in not only a straight line but also a complex pattern profile mixed with a curve, and to provide its apparatus.例文帳に追加

直線のみならず曲線を交えた複雑なパターン形状においても、液滴の塗布間隔を均一にして描画する微細パターンの描画方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

CPU is a continuous drawing pattern and displays a success (S201: YES), and if a special game has been over (S202: YES), the number of continuous games is decided according to the continuous drawing pattern (S203).例文帳に追加

ＣＰＵ６は、継続図柄で当たりが表示され（Ｓ２０１：ＹＥＳ）、特別遊技が終了していれば（Ｓ２０２：ＹＥＳ）、継続図柄に応じて継続ゲーム数を決定する（Ｓ２０３）。 - 特許庁

To provide a means capable of preventing generation of unevenness due to a periodical array pattern, minimizing a pattern dimension shift or a coordinate shift without greatly increasing a drawing amount or drawing time, and achieving high-accuracy drawing, in a method for creating a drawing data of a photomask for an image sensor.例文帳に追加

イメージセンサ用フォトマスクの描画データ作成方法において、周期的配列パターンによるムラの発生を防止することができ、かつ描画量や描画時間を大幅に増やさず、パターン寸法シフトや座標シフトを最小化でき、高精度な描画が可能な手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method capable of reducing processing time for correction of a proximity effect while maintaining high drawing precision of a drawing pattern in a proximity effect correction method in fine pattern drawing using an electron beam drawing device of high acceleration voltage.例文帳に追加

高加速電圧の電子線描画装置を用いた微細パターン描画における近接効果補正方法において、描画パターンの高い描画精度を維持しながら、近接効果補正のための処理時間を低減させることができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

In the slot machine, the residual degree of a prepaid card is monitored, and when the residual degree of the prepaid card becomes less than a threshold, by switching a drawing table used for winning prize pattern drawing from a first drawing table to a second drawing table, the winning probability of a small prize pattern "watermelon" is elevated from "1/10" to "1/5".例文帳に追加

スロットマシンは、プリペイドカードの残度数を監視し、プリペイドカードの残度数が閾値未満となると、当選役抽選に使用する抽選テーブルを第１抽選テーブルから第２抽選テーブルに切り替えることによって、小役「スイカ」の当選確率を「１／１０」から「１／５」に上昇させる。 - 特許庁

When a game ball passes through a passing port, drawing is performed by a normal pattern drawing means 300, and the opening/closing operation of a second start port is executed when winning in the drawing.例文帳に追加

通過口を遊技球が通過すると普通図柄抽選手段３００により抽選が行われ、この抽選に当選すると第２始動口の開閉動作が実行される。 - 特許庁

When a game ball passes through a passing port, drawing is performed by a normal pattern drawing means 300, and the opening/closing operation of a second start port is executed when winning in the drawing.例文帳に追加

通過口を遊技球が通過すると、普通図柄抽選手段３００により抽選が行われ、この抽選に当選すると第２始動口の開閉動作が実行される。 - 特許庁

To provide a pretreatment method in the direct drawing process of an organic film pattern onto a semiconductor substrate capable of preventing the problems of drawing properties or adhesion which occur easily when forming a film pattern of resist or an organic film pattern for passivation by direct drawing.例文帳に追加

直接描画法によりレジストの膜パターンやパッシベーション用などの有機膜パターンを形成する際に発生し易い描画性や密着性の問題を防ぐことのできる半導体基板への有機膜パターンの直接描画プロセスにおける前処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting data for drawing a mask pattern, which can be generally and practically used by determining the correction amount of an auxiliary pattern as the drawing data so as to improve the squareness of a mask pattern in the manufacture of a photomask employing a drawing apparatus using a charged beam such as an electron beam.例文帳に追加

電子線等の荷電ビームによる描画装置を用いたフォトマスクの製造において、マスクパターンの矩形性を向上させるため、描画データとしての補助パターンの補正量を決定し、汎用性があり実用的なマスクパターンの描画用データ補正方法を提供する。 - 特許庁

In the first type game specification, a player winning a special pattern drawing by lottery can receive many prize balls in a short time, and game properties can be visually improved by giving a twist to a pattern variation pattern performance to announce the result of the special pattern drawing.例文帳に追加

第１種の遊技仕様では特図抽選に当選することで短期間で多くの賞球を受けることが可能であり、かつ特図抽選結果の報知のための図柄変動パターン演出に趣向を凝らすことで、視覚的に遊技性を高めることができる。 - 特許庁

A main display control means 118 makes the first special pattern display device 70 variably display a first special pattern indicating the result of the first drawing and makes the second special pattern display device 71 variably display a second special pattern indicating the result of the second drawing.例文帳に追加

メイン表示制御手段１１８は、第１抽選の結果を示す第１特別図柄を第１特別図柄表示装置７０に変動表示させ、第２抽選の結果を示す第２特別図柄を第２特別図柄表示装置７１に変動表示させる。 - 特許庁

To reduce the total volume of pattern sketch data and easily prepare a sash working drawing in a short time, in a support program for a sash working drawing preparation.例文帳に追加

