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pattern onの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29426件
Correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of process using a first resist pattern as a mask is performed for the pattern dimension of a first photomask, and correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of etching process of a film to be processed by using a mask pattern as a mask is performed for the pattern dimension of the first photomask.例文帳に追加
第1のフォトマスクのパターン寸法に対して、第1のレジストパターンをマスクに用いた加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行い、前記第1のフォトマスクのパターン寸法に対して、前記マスクパターンをマスクに用いた前記被加工膜のエッチング加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行う。 - 特許庁
When a main CPU transmits the image control command to a pattern control substrate, a sub CPU of the pattern control substrate selects a variable pattern and a stop pattern of the special pattern and displays the variable to the stop of the special pattern on a pattern display device.例文帳に追加
メインCPUが画像制御コマンドを図柄制御基板へ送信すると、図柄制御基板のサブCPUは受信した画像制御コマンドに基づいて特別図柄の変動パターンおよび停止図柄を選択し、特別図柄の変動から停止までを図柄表示器に表示する。 - 特許庁
An on-dot position decoder 18-4 detects an on-dot position in one line based on this basic pattern.例文帳に追加
ONドット位置デコーダ18−4はこの基本パターンに基づいて1ライン中のオンドット位置を検出する。 - 特許庁
Since the simulation pattern created is similar to the design pattern in terms of its hierarchical structure, the simulation pattern is compared with the design pattern to increase the speed of comparison with the design pattern and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加
作成したシミュレーションパターンは設計パターンと階層構造が近似するため、シミュレーションパターンと設計パターンとを比較することで、設計パターンとの比較を高速化できるとともに、設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できる。 - 特許庁
A character image generating unit 333 converts the generated restraint pattern into bitmap image data, and a pattern generating unit 334 generates, based on the generated bitmap data, a ground tint pattern by replacing the restraint pattern with a fine dot pattern and a coarse dot pattern.例文帳に追加
文字画像生成部333は、生成された牽制パターンをビットマップの画像データに変換し、パターン生成部334は、生成されたビットマップデータに基づいて、牽制パターンを、細かいドットパターンと粗いドットパターンとに置き換えて地紋パターンを生成する。 - 特許庁
A storage unit pattern G, g is changed to a predetermined consumption unit pattern X with consumption of starting storage, and the consumption unit pattern X is displayed on a pattern display device until a select pattern represents a specified pattern mode.例文帳に追加
記憶単位図柄G、gを始動記憶の消化に伴って、所定の消化単位図柄Xに変化させると共に、選出図柄が特定の図柄態様を表出するまで、該消化単位図柄Xを図柄表示装置で表示するようにした。 - 特許庁
An individual test pattern preparing means 11 prepares a pin information table 15 on the basis of LSI pin assign information 1 and adds pattern data having a pattern in regard to a no-pattern logic pin to a common test pattern 2 for preparing an individual test pattern 7.例文帳に追加
個別テストパターン作成手段11は、LSIピンアサイン情報1に基づいてピン情報テーブル15を作成し、パターンなし論理ピンに対するパターンを有するパターンデータを共通テストパターン2に対し追加して個別テストパターン7を作成する。 - 特許庁
Either a first pattern formation step that forms the first pattern on a substrate or a second pattern formation step that forms the second pattern on the substrate is carried out, and then, a wiring pattern is formed on the substrate by performing the other formation step.例文帳に追加
第1パターンを基体に形成する第1パターン形成工程と第2パターンを基体に形成する第2パターン形成工程とのうちの一方の形成工程を行った後に、他方の形成工程を行うことで配線パターンを基体に形成することを特徴とする。 - 特許庁
