「pattern drawing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern drawing method capable of drawing a pattern so that both ends on an inner peripheral side and an outer peripheral side of a formation region are linearly formed.例文帳に追加

形成領域における内周側および外周側の両端が直線的になるようにパターンを描画し得るパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

A fixed form pattern CP repeatedly appearing in a drawing pattern PW is extracted from the drawing pattern PW, and a series of fixed form raster data for exposure is stored in a memory in association with paste numbers.例文帳に追加

描画パターンＰＷから描画パターンに繰り返し現れる定形パターンＣＰを抽出し、一連の露光用定形ラスタデータを貼付番号と関連づけながらメモリに格納する。 - 特許庁

The notifying device 50 notifies prize winning of a specific pattern concerned with prize winning, out of plural kinds of patterns as a result of pattern drawing performed by a pattern drawing means 90.例文帳に追加

告知装置５０は、図柄抽選手段９０による図柄抽選の結果、複数種類の図柄のうち、入賞に係る特定図柄が当選したことを告知するものである。 - 特許庁

To provide a method for drawing a pattern by which repeated patterns can be drawn without causing pattern abnormality, and also to provide a method for manufacturing a photomask and a photomask, wherein high accuracy of pattern drawing is attained.例文帳に追加

パターン異常を生じさせずに繰り返しパターンが描画できるパターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスクを得、パターン描画の精度向上を図る。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加

タクトタイム（工程数）を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁

At the time of the start winning of the start winning port 13, a drawing means performs drawing for deciding the number of times of the pattern variation and the big winning drawing means performs big winning drawing corresponding to the decided number of times of the pattern variation.例文帳に追加

始動入賞口１３の始動入賞時に、抽選手段が図柄変動回数を決定するための抽選を行い、決定された図柄変動回数に対応して大当り抽選手段が大当り抽選を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming pattern data for lithography which forms light exposure pattern data and a charge particle drawing pattern data by separating a pattern suitable for light exposure and a pattern inadequate for the same.例文帳に追加

光露光に適したパターンと、不適切なパターンを分離して光露光パターンデータと荷電粒子描画パターンデータを生成するリソグラフィ用パターンデータ生成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for achieving highly accurate pattern drawing based on a relative position of a drawing position of a drawing unit and a substrate.例文帳に追加

描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a drawing apparatus capable of drawing a test pattern for adjusting alignment at a high speed and at a high adjusting resolution level, and to provide a drawing method.例文帳に追加

アライメント調整用のテストパターンを高速且つ高い調整分解能レベルで描画可能な描画装置、および描画方法を提供すること。 - 特許庁

When the number of times of pattern variation reaches 1,000 without winning, the drawing state of the reporting drawing is shifted to a drawing state E.例文帳に追加

当たりに当選することなく図柄の変動回数が１０００回に達すると報知抽選の抽選状態が抽選状態Ｅに移行する。 - 特許庁

When a game ball enters a start port, by a special pattern drawing means 400, drawing including losing and first-third big winnings in drawing results is performed.例文帳に追加

始動口に入賞すると、特別図柄抽選手段４００により、外れおよび第１〜第３の大当たりを抽選結果に含む抽選が行われる。 - 特許庁

To improve precision of a drawing position of a pattern in a continuous drawing-type EB mask drawing device.例文帳に追加

本発明は、連続描画型のＥＢマスク描画装置において、パターンの描画位置の精度をより向上できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

In the drawing method, data 1 are read as pattern layout data and data 2 are read as a drawing information in a step S_1 to produce a path figure, showing the profile of the boundary part and a pattern in the boundary part (shown as an original pattern hereinafter) upon producing the pattern data for drawing the boundary part.例文帳に追加

本方法では、境界部描画用のパターンデータを作成する際、ステップＳ_１ で、パターンレイアウトデータとしてデータ１を、描画情報としてデータ２を読み込み、境界部の輪郭及び境界部内のパターン（以下、元パターンと言う）を示すパス図形を生成する。 - 特許庁

To provide a method by which the drawing precision of a pattern to be drawn succeeding to a certain drawing pattern can be known simply in a short time before drawing when patterns of different dimensions are drawn on a material on which a pattern is drawn.例文帳に追加

被描画材料上に異なった寸法のパターンを描く場合、その描画前に、或る描画パターンに対し次に描かれるパターンの描画精度を極めて簡単に且つ短時間に知ることが出来る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a board for drawing a conductive pattern capable of forming the fine conductive pattern in a simple manner and a method for forming the conductive pattern.例文帳に追加

微細な導電パターンを簡易に形成できる導電パターン描画用基板および導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

