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pattern onの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29471件
To provide a Pachinko game machine capable of displaying a judgment pattern or a pattern displayed on a pattern display device with diversified pattern fluctuation and recuring a new interest.例文帳に追加
図柄表示装置に表示される判定図柄や図柄を多様化した図柄変動でもって表示し、新たな興趣が得られるパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁
When a coaxial plug is connected, a switch pattern 73 is equipotential with the earth pattern 72, and can be made to act as the earth pattern 72 on the back surface of the signal pattern 71.例文帳に追加
また、同軸プラグを接続した際に、スイッチパターン73は、アースパターン72と等電位となり信号パターン71の裏面のアースパターン72として作用させることができる。 - 特許庁
After a mold pattern is formed on the first pattern of the floating gate, the first pattern of the floating gate is removed with the mold pattern as a mask for forming the floating gate.例文帳に追加
浮遊ゲートの第1パターン上にモールドパターンを形成した後、モールドパターンをマスクとして露出された浮遊ゲートの第1パターン部分を除去して浮遊ゲートを形成する。 - 特許庁
Since the conductive pattern copies the print pattern, a conductive pattern of small and uniform linewidth can be formed stably on the print pattern.例文帳に追加
導電性パターンはこの印刷パターンに倣うものであるため、この印刷パターンの上に、線幅が小さく、かつ線幅の均一な導電性パターンを安定して形成することができる。 - 特許庁
The second modulation pattern exhibited in the second optical modulation part 22 is a correlation filter pattern corresponding to a reference pattern superimposed on the second fresnel lens pattern.例文帳に追加
第2光変調部22に呈示される第2変調パターンは、参照パターンに対応する相関フィルタパターンと第2フレネルレンズパターンとが重畳されたものである。 - 特許庁
To inexpensively form the same pattern as a decoration pattern being provided on a dial surface on the surface of a recessed part being provided at one part on the surface.例文帳に追加
文字板表面に設けた装飾模様と同一模様を、その表面の一部分に設けた凹部の面にも安いコストで形成する。 - 特許庁
Using an exposure mask form, based on a prescribed pattern data, a test pattern is formed on different bases on a semi conductor substrate (S10-S12).例文帳に追加
所定のパターンデータに基づいて形成した露光マスクを用いて半導体基板上の異なる下地にテストパターンを形成する(S10〜S12)。 - 特許庁
A resist film is formed on the wafer, the exposure light is radiated on the resist film through the mask pattern, and a resist pattern is formed on the wafer.例文帳に追加
ウェーハ上にレジスト膜を形成し、マスクパターンを介してレジスト膜に露光光を露光し現像し、ウェーハ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁
When a special pattern 31 appears on the reel 28, the special pattern 31 becomes valid on the corresponding cell on the corresponding matrix 30.例文帳に追加
リール28上に特別図柄31が現れると、対応するマトリックス30上の対応するセルにおいて、この特別図柄31は有効になる。 - 特許庁
The ON period of the waveform pattern PT1 is more finely divided than the ON period of the waveform pattern PT2, and a time ratio occupied by the ON period in the waveform pattern PT1 is smaller than a time ratio occupied by the ON period in the waveform pattern PT2.例文帳に追加
ここで、波形パターンPT1におけるオン期間は、波形パターンPT1におけるオン期間よりも細分化されており、波形パターンPT1に占めるオン期間の時間比率は、波形パターンPT2に占めるオン期間の時間比率よりも小さい。 - 特許庁
A layout verification part reads the pattern data of the recognition pattern (40) included in the microcell (24) based on the layout pattern data, and verifies the arranging direction of the microcell based on the status of the recognition pattern.例文帳に追加
レイアウト検証部は、レイアウトパターンデータに基づいてマクロセル(24)に含まれる認識パターン(40)のパターンデータを読み出し、認識パターンの状態に基づいてマクロセルの配置方向を検証する。 - 特許庁
The copper plate 5 has a nearly equal shape to the one of the conductor pattern 3, that the copper plate 5 is provided on the conductor pattern 3 and overlaps with it in a region of the conductor pattern 3, when the copper plate 5 is subjected to the surface mounting on the conductor pattern 3.例文帳に追加
銅板5は導体パターン3上に表面実装されたときに導体パターン3領域内に重なって配設されるように導体パターン3と略同一形状を有している。 - 特許庁
In the inductor, an inductor pattern is formed on a substrate, and a conductive pattern having a convex concave structure is further formed on the inductor pattern in order to increase a surface area of the inductor pattern.例文帳に追加
