「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

APPARATUS AND METHOD FOR SEPARATING CIRCUIT PATTERN INTO MULTIPLE CIRCUIT PATTERNS例文帳に追加

回路パターンを複数の回路パターンに分離する装置および方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF PATTERN FORMING FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置、半導体装置用パターンの生成方法、半導体装置の製造方法、および半導体装置用パターン生成装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING SILICON SUBSTRATE HAVING FORMED CIRCUIT PATTERN例文帳に追加

回路パターン形成済シリコン基板のエッチング装置およびエッチング方法 - 特許庁

AQUEOUS ZINC INK PASTE COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION OF TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜のパタ−ン形成用水性亜鉛インクペ−スト組成物 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR LINE-AND-SPACE PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査電子顕微鏡を用いたライン・アンド・スペースパターンの測定方法 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING STAMPER FROM PATTERN FORMED SUBSTRATE例文帳に追加

パターン形成された基板からスタンパを分離する方法及び装置 - 特許庁

METHOD AND MACHINE FOR PRINTING ELECTRODE PATTERN BY OFFSET PRINTING METHOD例文帳に追加

オフセット印刷法による電極パターンの印刷方法及び印刷機 - 特許庁

To provide a photomask and a method for forming a pattern using the photomask.例文帳に追加

フォトマスク及びこれを用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

CURED PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PHOTOMASK AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

硬化パターンおよびその製造方法、フォトマスク、ならびに露光装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MOLDED ARTICLE HAVING NATURAL WOOD GRAIN PATTERN ON SURFACE THEREOF例文帳に追加

表面に天然木目柄を有する成型品の製造方法 - 特許庁

a container for tea having a pattern resembling that of the sacred belt at Kashima Shrine in Japan 例文帳に追加

茶道において,常陸帯の模様に似た模様を持つ茶入れ - EDR日英対訳辞書

output to file.search for selectors and/or properties using Perl-compatible pattern. 例文帳に追加

ファイルへの出力Perl 互換のパターンによる、セレクタやプロパティの検索 - PEAR

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

SERIAL PRINTER AND ITS OPERATING METHOD FOR PRINTING TEST PATTERN例文帳に追加

シリアルプリンタ及びテストパターン印刷のためのシリアルプリンタの動作方法 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING LAYER PATTERN, WIRING AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

層パターン製造方法、配線製造方法、電子機器の製造方法 - 特許庁

FABRIC CAPABLE OF DEVELOPING PATTERN ON WATER INFILTRATION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

含水により図柄模様が発現する布帛とその製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN SAME例文帳に追加

パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - 特許庁

ADJUSTING METHOD FOR EXPOSURE DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

The electrode pads 31, 32 are connected with the wiring pattern for writing.例文帳に追加

電極パッド３１，３２は書込用配線パターンに接続される。 - 特許庁

The electrode pads 33, 34 are connected with the wiring pattern for reading.例文帳に追加

電極パッド３３，３４は読取用配線パターンに接続される。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、半導体素子の微細パターン形成方法に関する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

The invention provides a silicone rubber composition for the correction of a tire pattern model.例文帳に追加

タイヤパターンモデルの修正に用いられるシリコーンゴム組成物である。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, LIQUID DROP DISCHARGE DEVICE AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置 - 特許庁

COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

The coil pattern 2 for signal lines is formed in a wound structure.例文帳に追加

前記信号ライン用コイルパターン２は、巻回構造に形成される。 - 特許庁

To provide a crimping machine for a mask pattern film causing no wrinkle and no residual air bubbles.例文帳に追加

皺、残留気泡のないマスクパターンフィルム圧着機の提供。 - 特許庁

The pattern forming method includes a pattern forming stage of forming a main pattern in a display region by photolithography and forming a pattern 30 for inspection in a non-display region and an inspection stage of indirectly inspecting the formation state of the main pattern by directly inspecting the pattern 30 for inspection.例文帳に追加

パターン形成方法は、フォトリソグラフィにより、表示領域に主パターンを形成すると共に、非表示領域に検査用パターン３０を形成するパターン形成工程と、検査用パターン３０を直接に検査することにより、主パターンの形成状態を間接的に検査する検査工程とを含んでいる。 - 特許庁

