「pattern drawing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To correct a discharge pattern data so that an observer hardly recognizes the drawing unevenness on a work as the whole.例文帳に追加

観察者がワーク全体として描画ムラを認識し難いように吐出パターンデータを補正する。 - 特許庁

To draw a fine pattern over a wide drawing range at a high speed with high accuracy.例文帳に追加

広い描画範囲にわたって精細なパターンを精度よく高速に描画することを可能とする。 - 特許庁

To provide not only a high-precision resist pattern but also reduce the time for drawing electron beam to a resist.例文帳に追加

高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。 - 特許庁

"Industrial design" is a pattern or shape of product to be produced consisting of shape, design, drawing, colors and etc.例文帳に追加

「意匠」は生産される製品の模様や形状で、形、デザイン、図、色等から構成される。 - 特許庁

To provide a technique capable of controlling a drawing position of a pattern in relation to an object with high accuracy.例文帳に追加

対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。 - 特許庁

To repeatedly and efficiently form a predetermined drawing pattern on a substrate without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを低下させることなく所定の描画パターンを効率よく基板へ繰り返し形成する。 - 特許庁

Even when the length of the re-drawing period is different, respective operation patterns in a variation pattern are the same.例文帳に追加

再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁

The hairline pattern is drawn, based on hairline data by every separated area by the raster drawing device 5.例文帳に追加

ラスタ描画装置５は、各分割領域毎に、ヘアラインデータに基づいてヘアラインパターンを描画する。 - 特許庁

To simplify a device structure in a pattern drawing device equipped with a plurality of light irradiation sections.例文帳に追加

複数の光照射部を備えるパターン描画装置において装置構造を簡素化する。 - 特許庁

To carry out drawing without reducing a throughput, even if a circuit pattern is made complicating for microfabrication.例文帳に追加

回路パターンが微細化かつ複雑化しても、スループットを下げずに描画を行えるようにする。 - 特許庁

To enhance the interest of a game by drawing a player's attention to an ordinary pattern display device.例文帳に追加

普通図柄表示装置に対する遊技者の興味を喚起して、遊技の興趣を高める。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER PRODUCT AND ITS MANUFACTURING/ SALES SYSTEM BY DRAWING PATTERN MADE INTO ELECTRONIC FILE例文帳に追加

半導体ウェハ製品及び電子ファイル化された図柄情報によるその製造販売システム - 特許庁

When an ordinary pattern drawing is won, a ball entry device 21 is opened, and a ball entry becomes easier.例文帳に追加

普通図柄抽選が当たりになると入球装置２１が開放されて入球容易になる。 - 特許庁

CONTROL METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND PATTERN DRAWING DEVICE例文帳に追加

半導体集積回路装置の制御方法、半導体集積回路装置およびパターン描画装置 - 特許庁

To analyze the factor generated periodically out of factors that causes pattern drawing position error.例文帳に追加

パターン描画位置誤差を発生させる要因の内、周期的に発生する要因を分析する。 - 特許庁

(3) The resist pattern is formed by the direct resist drawing method by using the resist ink described in (1) or (2).例文帳に追加

（３）（１）または（２）記載のレジストインクを用いたレジスト直描方式によるレジストパターンを形成する。 - 特許庁

(3) A resist pattern is formed by the direct resist drawing method by using the resist ink described in (1) or (2).例文帳に追加

（３）（１）または（２）記載のレジストインクを用い、レジスト直描方式によるレジストパターンを形成する。 - 特許庁

In the zangetsu-tei (a drawing room in the shoin style owned by the Omote-Senke family) the patterns of Senke-ogiri (a large paulownia pattern for the Senke family) and uroko-zuru (cranes in scales) are used. 例文帳に追加

表千家の残月亭には、千家大桐と鱗鶴が使われている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

of kabuki actors, the action of drawing a pattern on one's face with coloured paints in order to exaggerate one facial expressions 例文帳に追加

歌舞伎役者が,表情を誇張するため,紅や青の絵の具で,顔面に模様を描くこと - EDR日英対訳辞書

The CPU 30a actuates a pattern number variation lot-drawing part 44 in reply the start signal.例文帳に追加

スタート信号に応答してＣＰＵ３０ａは図柄数変動抽選部４４を作動させる。 - 特許庁

To generate a clock signal for drawing a fine pattern in an optional position on a substrate without changing the size of the fine pattern.例文帳に追加

微小パターンの大きさを変えることなく、微小パターンを基板上の任意の位置に描画するためのクロック信号を生成する。 - 特許庁

To provide a method of drawing resist patterns, where the surface pattern of a large area and a fine line pattern are mixed, and stably in a short time.例文帳に追加