If drawing of drawing data by brush pattern has been specified when an image is formed after performing predetermined screening of the drawing data using a predetermined dither pattern, a laser printer performs screening by using a brush pattern specified for the drawing data in place of the dither pattern (steps S101-S102).例文帳に追加

レーザプリンタは、描画データに対して所定のディザパターンを用いて所定のスクリーニング処理を施した後に画像形成する際に、当該描画データがブラシパターンによる描画が指定されていると、ディザパターンの代わりに当該描画データに対して指定されているブラシパターンを用いてスクリーニングする（ステップＳ１０１〜Ｓ１０２）。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method for providing high drawing qualities while preventing fluctuation in air on the optical path of an optical system in a light irradiation part.例文帳に追加

光照射部において光学系の光路上に空気の揺らぎが発生することを防止し、高い描画品質を得ることができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

The data creating device separates a pattern having a drawing area larger than a threshold area from a pattern having a drawing area equal to or smaller than the threshold area, and creates the respective reticle drawing data 14b, 14c.例文帳に追加

データ作成装置は、描画面積がしきい値面積より大きなパターンと、描画面積がしきい値面積以下のパターンとを分離してそれぞれレチクル描画データ１４ｂ，１４ｃを作成する。 - 特許庁

Pattern data for performing image drawing are divided into a part for performing image drawing by a variable shaping system, and a part for performing image drawing by a collective figure system by using a data dividing device 102, and two pattern data are formed.例文帳に追加

描画を行うパターンデータをデータ分割装置１０２により可変成形方式で描画を行う部分と一括図形方式で描画を行う部分に分割し、２つのパターンデータを作成する。 - 特許庁

The notification control means 140 drives the notifying device 50 when notification drawing of the notification drawing means 130 results in driving of the notifying means 50 and pattern drawing of the pattern drawing means 90 results in prize winning of the specific pattern.例文帳に追加

告知制御手段１４０は、告知抽選手段１３０による告知抽選の結果が、告知装置５０の駆動の有りの場合で、且つ図柄抽選手段９０による図柄抽選の結果、特定図柄が当選したときに、告知装置５０を駆動するためのものである。 - 特許庁

To provide a drawing method applicable to an ordinary drawing system using a positive resist and drawing patterns by irradiating the portions where there is no pattern data with an electron beam or laser beam in the drawing method for a photomask with the additional patterns provided with the additional patterns for making the pattern density of the photomask uniform and to provide a method for forming the pattern data used therefor.例文帳に追加

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、通常の描画方式に適用できる描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure drawing device, forming an alignment mark required for drawing a circuit pattern on both sides of a substrate.例文帳に追加

回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の両面に形成するようにする露光描画装置を提供する。 - 特許庁

A main control means determines the variation form of the decorative pattern column on the basis of the drawing result of a drawing means.例文帳に追加

主制御手段は、抽選手段の抽選結果に基づいて装飾図柄列の変動態様を決定する。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing device for precisely drawing a desired pattern on a substrate by using an electron beam.例文帳に追加

電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁

The method for drawing the picture pattern comprises the step of generating a coating material having the decorative picture pattern containing a diamond powder of 10 to 15 microns as a main component.例文帳に追加

１０〜１５ミクロンのダイヤモンドパウダーを主成分とする装飾絵模様の塗装材料を生成する。 - 特許庁

To accurately form a pattern without causing a pattern displacement even when the mechanism of a drawing device has an accuracy error.例文帳に追加

描画装置の機構に精度誤差があっても、パターン位置ずれを起こすことなく、精度よくパターンを形成する。 - 特許庁

The desired pattern is formed by drawing an image of a first pattern in a layer of energy sensitive material.例文帳に追加

所望のパターンは第１のパターンの像をエネルギー感受性材料層中に描画することにより生成される。 - 特許庁

A desired pattern is generated by drawing an image of a first pattern in an energy sensitivity material layer.例文帳に追加

所望のパターンは第１のパターンの像をエネルギー感受性材料層中に描画することにより生成される。 - 特許庁

The pattern drawing device draws a pattern by exposure scanning in a plurality of times in a main scanning direction.例文帳に追加

パターン描画装置では、主走査方向への複数回の露光走査によってパターンの描画が行われる。 - 特許庁

METHOD OF DRAWING VIRTUAL STRAW-ROPE-PATTERN LINE BY COMPUTER AND STRAW-ROPE PATTERN PREPARED BY THE METHOD例文帳に追加

コンピュータによる仮想縄文線の描画方法及びその描画方法によって作成された縄文模様 - 特許庁

The result of the drawing is displayed at the pattern display means 115 by the combination of the plurality of pattern columns.例文帳に追加

