「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern inspection method for easily specifying a part that easily cause pattern failure and the appropriate exposure energy and a wafer for inspecting a pattern in the photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程において、パタン不良の発生しやすい部分や、適切な露光量を容易に特定することができるパタン検査方法およびパタン検査用ウェハを提供する。 - 特許庁

The demonstration screen display command is transmitted immediately after the power supply or reset of the game controller 100 and the stop pattern notice for each pattern is transmitted for each pattern fluctuation.例文帳に追加

デモ画面表示指令は、遊技制御装置１００の電源投入またはリセット直後に送信され、図柄別停止図柄通知は図柄変動毎に送信されるようにした。 - 特許庁

To suppress deterioration in the reliability of a wiring pattern caused by the baunceback of solutions caused by a shock when the solution for a conductive pattern and the solution for an insulating pattern land on the substrate.例文帳に追加

基材上に導電パターン用溶液及び絶縁パターン用溶液が着弾した際に衝撃で発生する溶液の跳ね返りによる、配線パターンの信頼性の低下を抑制する。 - 特許庁

Now, we will take up the distribution industry to analyze the first pattern, the retail industry for the second pattern and the information services industry for the third pattern.例文帳に追加

以下では、進出パターンごとに、①について物流業、②について小売業、③について情報サービス業を取り上げて、我が国サービス業のアジアへの展開状況及び特徴を見る。 - 経済産業省

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The method for creating a pattern data of a photomask for multiple exposure techniques is to be applied for multiple patterning using a plurality of photomasks prepared by dividing a designed pattern; and the method is characterized in that the pattern is divided to render the area of each pattern set to be almost equal to others in each pattern set in the plurality of photomasks after dividing the pattern.例文帳に追加

設計パタンをパタン分割した複数のフォトマスクを用いて多重パターニングを行う多重露光技術用フォトマスクのパタンデータ作成方法であって、前記パタン分割後の複数のフォトマスクの各々のパタン集合において、前記各々のパタン集合の面積がほぼ等しくなるようにパタン分割することを特徴とする。 - 特許庁

This device is characterized by installing a resource switching memory for generating a resource switching signal based on the address, one or more pattern resources for generating the pattern data, and a selection part for selecting the pattern data generated by the normal pattern memory and the pattern data generated by the pattern resources by the resource switching signal of the resource switching memory.例文帳に追加

本装置は、アドレスに基づいて、リソース切換え信号を発生するリソース切換えメモリと、パターンデータを発生する少なくとも１以上のパターンリソースと、ノーマルパターンメモリが発生するパターンデータ、パターンリソースが発生するパターンデータを、リソース切換えメモリのリソース切換え信号により選択する選択部とを設けたことを特徴とする装置である。 - 特許庁

In this pattern treatment method of a resist pattern 2 that is formed via exposure and development processes or a material pattern consisting of a resin pattern that is formed with the resist pattern as a mold, the surface region of the material pattern is selectively heated by casting light for allowing the surface region to selectively reflow.例文帳に追加

露光及び現像工程を経て形成されたレジストパターン２又は該レジストパターンを鋳型として形成された樹脂パターンからなる材料パターンのパターン処理方法であって、光照射によって材料パターンの表面領域を選択的に加熱して該表面領域を選択的にリフローする。 - 特許庁

To provide a pattern forming material excellent in follow-up feature for unevenness of a base material surface and capable of forming a high definition pattern excellent in tenting property and uniformity of etching, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、テント性及びエッチングの均一性に優れた高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To shorten pattern data edition time by making it unnecessary to transfer a pattern file between a CPU and a pattern memory in the case of adding or deleting pattern data when pattern data for testing an integrated circuit are stored in plural pattern memories in the integrated circuit testing device in each word.例文帳に追加

集積回路試験装置で、集積回路試験用パターンデータが複数のパターンメモリに対してワード毎に格納されているとき、そのパターンデータを追加又は削除するとき、ＣＰＵとパターンメモリ間のパターンファイルの転送を不用とし、パターンデータの編集時間を短くする。 - 特許庁

Further, since a part of the character picture pattern Zm is hidden by a varying picture pattern group and moreover the previous notice is performed on the back without moving the character picture pattern Zm in front of the varying picture pattern group, the eyes of the player are fixed on the character picture pattern Zm for gazing at the character picture pattern Zm.例文帳に追加