大面積の面パターンと微細な線パターンが混在したレジストパターンを短時間に安定して描画する方法を提供する。 - 特許庁

To improve positioning accuracy of a pattern in the circumferential direction in an electron beam lithography method to conduct pattern drawing by irradiation of an electron beam.例文帳に追加

電子ビームを照射してパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、パターンの円周方向配置精度を向上させる。 - 特許庁

GENERATION METHOD OF PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM DRAWING, PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD USED FOR THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE DATA例文帳に追加

電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法 - 特許庁

A pattern contour line 2 is formed on a drawing board 1 in a convex level difference fashion and a plane part 3 partitioned by the pattern contour line 2 is pigmented.例文帳に追加

画板１に図柄輪郭線２を凸段差状に形成し、この図柄輪郭線２で仕切った平面部３を着色する。 - 特許庁

When drawing a pattern, the pattern data PD of a drawing pattern are divided into respective rectangular areas stipulated by the reference spot pattern, and closed area pattern data PD1 and PD2 of the respective rectangular areas LM1 and LM2 are corrected matched with deformed rectangular areas LN1 and LN2 deformed or displaced based on the measured position coordinates of the spot pattern.例文帳に追加

パターンを描画するとき、描画パターンのパターンデータＰＤを、基準スポットパターンによって規定される矩形領域毎に分割し、各矩形領域ＬＭ１、ＬＭ２の閉領域パターンデータＰＤ１、ＰＤ２を、計測されたスポットパターンの位置座標に基づく変形、もしくは変位の生じた変形矩形領域ＬＮ１、ＬＮ２に合わせて補正する。 - 特許庁

Especially, the seller 202 and the purchaser 203 can request creation of the pattern drawing 212 from the design drawing 211 to a patterner 204, and request creation of the 3D CG 213 from the pattern drawing 212 to a 3D builder 205 via the digital fashion market 201.例文帳に追加

特に、売り手２０２および買い手２０３は、デジタルファッションマーケット２０１を介して、デザイン画２１１からの型紙図２１２の作成をパタンナ２０４に依頼し、型紙図２１２からの３Ｄ ＣＧ２１３の作成を３Ｄビルダ２０５に依頼することができる。 - 特許庁

Then, based on drawing positions of the line drawing that the line-drawing drawing instructions represent, the print data generation device 100 specifies contour pixels constituting a contour of the line drawing among the plurality of pixels constituting the raster data, and also specifies, for each of the contour pixels, contour pattern information representing an arrangement pattern of pixels reproducing a contour of higher resolution in the contour pixels.例文帳に追加

そして、線画描画命令が表す線画の描画位置に基づき、ラスターデータを構成する複数の画素のうち、線画の輪郭を構成する輪郭画素を特定し、この輪郭画素のそれぞれについて、輪郭画素内に高解像度化された輪郭を再現する画素の配置パターンを示す輪郭パターン情報を特定する。 - 特許庁

To provide a game machine for allowing a drawing state of a specific role to stay in a specific drawing state even if a pattern combination triggering transition of the drawing state of a specific role from a specific drawing state to another drawing state is displayed on a valid line.例文帳に追加

特定役の抽選状態を特定の抽選状態から他の抽選状態に移行させる契機となる図柄組合せが有効ラインに表示される場合であっても、特定役の抽選状態を特定の抽選状態に滞在させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

To provide a method for monitoring the state of a pattern drawing apparatus, precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, and also monitoring the state of the pattern drawing apparatus by simply leading out the change production period of the pattern change production place.例文帳に追加

周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。 - 特許庁

The control circuit generates two kinds of punch data including pattern drawing data for drawing the prescribed pattern with a plurality of small holes on the workpiece and cut data for cutting the outline of the pattern by consecutively forming a plurality of small holes along the outline of the pattern from line data of the prescribed pattern.例文帳に追加

制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物に対し複数の小孔により所定の模様を描画するための描画データと、被加工物に対し模様の輪郭に沿って複数の小孔を連続的に形成することにより輪郭を切断するためのカットデータとの２種類を含む打刻データを作成する。 - 特許庁

To provide a pattern measurement method to obtain a pattern having less errors by inserting a pattern which corrects a proximity effect of a photomask into a region except for monitor or circuit patterns conventionally designated by users upon ensuring dimensions of a photomask, and by inspecting the pattern and controlling drawing conditions after drawing.例文帳に追加

フォトマスクの寸法保証を行なう際に、従来のユーザーが指定するモニター、回路パターン以外に、フォトマスクの近接効果を補正するパターンを挿入して、描画後にパターンを検査して描画条件を管理して誤差の少ないパターンにするパターン測定方法を提供する。 - 特許庁

A variation pattern determination means holds a plurality of pattern selection tables wherein correspondence relationships between a drawing value and a variation symbol determining the variation process of patterns are different from each other, and refers to one of the plurality of pattern selection tables to select the variation pattern corresponding to an acquired drawing value.例文帳に追加