本発明のインダクターは、基板上にインダクターパターンを形成し、インダクターパターンの表面積を増加させるためにインダクターのパターン上に凸凹構造を有する導電パターンをさらに形成する。 - 特許庁
During a second operation, a second pattern 91B is formed on an area where the first pattern 91A is formed during the first operation, and the first pattern 91A is formed on an area where a second pattern 91B is formed during the first operation.例文帳に追加
第2動作で、第1動作で第1パターン91Aを形成した位置に第2パターン91Bを形成し、第1動作で第2パターン91Bを形成した位置に第1パターン91Aを形成する。 - 特許庁
The area 11 is arranged on a portion of the conductor pattern 3 where the pattern 3 is connected to an external electrode, and the area 21 is arranged on a portion of the conductor pattern 4 where the pattern 4 is connected to an external electrode.例文帳に追加
大面積部11はコンデンサ導体パターン3の外部電極との接続部側に配置され、大面積部21はコンデンサ導体パターン4の外部電極との接続部側に配置される。 - 特許庁
The plate 3 has the first pattern 16 formed on its one surface and the second pattern 17 constituting a stereogram pattern visible stereoscopically as a stereo gram with the first pattern formed on the other surface.例文帳に追加
文字板3は、一方の面に第1模様16が形成され、他方の面に第1模様16と共にステレオグラムとして立体視可能なステレオグラムパターンを構成する第2の模様17が形成されている。 - 特許庁
The original plate pattern 27 is formed on data by increasing the size of a circuit pattern 35 β times, a parent pattern 36 in formed on data by increasing the size of the original plate pattern 27 α times and then parent patterns P1 to PN are formed on data by horizontally and perpendicularly dividing the parent pattern 36 into α pieces.例文帳に追加
回路パターン35をβ倍して原版パターン27をデータ上で形成し、原版パターン27をα倍してデータ上で親パターン36を形成し、親パターン36を縦横にα個に分割して親パターンP1〜PNをデータ上で形成する。 - 特許庁
The dummy pattern 6 is provided in a plate for printing the circuit pattern, and is printed on the same film 4A together with the circuit pattern at the same time.例文帳に追加
ダミーパターン6は、回路パターンを印刷するための版に設けられ、回路パターンと同時に同一フィルム4A上に印刷される。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN ON FABRIC, FIBER-SHRINKING AGENT FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND THE THREE-DIMENSIONAL PATTERN-FORMED ARTICLE例文帳に追加
布帛への立体模様形成方法、その立体模様形成方法に用いる繊維収縮剤およびその立体模様形成物 - 特許庁
To provide a pattern forming method for forming a pattern nearer to design dimensions in the case of forming the pattern on level difference.例文帳に追加
段差上にパターンを形成する場合に、設計寸法により近いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The correction factors are calculated, based on the measured pattern and the DIW pattern, after the pattern matching between which there is no mutual waveforms shift.例文帳に追加
パターンマッチング後の互いに波形のずれがない計測パターンおよびDIWパターンに基づいて補正係数の演算が行われる。 - 特許庁
A first modulation pattern exhibited in the first optical modulation part 21 is an input pattern superimposed on a first fresnel lens pattern.例文帳に追加
第1光変調部21に呈示される第1変調パターンは、入力パターンと第1フレネルレンズパターンとが重畳されたものである。 - 特許庁
A candidate pattern generating part 2F2 generates a candidate pattern by each parameter, based on the site information table and a basic pattern table 2T2.例文帳に追加
候補パターン生成部2F2は、サイト情報テーブル及び基本パターンテーブル2T2に基づいて、各パラメータ毎に候補パターンを生成する。 - 特許庁
Also, the first upper side pattern 30 includes a first dummy pattern 73 at least partially provided on the first shield pattern 71.例文帳に追加
また第1上側パターン30は、少なくとも部分的に第1シールドパターン71上に設けられた第1ダミーパターン73を含んでいる。 - 特許庁
On the basis of the evaluation value of the temporary character pattern and a threshold, it is decided whether or not the temporary character pattern is cut out as a character pattern.例文帳に追加
仮文字パターンの評価値としきい値に基づいて仮文字パターンを文字パターンとして切り出すか否かを判定する(S7)。 - 特許庁
To provide a pattern forming method for preventing deformation of a photoresist pattern and increase in LWR when spacers are formed on side walls of the pattern.例文帳に追加
フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やLWRの増大を防ぐことができるパターン形成方法。 - 特許庁