しかも、キャラクタ図柄Ｚｍの一部を変動図柄群によって隠した上、キャラクタ図柄Ｚｍが変動図柄群の前に出ることなく後方で予告を行うようにしたので、遊技者の目がキャラクタ図柄Ｚｍを注視しようとしてキャラクタ図柄Ｚｍに釘付けになる。 - 特許庁

The walking control method for the robot comprises: generating the walking pattern, calculating a walking pattern similarity degree corresponding to the walking pattern; comparing the walking pattern similarity degree with a predefined standard pattern similarity degree; and changing the walking pattern according to the comparison result.例文帳に追加

歩行パターンを生成し、前記歩行パターンに対応する歩行パターン類似度を計算し、前記歩行パターン類似度を予め定められた基準パターン類似度と比較し、その比較結果によって前記歩行パターンを変更することを含んでロボットの歩行制御方法を構成する。 - 特許庁

When the pattern matching with the recognition object pattern P1 from the input image is to be imaged, search is executed for each partial pattern A1; and when the pattern matching level of the partial pattern A1 exceeds threshold, pattern matching level is added to a position deviating from the position only by a relative position Ap1.例文帳に追加

入力画像から認識対象パターンＰ１と合致するパターンをサーチする際には、部分パターンＡ１ごとにサーチを行い、部分パターンＡ１のパターン合致度が閾値を越えたときには、その位置から相対位置Ａｐ１だけずれた位置にパターン合致度を加算していく。 - 特許庁

In the method of forming a mask pattern for exposure, a first pattern in which a plurality of kinds of patterns are intermingled and a second pattern whose dimensions are smaller than those of the first pattern are arranged on the mask in such a manner that the first pattern is resolved and the resolution of the second pattern is suppressed.例文帳に追加

複数種類のパターンが混在する第１のパターンと、当該第１のパターンよりも寸法が小さい第２のパターンとを、前記第１のパターンが解像され、且つ、前記第２のパターンの解像が抑制されるようにマスク上に配置する露光用マスクパターンの形成方法。 - 特許庁

In respective production methods, the mat varnish is applied synchronously with the pattern from above it with the glass varnish applied on the whole surface, the form plate for applying the mat varnish and one of the formes of the pattern are the form plate of the same pattern, and the printing pattern is a grain pattern and applied on the conduit part of the pattern.例文帳に追加

さらに全面にグロスニスが施された上から絵柄と同調してマットニスを施す、マットニスを施すための版と絵柄の印刷版の一つが同じ絵柄の版である、印刷絵柄が木目柄でマットニスが絵柄の導管部分の上に施されている、それぞれの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive pattern-covered body for eliminating definite visibility between a conductive pattern part and a non-conductive pattern part by reducing a difference in color phase, light transmittance and haze value between the conductive pattern part and the non-conductive pattern part; and to provide the conductive pattern-covered body.例文帳に追加

導電性パターン部と非導電性パターン部との色相、光線透過率、ヘイズ値の差異を少なくし、導電性パターン部と非導電性パターン部とが明確に視認されることのない導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体を提供するものである。 - 特許庁

Further, a pattern by k-(2^n-1) bits from high-order bits of the A pattern is employed for a pattern by k-(2^n-1) bits from the least significant bit of a pattern generated at the (m+1)th reference clock.例文帳に追加

また、Ａパターンの上位ビット側からｋ−（２^ｎ−１）ビット分のパターンを、第ｍ＋１番目の基準クロックで発せさせるパターンの最下位ビットからｋ−（２^ｎ−１）ビット分のパターンとする。 - 特許庁

To provide a pachinko game machine wherein a character pattern is used as a display pattern for a pattern display device disposed on the surface of a game board and the name of a copyright holder of the character pattern is displayed.例文帳に追加

遊技盤面に設けられる図柄表示装置の表示図柄にキャラクタ図柄を用いると共に、そのキャラクタ図柄の著作権者名が表示されるようにしたパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁

Here, when the center position of the pattern matching for the detected pattern is determined in the pattern matching, an edge part of the detected pattern is detected and a center position is determined based upon the position of the edge part.例文帳に追加

ここで、パターンマッチングにおいて、検出されたパターンに対するパターンマッチングの中心位置を決定する際に、検出されたパターンのエッジ部を検出し、エッジ部の位置を基に中心位置を決定する。 - 特許庁

A comparison unit 24 obtains a pattern image for identification as an image of an identification pattern of the previously imaged verification product stored in a recording unit 23, and compares the identification pattern with the input pattern.例文帳に追加