変動パターン決定手段は、抽選値と図柄の変動過程が定められた変動パターンとの対応関係が互いに異なる複数のパターン選択テーブルを保持し、複数のパターン選択テーブルのうち一つを参照して、取得された抽選値に対応する変動パターンを選択する。 - 特許庁

When the variation pattern selected in the previous variable display is a continuous performance variation pattern, a pattern decision means 136 decides whether or not to select the continuous performance variation pattern again according to the result of the winning/losing drawing and the result of drawing for deciding the continuation of a prescribed probability.例文帳に追加

パターン決定手段１３６は、前回の変動表示時に選択された変動パターンが連続演出変動パターンであった場合、当否抽選の結果および所定確率の連続判定抽選の結果に応じて連続演出変動パターンを再び選択するか否かを決定する。 - 特許庁

Thus, by imparting a scaling correction and a shaft tilt correction to the drawing data, expressing a position and a shape of the pattern to be drawn, a data corresponding to a parallelogram first deformed pattern drawing region 43 is generated.例文帳に追加

そこで描画すべきパターンの位置と形状を示す描画データに、スケーリング補正と軸傾き補正を施し、平行四辺形の第１変形描画領域４３に対応したデータを生成する。 - 特許庁

To provide a liquid drop discharging apparatus with which the quantity of wasteful liquid material of the discharged liquid material, and to provide a drawing pattern generating method, a drawing pattern generating program and an electronic instrument.例文帳に追加

吐出した液状材料のうちで無駄となる液状材料の量を低減することができる液滴吐出装置、描画パターン作製方法、描画パターン作製プログラムおよび電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device that can grasp where a deteriorated micromirror is in a micromirror device and can complete demanded pattern drawing even if several micromirrors deteriorate.例文帳に追加

劣化したマイクロミラーがマイクロミラーデバイスにおけるどの位置のマイクロミラーであるかを把握し、仮に幾つかのマイクロミラーが劣化したとしても要求されるパターン描画を完遂できるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

The image drawing pattern is configured such that a color when the image drawing pattern is displayed on the three-dimensional display device is simulataneouesly the same as a color when the two-dimensional image data are displayed on a two-dimensional display device.例文帳に追加

描画パターンは、描画パターンを三次元表示デバイスに表示したときの色が二次元画像データを二次元表示デバイスに表示したときの色と擬似的に同一となるように構成されている。 - 特許庁

The method inputs the normal pattern data into a storage device of a drawing device and inputs the tendency of the pattern deformation generated dependent upon the condition of the transfer exposure to a storage device of the drawing device.例文帳に追加

正規のパターンデータを描画装置の記憶装置に入力するとともに、転写露光の状況に依存して発生するパターン変形の傾向を描画装置の記憶装置に入力する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device capable of correcting quickly and inexpensively a light irradiation position, without using other device, and a correction method for the light irradiation position in the pattern drawing device.例文帳に追加

他装置を使用することなく、迅速かつ低コストで光の照射位置を補正することができるパターン描画装置およびパターン描画装置における光の照射位置の補正方法を提供する。 - 特許庁

The accuracy defect of the drawing is prevented from affecting the stitching of the pattern transfer by surely avoiding the coincidence of the places where the accuracy of the mask drawing is poor with the places of the stitching of the pattern transfer.例文帳に追加

マスク描画の精度の悪い場所とパターン転写のつなぎの場所を確実に一致させないようにして、描画の精度不良がパターン転写のつなぎに影響を与えないようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus for drawing a fine pattern for delivering fine liquid droplets and drawing the fine pattern by providing a needle electrode in an electrostatic type inkjet printer, and to provide its method.例文帳に追加

静電方式のインクジェットプリンタにおいて、針電極を設けることにより微小な液滴を吐出して微細なパターンを描画する微細パターンの描画装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

The pattern drawing system has a pattern drawing device 40 which draws pattern on an object 2 by using an optical modulator 5 including several light modulation devices whose modulation state can be selectively set respectively, and a data output device 30 which outputs data for setting the modulation state of the light modulation devices to the pattern drawing device 40.例文帳に追加

パターン描画システムは、それぞれ変調状態を選択的に設定可能な複数の光変調素子を含む光変調器５を用いて対象物２にパターンを描画するパターン描画装置４０と、該パターン描画装置に対して、光変調素子の変調状態を設定するためのデータを出力するデータ出力装置３０とを有する。 - 特許庁

To provide an inkjet drawing method which prevents crosstalk, discharges ink with stability, and forms a desired drawing pattern with high accuracy.例文帳に追加

クロストークを防止し、インクを安定して吐出して、所望の描画パターンを精度良く形成することが可能なインクジェット描画方法を提供すること。 - 特許庁