Thereon, the pattern is printed with a red color ink by using a screen printing plate on which the required pattern is made into a printing plate, to form a pattern layer 14.例文帳に追加
その上に、所要図柄を製版したスクリーン版により赤色インキでその図柄を印刷し、図柄層14を形成した。 - 特許庁
A watermark pattern superimposing means 106 superimposes the digital watermark pattern on the RAW data according to the watermark pattern superimposing parameter.例文帳に追加
透かしパターン重畳手段106は電子透かしパターンを透かしパターン重畳パラメータに従いRAWデータに重畳する。 - 特許庁
On the top of the metallic film, a photoresist pattern 7 is prepared (c), with which a metallic mask pattern 8 is made (d) to remove the photoresist pattern 7 (e).例文帳に追加
その上にフォトレジストパターン7を作成し(c)、これを用いて金属マスクパターン8を作成し(d)、フォトレジストパターン7を除去する(e)。 - 特許庁
To detect a test pattern of a projector even if the test pattern is superimposed on an input video image when detecting the test pattern.例文帳に追加
プロジェクタのテストパターン検出にあたり、入力映像にテストパターンを重畳しても、そのテストパターンの検出を可能にすることにある - 特許庁
To provide a method for forming a pattern on a surface of a woody material by coloring in a pattern, and a pattern-formed woody material.例文帳に追加
木質材の表面をパターン状に着色して模様を形成する方法及び模様が形成された木質材を提供する。 - 特許庁
A main CPU determines a big win pattern which is displayed on a special pattern display device (S40), or determines a missing pattern (S42).例文帳に追加
メインCPUは、特別図柄表示装置に表示する大当り図柄を決定し(S40)、あるいは、ハズレ図柄を決定する(S42)。 - 特許庁
On the other hand, a woven pattern watermark image 14 after having some woven pattern points removed is generated from a woven pattern watermark image 12 with a document.例文帳に追加
一方、文書付地紋透かし画像12から、一部の地紋点を除去した除去後地紋透かし画像14を生成する。 - 特許庁
On the substrate 21, a Lorentz force wiring pattern 63, a moving electrode wiring pattern 62, and a fixed electrode wiring pattern are provided.例文帳に追加
基板21には、ローレンツ力用配線パターン63、可動電極用配線パターン62及び固定電極用配線パターンが設けられる。 - 特許庁
A pattern KP for inspection for the purpose of measuring the line width of the pattern to be transferred to a substrate is formed on the mask having a circuit pattern CP.例文帳に追加
回路パターンCPを有するマスクに、基板に転写されるパターンの線幅を計測するための検査用パターンKPを形成する。 - 特許庁
On the drum 42, a blue display pattern 45B, a green display pattern 45G and a red display pattern 45R are provided while being superposed.例文帳に追加
ドラム42には青の表示図柄45B、緑の表示図柄45G及び赤の表示図柄45Rを重畳的に設けられている。 - 特許庁
To obtain a method for forming a fine pattern in which controllability of pattern dimensions can be ensured and dependency on the density of pattern can be controlled.例文帳に追加
パターンの微細化に際して、パターン寸法の制御性を確保することができ、かつ、パターンの疎密依存性を制御できるようにする。 - 特許庁
After a shift between the resist pattern on the pattern for interlayer shift measurement and the pattern for interlayer shift measurement is measured, the resist pattern on the pattern for interlayer shift measurement is removed by ashing while the resist pattern in the display region is left, the remaining resist pattern in the display region is used as a mask to pattern the second layer in the method of manufacturing the display device.例文帳に追加
その後、層間ズレ測定用パターン上のレジストパターンと層間ズレ測定用パターンとのズレを測定した後、アッシングにより表示領域に位置するレジストパターンを残しつつ層間ズレ測定用パターン上のレジストパターンを除去し、残った表示領域のレジストパターンをマスクとして第2層をパターニングする表示装置の製造方法。 - 特許庁
This manufacturing method for the anti-copying printed pattern, which is formed in such a manner that a figured pattern and a camouflage pattern for camouflaging the figured pattern are superposed on a substrate, comprises a first printing step of printing and forming the camouflage pattern on the substrate, and a second printing step of printing and forming the figured pattern on the camouflage pattern.例文帳に追加
模様パターンと、模様パターンをカモフラージュするためのカモフラージュパターンと、を基材上に重ねて形成されてなる複写防止印刷物の製造方法であって、基材上にカモフラージュパターンを印刷形成する第1の印刷工程と、カモフラージュパターン上に模様パターンを印刷形成する第2の印刷工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