比較部２４は、記録部２３に記録されている、予め撮像された照合物品の識別用パターンの画像である識別用パターン画像を取得し、識別用パターンと入力パターンとを比較する。 - 特許庁

The imaging pattern 1 includes the positioning pattern 13 for performing positioning with respect to an image apparatus by adjusting the pattern to the two reference lines L1 and L2 when the pattern is imaged by the image apparatus.例文帳に追加

撮像用パターン１は、画像機器に撮像される際に、２本の基準線Ｌ１，Ｌ２に合わせることによって、画像機器に対する位置決めをするための位置決め用パターン１３を備えている。 - 特許庁

The recessed and projecting pattern for a die may be stamped by performing transfer of the pattern by cold driving type machining by use of the first pattern body without using the second pattern body and an electrical discharge machining method together.例文帳に追加

第二原型体を用いずに、第一原型体を用いた冷間打ち込み型加工による模様転写と、放電加工法とを併用してダイに対する凹凸模様の刻設を行なってもよい。 - 特許庁

A ground pattern Pgnd2 is disposed in a part corresponding to one oscillator connection pattern Px1 and the ground pattern is not disposed in a part corresponding to the other oscillator connection pattern Px2 for shielding.例文帳に追加

シールド用に、一方の振動子接続パターンＰｘ１に対応する部分にのみアースパターンＰｇｎｄ２を設け、他方の振動子接続パターンＰｘ２に対応する部分にはアースパターンは設けない。 - 特許庁

A receiver side detects the fixed pattern at a position prescribed for each frame, discriminates whether the fixed pattern is the fixed pattern 2 or 3 and decides the end of packet when it is the fixed pattern 3.例文帳に追加

受信側で各フレームごとに予測される位置から固定パターンを検出し、それが固定パターン２か３かの判定を行い、固定パターン３と判定されるとパケットの終了と判断する。 - 特許庁

The pulse pattern given to the self- excitation voltage type converter is identical to that of pattern, but the phase of this pattern results, deviated by 30 degrees for the pulse pattern given to the self-excitation voltage type converter.例文帳に追加

自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンは、パターンとしては同じであるが、その位相は自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンに対して３０度ずれたものとなる。 - 特許庁

If pattern is specified, help gives detailed help on all commands matching pattern ; otherwise help for all the builtins and shell control structures is printed. 例文帳に追加

patternが指定された場合には、helpはこのpatternにマッチする全てのコマンドに関する詳しいヘルプを出力します。 それ以外の場合には、全ての組み込みコマンドと制御構造についての説明が出力されます。 - JM

To provide a method for forming a resist pattern capable of responding to formation of various types of resist patterns, and forming a resist pattern excellent in focus depth, a pattern profile, resolution, CDU and pattern collapse resistance.例文帳に追加

種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for collating palmar patterns, enabling specifying a person having a left palmar pattern with a high accuracy, even when if the left palmar pattern extends over a full palm pattern and a side palm pattern.例文帳に追加

遺留掌紋が全掌掌紋と側掌掌紋に跨る場合であっても、高い精度で遺留掌紋を有する者を特定することを可能とする掌紋照合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern characteristics selecting method and a pattern classifying method and a pattern judging method for realizing high performance pattern identification without requiring any huge learning such as a neural network/error backward propagation method.例文帳に追加

ニューラルネットワーク／誤差逆伝播法の様に膨大な学習を要することなく高性能のパターン識別を実現する特徴選択方法及びパターンの分類方法並びに判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for knitting a weft knitted fabric depicted with a pattern through knitting in pattern yarns as knitting yarns while enabling arranging the pattern reproduced in the final weft knitted fabric by the picture element of the pattern yarns.例文帳に追加

絵糸を編糸に用いて緯編地に編みこむ編成過程において、その絵糸の画素によって緯編地に再現される絵柄の柄合わせを可能にし、絵柄の描出された緯編地を得る。 - 特許庁

To provide a pattern generation circuit of a BIST(build in self test) circuit capable of generating a prescribed test pattern in a small area by reducing the number of test pattern generation circuits, and a test pattern generation method for the BIST circuit.例文帳に追加

テストパターン発生回路の数を減じることにより、小面積で所定のテストパターンを発生することができるＢＩＳＴ回路のパターン発生回路及び発生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a metallic pattern for simply providing a metallic pattern excelling in adhesiveness to the metallic pattern, and excelling in fine wire repeatability and conductivity, and to provide the metallic pattern provided thereby.例文帳に追加