当該抽選結果は、複数の図柄列の組み合わせにより図柄表示手段１１５に表示される。 - 特許庁

As a result, when the special pattern is a winning pattern, the probability variation-judging means is operated, and the drawing for the winning random number for a probability variable pattern is performed, and whether the special pattern is the probability variable pattern or a normal pattern is determined.例文帳に追加

その結果、特別図柄が当たりの場合には、確率変動判定手段が作動して確変図柄の当たり乱数の抽選が行われ、特別図柄が確変図柄か、通常図柄かが決定される。 - 特許庁

To decrease uneven resolution and density caused by errors in relative positions of drawing heads and installation angles thereof and by influences of pattern distortion or the like in an image drawing apparatus and an image drawing method for forming a desired two-dimensional pattern on a drawing surface by using a plurality of drawing heads.例文帳に追加

複数の描画ヘッドを用いて所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置および描画方法において、描画ヘッド間の相対位置および相対取付角度の誤差や、パターン歪み等の影響による、解像性や濃度のむらを軽減する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge apparatus capable of reducing drawing failure of a pattern.例文帳に追加

パターンの描画不良を無くすことができる液滴出装置を提供する。 - 特許庁

A drawing pattern 7 such as a brand mark is attached to an end face 5a of the earplug 1.例文帳に追加

耳栓１の端面５ａには、ブランドマークなどの図柄７が付されている。 - 特許庁

CONTOUR DETECTOR, POSITIONING APPARATUS, PATTERN-DRAWING DEVICE, AND CONTOUR DETECTION METHOD例文帳に追加

輪郭検出装置、位置決め装置、パターン描画装置および輪郭検出方法 - 特許庁

The embodiment relates to a device for drawing a pattern on an objective substrate.例文帳に追加

一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。 - 特許庁

To easily confirm a drawing result in a short time, in a pattern inspection device.例文帳に追加

パターン検査装置において、描画結果の確認を容易に短時間で行なう。 - 特許庁

PROCESS ADVANCE GRASPING APPARATUS AND PROCESSING APPARATUS OF PHOTOMASK PATTERN DATA FOR DRAWING APPARATUS例文帳に追加

処理進行把握装置及び描画装置用のフォトマスクパターンデータの処理装置 - 特許庁

To provide a pattern width measuring program and a pattern width measuring device, capable of accurately measuring a pattern width of a drawing pattern in which a contour has periodicity.例文帳に追加

本発明の課題は、輪郭線が周期性を有する描画パターンのパターン幅を、精度よく測定できるパターン幅測定プログラム、パターン幅測定装置を提供する。 - 特許庁

In such a manner, by performing the continuation pattern drawing as well successively by the game ball with which the drawing of the special game state is performed, the player is convinced about the continuation pattern drawing as well together with the drawing of the special game state and is satisfied.例文帳に追加

このように、特別遊技状態の抽選を行った遊技球で引き続き継続パターン抽選も行うことにより、遊技者に、特別遊技状態の抽選とともに継続パターン抽選に関しても納得させ、満足させることができる。 - 特許庁

A drawing processing part 33 performs the drawing by determining which image element of a new drawing object or an image drawn before is to be drawn on the basis of the acquired drawing pattern 23.例文帳に追加

描画処理部３３は、取得された描画パターン２３に基づいて新たな図形オブジェクトの各画素またはそれ以前に描画されていた画像のいずれかを描画するか否かを判定して描画を行う。 - 特許庁

To suppress displacement of a pattern in each scanning, the pattern drawn with a light beam, on drawing the pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam more than once, and thereby, to improve the accuracy of drawing.例文帳に追加

光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁

In this time, the drawing condition separation means 38 brings about the specified drawing condition 34b until a pattern changes by a specified number of times when a ready for win is brought about during pattern variation of a pattern indication means 12.例文帳に追加

その際、抽選状態区分手段３８は、図柄表示手段１２の図柄変動中にリーチになれば、所定回数図柄変動するまで特定抽選状態３４ｂ を発動する。 - 特許庁

The pattern density PD in the drawing region is calculated based on the drawing data of the reticle pattern and the heating energy on the chemically amplifying resist film in the PEB treatment process is controlled based on the pattern density.例文帳に追加

レチクルパターンの描画データに基づいて、描画領域のパターン密度ＰＤを算出し、該パターン密度に基づいてＰＥＢ処理工程における化学増幅型レジスト膜への加熱量を調節する。 - 特許庁