The pattern forming method is carried out by using a pattern forming material having at least a photosensitive layer on a supporting body, and includes steps of laminating the photosensitive layer on a substrate to be processed, exposing and developing the photosensitive layer to form a resist pattern, and shaping the resist pattern by a dry process on the resist pattern.例文帳に追加
支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 - 特許庁
To form a pattern on a body under the state suppressing the dispersion of the line width (such as the dispersion of a hole diameter in the case of a contact-hole pattern) of the pattern.例文帳に追加
パターンの線幅ばらつき(コンタクトホールパターンの場合のホール径のばらつきなど)が抑制された状態で、パターンを物体上に形成する。 - 特許庁
The quality of the printed condition of the circuit pattern is determined based on a printed condition of a dummy pattern 6 printed concurrently with the circuit pattern, in the inspection.例文帳に追加
この検査は、回路パターンと同時に印刷されるダミーパターン6の印刷状態から回路パターンの印刷状態の良否を判定する。 - 特許庁
The semiconductor device 1 is mounted on a heat-suppressing substrate 3 where the pattern of a connection terminal 5 having the pattern equal to the above-mentioned pattern is provided.例文帳に追加
このパターンと同一のパターンの接続端子5パターンが設けられた熱対策用基板3に、上記半導体装置1が実装される。 - 特許庁
A marking pattern 6 thicker tan the circuit pattern 4 is provided on the circuit pattern 4.例文帳に追加
そして、この目的を達成するために、本発明は回路パターン4よりも肉厚のマーキングパターン6を、この回路パターン4上に設けたものである。 - 特許庁
Then the ink film pattern 21c is transferred on the substrate 31 at a part 150 where the pattern is transferred, thereby forming the intended ink pattern 21d.例文帳に追加
さらに、パターン転写部150にて、インキ膜パターン21cを被印刷基材31上に転写し、所望のインキパターン21dを形成する。 - 特許庁
When a pattern displayed on the special pattern display device 102 is selected by the digitizer, the selected pattern is inverted and displayed.例文帳に追加
前記ディジタイザにより特別図柄表示装置102に表示された図柄が選択された時、当該選択された図柄は反転表示される。 - 特許庁
The pattern detecting device then compares the reference image with the object image, and detects the position of each pattern in the repeated pattern based on the compared result.例文帳に追加
そして、参照画像と、物体の画像とを比較し、比較の結果に基づいて繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を検出する。 - 特許庁
Wiring including a sensor module mounting pattern 5, a wiring pattern 6 for a sensor signal, a shield pattern 7, etc. exists on the single side surface of the circuit board 1.例文帳に追加
回路基板1の片側面に、センサモジュール取付パターン5、センサ信号用配線パターン6、シールドパターン7などを含む配線が存在する。 - 特許庁
The picture pattern sheet case 61 has a picture pattern sheet insertion port 61a for inserting a picture pattern sheet 62 on any one of the upper, lower, left and right sides thereof.例文帳に追加
絵柄シートケース61は、上下左右いずれか一つの側面に絵柄シート62を挿入する絵柄シート挿入口61aを備える。 - 特許庁
The CPU decides the variation pattern of patterns by using a set variation pattern selection table on the basis of the value of a random number for deciding the variation pattern.例文帳に追加
変動パターン決定用乱数の値にもとづいて、設定されている変動パターン選択テーブルを用いて図柄の変動パターンを決定する。 - 特許庁
An absorbing pattern group 13 for absorbing light and a reflecting pattern group 14 for reflecting light are formed as an evaluation pattern on a base 12.例文帳に追加
ベース12上に、評価パターンとして、光を吸収する吸収パターン群13および光を反射する反射パターン群14を形成する。 - 特許庁
A test pattern (line pattern) on a recording medium is read (S80), and a corresponding position of the test pattern is acquired by a pixel unit of reading pixel pitch (S82).例文帳に追加
記録媒体上のテストパターン(ラインパターン)を読み取り(S80)、読取画素ピッチの画素単位でテストパターンの対応位置を取得する(S82)。 - 特許庁
To calculate the same density cooccurrence matrix without depending on an extracting position of a reference pattern about a pattern image in which a fixed pattern is repeatedly arranged.例文帳に追加
一定の模様が繰り返される模様画像について、基本パターンの抽出位置に依らず、同一の濃度共起行列を算出する。 - 特許庁