簡便に、基板属パターンとの密着性に優れ、細線再現性と導電性に優れる金属パターンを与える、金属パターンの形成方法およびそれにより得られる金属パターンを提供する。 - 特許庁

The transmittance of the halftone pattern 3c for the light transmitting the pattern is about 2 to 10% with respect to the light before transmitting the pattern 3c, which means the halftone pattern 3c substantially functions as a light shielding part.例文帳に追加

また、ハーフトーンパターン３ｃを透過する光の透過率は、ハーフトーンパターン３ｃを透過する前の露光光の約２〜１０％程度であり、ハーフトーンパターン３ｃは実質的に遮光部として機能する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in a way that a fine pattern on an HSQ film is maintained even at a high temperature and a pattern formation object having the fine pattern fabricated in a way that it is maintained event at a high temperature.例文帳に追加

ＨＳＱ膜上の微細パターンが高温度でも維持されるようにするパターン形成方法、および高温度でも維持されるように微細パターンが形成されたパターン形成体を提供する。 - 特許庁

After the final pattern of the first pattern combination is stopped and displayed, the final pattern of a second pattern combination to be the combination of the failures after displaying the ready-for-win in another valid line is stopped and displayed.例文帳に追加

第１の図柄組合せの最終図柄を停止表示させた後、他の有効ラインにおけるリーチ表示後に外れの組合せとなる第２の図柄組合せの最終図柄を停止表示させる。 - 特許庁

To provide a circuit pattern detector and circuit pattern inspection method for accurately detecting voltage distribution of a circuit pattern formed on a circuit board optically and inspecting the short or disconnection of the circuit pattern.例文帳に追加

本発明は回路基板上に形成された回路パターンの電圧分布を光学的に精度良く検出し、回路パターンの短絡／断線を検査する回路パターン検出装置および回路パターン検査方法。 - 特許庁

The sound pressure control circuit is provided with a pattern analysis circuit for analyzing a change pattern of noise level to change output of the speaker by the change pattern of noise level detected by the pattern analysis circuit.例文帳に追加

音圧制御回路は、騒音レベルの変化パターンを分析するパターン分析回路を備え、パターン分析回路で検出される騒音レベルの変化パターンによってスピーカーの出力を変化させる。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

In addition, a counter example detecting part 104 for detecting a pattern other than a face pattern is provided before or after this series of identification to improve accuracy by detecting a pattern other than a face pattern.例文帳に追加

さらに、この一連の識別の前または後ろには、顔以外のパターンを検出する反例検出部１０４が設けられ、顔以外のパターンを検出することで、精度の向上を図っている。 - 特許庁

An uneven pattern 4 is formed on a surface of an inorganic plate 1, and the granular substance 8 for decoration with a color tone that is different from the protruding pattern part 3 is fixed to the recessed pattern part 2 of the uneven pattern 4.例文帳に追加

無機質板１の表面に凹凸模様４が形成され、その凹凸模様４の凹模様部２には凸模様部３とは異なる色調の装飾用粉粒状物８が固着している。 - 特許庁

Preferably, an angle for extracting a pattern in a diameter direction is further set on the basis of the determined rotation quantity, a bit pattern is extracted in the diameter direction and a pattern matching is performed concerning the extracted bit pattern.例文帳に追加

好ましくは、さらに、決定された回転量に基いて径方向のパターンを抽出する角度を設定し、径方向にビットパターンを抽出し、抽出したビットパターンについてパターンマッチングを行う。 - 特許庁

To provide a method for producing a pattern forming mold which is good in adhesion between a substrate and a projection having a desired pattern and excellent in durability and can form the pattern exactly, and the pattern forming mold.例文帳に追加

基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。 - 特許庁

The lamp unit 10 is one for forming a light distribution pattern for low beam.例文帳に追加

灯具ユニット１０は、ロービーム用配光パターンを形成するための灯具ユニットである。 - 特許庁

METHOD FOR CONNECTING PLATE MATERIAL IN GRID PATTERN AND GRILL FOR VEHICLE OBTAINED WITH THE METHOD例文帳に追加

板材の格子状連結方法及びその方法によって得られた車両用グリル - 特許庁

The polymer shrink tube can be used for, for example, embossing a pattern into a polymer tube.例文帳に追加

ポリマー収縮チューブは、例えば、ポリマーチューブにパターンをエンボス加工するために使用できる。 - 特許庁