The pattern forming method is carried out by applying a pattern forming material containing fullerenes having a phenolic hydroxyl group or a carboxyl group on a photoresist pattern after development so as to deposit a fullerene-containing film on the resist pattern surface, and removing the pattern forming material on a part except the photoresist pattern so as to protect only the photoresist pattern surface with the fullerenes.例文帳に追加
現像後のフォトレジストパターン上にフェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するフラーレン類を含有するパターン形成材料を塗布して、上記フラーレン類含有膜をフォトレジストパターン表面に付着させ、フォトレジストパターン以外の部分の上記パターン形成材料を除いてフォトレジストパターン表面だけを上記フラーレン類で保護するパターン形成方法。 - 特許庁
In the pattern forming method to form a superfine pattern and a large area pattern on a process film on a substrate 11, an electron beam resist pattern film for forming a superfine pattern from the process film is formed by electron beam lithography, and a photoresist pattern film to form a large area pattern from the process film is formed through photolithography.例文帳に追加
基板11上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 - 特許庁
The method comprises steps of: reading the servo pattern recorded on a disk; generating an erase pattern for erasing the servo pattern on the basis of the servo pattern acquired through the step of reading the servo pattern; and deleting the servo pattern using the erase pattern while the disk is rotated.例文帳に追加
ディスク上に記録されたサーボパターンを読み取る段階と、前記サーボパターンを読み取る段階を通じて獲得されたサーボパターンに基づいて、前記サーボパターンを消去するためのイレーズ(erase)パターンを生成する段階と、前記ディスクが回転している間に、前記イレーズパターンを用いて前記サーボパターンを削除する段階とを有する。 - 特許庁
The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加
基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁
After a hydrophilic pattern is formed on the surface of a substrate in a state where the pattern is directly coupled with the surface, a conductive polymer layer is formed on the pattern.例文帳に追加
支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする。 - 特許庁
A pattern image for detecting a transfer rate is formed on a photoreceptor and a transfer rate is calculated based on toner adhesive amount before transferring the pattern image and that after transferring the pattern image.例文帳に追加
転写率検知用のパターン像を感光体に形成し、パターン像の転写前のトナー付着量と転写後のトナー付着量に基づいて転写率を算出する。 - 特許庁
The coupler includes a first conductive pattern provided on an insulating substrate and a second conductive pattern provided on the substrate and disposed facing the first conductive pattern.例文帳に追加
絶縁性の基板上に設けられた第1導電パターンと、基板上に設けられ第1導電パターンと対向配置された第2の導電パターンとを備える。 - 特許庁
Based on density pattern data NP indicative of the density pattern of uniform density, a density pattern N extending in the short direction is recorded on a recording sheet P by means of a thermal head 1.例文帳に追加
均一濃度の濃度パターンを表す濃度パターンデータNPに基づいて、記録用紙Pにその短手方向に延在する濃度パターンNをサーマルヘッド1により記録する。 - 特許庁
To provide a mask pattern determining method that properly determines whether a pattern of a desired size can be formed on a substrate by using a mask pattern formed on a mask.例文帳に追加
マスク上に形成されたマスクパターンによって所望寸法のパターンを基板上に形成できるか否かを正確に判定できるマスクパターン判定方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a pattern formed on a substrate while heating the substrate is formed on a target position with high precision, and a pattern forming apparatus.例文帳に追加
基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成することが可能となるパターン形成方法及パターン形成装置を提供する。 - 特許庁
The embroidered frame pattern and the printed pattern are printed on the transfer sheet by a printer (S18, S19), and finally, the embroidered pattern is embroidered on the processed cloth by the embroidery sewing machine (S21).例文帳に追加
刺繍枠模様と印刷模様がプリンタにより転写シートに印刷され(S18、S19)、最終的に刺繍模様が刺繍ミシンにより加工布に縫製される(S21)。 - 特許庁
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