The capacitance type touch panel is configured of a first electrode pattern (66) for contact sensation and a second electrode pattern (36) for contact sensation which cross in plan view and a dummy pattern (56) by which a space surrounded by the first electrode pattern and the second electrode pattern is embedded, and each pattern has a mesh structure of almost fixed pitches (Px, Py).例文帳に追加

平面視で交差する接触感知用の第１電極パターン(66)及び接触感知用の第２電極パターン(36)、並びに、第１電極パターンと第２電極パターンとで囲まれた空間を埋めるダミーパターン(56)で構成され、これら各パターンは、いずれも略一定のピッチ(Px,Py)のメッシュ構造を有している。 - 特許庁

A peak position having the highest correlation value is regarded as the area for aligning of the pattern to be measured, and the positions of the areas for aligning of the master pattern and the pattern to be measured are adjusted (step 110).例文帳に追加

最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見なし、マスタパターンと被測定パターンの位置決め用領域の位置を合わせる（ステップ１１０）。 - 特許庁

To provide a method for drawing a pattern by which repeated patterns can be drawn without causing pattern abnormality, and also to provide a method for manufacturing a photomask and a photomask, wherein high accuracy of pattern drawing is attained.例文帳に追加

パターン異常を生じさせずに繰り返しパターンが描画できるパターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスクを得、パターン描画の精度向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component capable of arranging a low permeability pattern (a nonmagnetic material pattern) on the periphery of a conductive pattern for coil without recourse to a printing.例文帳に追加

印刷によらないで、コイル用導体パターンの周辺に低透磁率パターン（非磁性体パターン）を配置することができる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a light distribution pattern for a high beam into an appropriate light distribution pattern without adversely affecting a light distribution pattern for a low beam, in a projector type vehicular headlamp equipped with a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンに悪影響を及ぼすことなく、ハイビーム用配光パターンを適切な配光パターンとする。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a panel with a pattern and a method for manufacturing the panel with the pattern by using the apparatus capable of easily separating the panel with the pattern from a decorating mold.例文帳に追加

模様付きパネルと加飾型とを、容易に離反させることができる模様付きパネルの製造装置および該製造装置を用いる模様付きパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting a test pattern capable of easily detecting the test pattern itself even for the test pattern recorded with ink with poor visibility, and an inkjet printer.例文帳に追加

視認性の悪いインクで記録されたテストパターンでも、そのテストパターンそのものを容易に検出することのできるテストパターンの検出方法及びインクジェットプリンタを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming an uneven pattern where not only the contour of a pressed flower or a thin pattern member with an uneven pattern but also details beautifully stand out on a metal sheet, and a method for forming a seal.例文帳に追加

押し花や凹凸模様のある薄い模様部材の輪郭はもちろん、細部まで、美しく金属シートに浮き出させる凹凸模様作成方法およびシールの作成方法。 - 特許庁

To decrease the data quantity for correction of a pattern obliquely disposed in patterns for drawing a mask pattern on a photomask while maintaining the accuracy almost equal to correction of a pattern disposed in parallel.例文帳に追加

フォトマスクにマスクパターンを描くためのパターンのうち、斜めに配置されたパターンの補正について、平行に配置されたパターンの補正と同等の精度を維持しつつ、データ量を低減する。 - 特許庁

Between a CCD output signal pattern 45 and the horizontal transfer pulse pattern 51/land 52 for high frequency signal, a pattern 53 for the driving power supply line of CCD is interposed.例文帳に追加

ＣＣＤ出力信号パターン４５と高周波信号の水平転送パルスパターン５１およびランド５２との間に、ＣＣＤの駆動電源ラインのパターン５３を介在させている。 - 特許庁

The checking bit pattern consists of the first checking bit pattern for removing the diffused external light by the sun beam and the second checking bit pattern for performing the identification from any peripheral similar light source.例文帳に追加

前記確認用ビットパターンは、太陽光による外乱光を取り除くための第１確認用ビットパターンと、周辺の類似光源と識別するための第２確認用ビットパターンからなる。 - 特許庁

To provide a formed body for a pattern roller which can form a fixed rugged pattern continuously for a long period of time, to provide the pattern roller using the formed body, and to provide a coating method using them.例文帳に追加

長時間連続して、一定の凹凸模様を作製することが可能なパターンローラ用成形体、これを用いたパターンローラおよびこれらを用いた塗装方法を提供すること。 - 特許庁