This auxiliary pattern 301 is a pattern for adjusting an exposure amount when transferring the aperture pattern 204 to a photoresist film on a wafer.例文帳に追加
この補助パターン301は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン204を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 - 特許庁
The sixth-layer green sheet 56 having a wiring pattern 41 has a dummy pattern 60 on an end surface 562 opposite to the wiring pattern 41.例文帳に追加
配線パターン41を有している第六層グリーンシート56は、配線パターン41と反対側の端面562にダミーパターン60を有している。 - 特許庁
To provide a correcting method for a mask pattern which can bring a pattern formed on a wafer through a photolithography process close to a design pattern.例文帳に追加
フォトリソグラフィプロセスを経てウエハ上に形成されるパターンをより設計パターンに近づけることのできるマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁
A pattern storage means 3 stores, as a reference pattern, a distribution pattern of the distance from a three-dimensional position measuring device 1 on the detection object.例文帳に追加
パターン記憶手段3は検知対象物について3次元位置測定装置1からの距離の分布パターンを基準パターンとして記憶する。 - 特許庁
To provide a pattern making method for improving workability significantly by enabling automatically performing a work to draw a graphic pattern without relation to a circuit on a wiring pattern.例文帳に追加
回路に関係がない図形パターンを配線パターン上に描く作業を自動的に実行可能にして、作業性を大幅に向上させる。 - 特許庁
In the pattern by this pattern creation method, contrast of the pattern is varied depending on an irradiation direction and an observation direction, and appearance of the hologram style is formed.例文帳に追加
本図柄作成方法による図柄は照射方向と観察方向によって図柄のコントラストが変化しホログラム調の外観を有する。 - 特許庁
To provide a fixing unit in which a resin pattern is not damaged, even if the resin pattern corresponding to a circuit pattern is laid on a board and is heat-cured.例文帳に追加
回路パターンに対応する樹脂パターンを基板上に重ねて熱硬化しても、樹脂パターンが破壊することのない定着器を提供する。 - 特許庁
To prevent pattern collapse of a miniaturized resist pattern by decreasing the surface tension on the resist pattern by a solution during development.例文帳に追加
現像時の溶液によるレジストパターンに対する表面張力を低減して、微細化されたレジストパターンのパターン倒れを防止できるようにする。 - 特許庁
The general control CPU 37a determines a second variation pattern on the basis of the first pattern designation command and first variation pattern designation command.例文帳に追加
統括制御CPU37aは、第1の図柄指定コマンド及び第1の変動パターン指定コマンドに基づいて第2の変動パターンを決定する。 - 特許庁
A prescribed wiring pattern 5 is formed on a circuit board 6, and a heat dissipating pattern 9 is formed near the wiring pattern 5.例文帳に追加
回路基板6上には、所定の配線パターン5が形成されており、配線パターン5の間には、放熱用パターン9が形成されている。 - 特許庁
A toner mark transfer part 101 transfers a halftone pattern such as a horizontal line pattern or an oblique line pattern on a belt by plural electrostatic recording units 24.例文帳に追加
トナーマーク転写部101は複数の静電記録ユニット24によりベルト上に横線パターンや斜線パターン等のハーフトーンパターンを転写する。 - 特許庁
A scale pattern comprising the first scale pattern P1 and the second scale pattern P2 is drawn on the surface of a lure body except the vicinity of the head part.例文帳に追加
このルアー本体1表面には、頭部付近を除いて、第1鱗パターンP1と第2鱗パターンP2とからなる鱗模様が描かれる。 - 特許庁
In a screen pattern to be printed on a copper cylinder for producing a gravure plate, the screen pattern is divided into two kinds of regions having a cell pattern different from each other in every kind.例文帳に追加
グラビア版作製の際、銅シリンダに焼き付けるスクリーンパターンにおいて、2種類の領域に分け、領域ごとに異なるセルパターンとする。 - 特許庁
To accurately control the flatness of pattern surface formed by burying and stacking a metal on a fine recessed pattern and the height of the pattern by etch-back.例文帳に追加
微細な凹部パターンに金属が埋め込まれ堆積されたパターン表面の平坦化と、パターン高さを精度よくエッチバックにより制御する。 - 特許庁