サッシの施工図作成支援プログラムにおいて、型図データ全体のデータ量を削減し、また、サッシの施工図を短時間で容易に作成する。 - 特許庁

To enhance the precision of a blushing correction irradiation amount and early start drawing of a pattern in a block frame whose drawing order is earliest.例文帳に追加

かぶり補正照射量の精度を向上させると共に、描画順序が最も早いブロック枠内のパターンの描画を早期に開始する。 - 特許庁

A pattern image is drawn on a mask blank after a photoresist is applied thereon, in a drawing chamber 100a in a vacuum state of a drawing means 100.例文帳に追加

描画手段１００の真空状態にある描画チャンバ１００ａ内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。 - 特許庁

The pattern drawing apparatus 1 includes a plurality of drawing units 4, each having a light source unit 30 which is minimized by using a packaged LED 311.例文帳に追加

パターン描画装置１は、複数の描画ユニット４を備え、これらが有する光源部３０をパッケージＬＥＤ３１１を用いて小型化する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus capable of performing high accuracy exposure drawing in which the amount of light can be changed properly in an irradiation optical system.例文帳に追加

照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, it is possible to start the pattern drawing in a short time as compared to the conventional technique in which the RIP processing is performed during drawing.例文帳に追加

したがって、描画処理中にＲＩＰ処理を行っていた従来技術に比べてパターン描画を短時間で開始することができる。 - 特許庁

The measuring method is disclosed which draws a drawing pattern for measurement by irradiating the base material for measurement with a beam and measures the precision of the drawing.例文帳に追加

測定用基材に対してビームを照射することにより測定用の描画パターンを描画して描画の精度を測定する測定方法。 - 特許庁

Because at this point, no drawing is conducted and drawing is conducted with timing of pushing buttons M1 to M5 to start the change display of the special figure pattern.例文帳に追加

この時点では、まだ抽選を行わないで、ボタンＭ１〜Ｍ５を押したタイミングで抽選を行い、特別図柄の変動表示を開始する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of drawing a chip pattern while varying shot conditions of a specific pattern included in one piece of lithographic data of the chip pattern.例文帳に追加

チップパターンの一つの描画データに含まれる特定のパターンのショット条件を変えながら、チップパターンを描画可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。 - 特許庁

To provide the signal pattern generation system which can display as a reference drawing another signal pattern relating to a signal pattern to be generated on the same screen.例文帳に追加

作成する信号パターンに関連する他の信号パターンを参考図として、同一画面に表示させることのできる信号パターン作成システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suppressing drawing abnormality of a pattern due to charges and suitable for forming a multi-level fine three-dimensional structural pattern.例文帳に追加

帯電によるパターンの描画異常を抑制し、かつ多段の微細な３次元構造パターンを形成するのに適したパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method by which a pattern including a linear portion and a branch branched therefrom can be formed and a transfer pattern in a desired figure can be left.例文帳に追加

線状部分及びそれから分岐した枝部を含むパターンを描画し、所望の形状の転写パターンを残すことが可能なパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

A processor is provided with a pattern operation program 307 for preparing a scheme drawing and a component drawing, a local dimension program 308 for defining a local dimension under an assembled condition in a rough scheme drawing, and a dimension display program 309 for displaying the local dimension input in the scheme drawing when a partial scheme drawing and the component drawing are prepared.例文帳に追加

処理装置は、計画図や部品図を作成するための図形操作プログラム３０７、概略計画図に組立状態での局所寸法を定義する局所寸法プログラム３０８、部分計画図や部品図を作成する際に計画図で入力した局所寸法を表示する寸法表示プログラム３０９を備える。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which draws patterns by correcting deformation caused in each drawing area in accordance with the deformation of an object for drawing with respect to the drawing data to draw a plurality of drawing areas including a face pattern on the object.例文帳に追加

面付パターンを含む複数の描画領域を、被描画体に描画するための描画データに対し、被描画体の変形に伴って各描画領域に生じる変形について補正して描画する露光装置を提供する。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 includes a bundle fiber 41, a lamp house 6, a stage unit 2 holding a substrate 9, a drawing unit 4 having a plurality of drawing heads 40, and a mechanism for relatively move the stage unit 2 and the drawing unit 4.例文帳に追加

パターン描画装置１は、バンドルファイバ４１、ランプハウス６、基板９を保持するステージユニット２、複数の描画ヘッド４０を有する描画ユニット４、並びに、ステージユニット２と描画ユニット４とを相対的に移動する機構を有する。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 has a bundle fiber 41, a lamp house 6, a stage unit 2 to hold a substrate 9, a drawing unit 4 having a plurality of drawing heads 40, and a mechanism to relatively transfer the stage unit 2 and the drawing unit 4.例文帳に追加

パターン描画装置１は、バンドルファイバ４１、ランプハウス６、基板９を保持するステージユニット２、複数の描画ヘッド４０を有する描画ユニット４、並びに、ステージユニット２と描画ユニット４とを相対的に移動する機構を有する。 - 特許庁

The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).例文帳に追加

パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