The sub-pattern formation region 18 is formed like a frame to surround the pattern formation region 15, and the sub-pattern 19 is separated from the pattern formation region 15 by a distance having no optical proximity effect on the pattern 16.例文帳に追加
サブパターン形成領域18はパターン形成領域15を囲むように枠状に設け、サブパターン19がパターン16に光近接効果を及ぼさない距離だけパターン形成領域15から離隔させる。 - 特許庁
An inverse conversion pattern deciding part 44 decides the input inverse conversion pattern based on output from the pattern detection expectation processing part 43, the minimum run continuation limit inverse conversion pattern processing part 42, and the inverse conversion pattern processing part 41.例文帳に追加
逆変換パターン決定部44は、パターン検出予想処理部43、最小ラン連続制限逆変換パターン処理部42、逆変換パターン処理部41からの出力に基づいて、入力逆変換パターンを決定する。 - 特許庁
Also, a second reference position to be a determination reference position of a pattern shape is set on a second pattern as a determination target for which it is determined whether or not the second pattern has a pattern shape identical with the first pattern.例文帳に追加
また、前記第1のパターンとパターン形状が同一であるか否かが判定される判定対象としての第2のパターンにパターン形状の判定基準位置となる第2の基準位置を設定する。 - 特許庁
Since the pattern formation data 91 include a basic pattern part 911 and the correction rule part 913, the basic pattern and the correction rule on pattern formation are defined individually, which easily improves design efficiency of a pattern.例文帳に追加
パターン形成用データ91は、基礎パターン部911と補正ルール部913とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。 - 特許庁
A circuit pattern 15 having the structure, wherein a dammy pattern, the deformed pattern of a conductive line and the magnified pattern of the conductive line are formed individually or in assembled form, is provided on a circuit pattern 16 which is wider than 60 μm.例文帳に追加
60μmより広い回路パターン16の場所に、ダミーパターン、導電ラインの変形パターン、導電ラインの拡大パターンを単独あるいは組み合わせた構造とした60μmより狭い回路パターン15を設ける。 - 特許庁
The pattern density PD in the drawing region is calculated based on the drawing data of the reticle pattern and the heating energy on the chemically amplifying resist film in the PEB treatment process is controlled based on the pattern density.例文帳に追加
レチクルパターンの描画データに基づいて、描画領域のパターン密度PDを算出し、該パターン密度に基づいてPEB処理工程における化学増幅型レジスト膜への加熱量を調節する。 - 特許庁
The first terminal 41 is arranged on the side of the first wiring pattern 31 and the second terminal 42 is arranged on the side of the second wiring pattern 32 on the border of the third wiring pattern 33.例文帳に追加
第3の配線パターン33を境界として、第1の配線パターン31の側に第1の端子41が配置され、第2の配線パターン32の側に第2の端子42が配置されている。 - 特許庁
To easily repair a scratch on uneven pattern on a surface of an instrument panel 1.例文帳に追加
インストルメントパネル1の表面の凹凸模様の傷を容易に補修できるようにする。 - 特許庁
To inspect accurately a minute pattern on an object on the basis of a design data.例文帳に追加
設計データに基づいて対象物上の微小なパターンの検査を精度よく行う。 - 特許庁
To detect the position and the flashing pattern of a luminescent spot pointed on an image displayed on a screen.例文帳に追加
スクリーン1上の画像に指示された輝点の位置及び点滅パターンを検出する。 - 特許庁
Further, the oblique incidence effect is measured on the basis of the dimensions of the pattern on the substrate.例文帳に追加
さらに、前記基板上パターンの寸法に基づいて、前記斜入射効果を測定する。 - 特許庁
To form a predetermined pattern on a film to be processed on a substrate uniformly in a substrate plane.例文帳に追加
基板上の被処理膜に所定のパターンを基板面内で均一に形成する。 - 特許庁
Exposure is performed on the basis of the exposure condition, and a resist pattern is formed on a wafer main body.例文帳に追加
この露光条件に基づいて露光してウェーハ本体上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁
A semiconductor element is mounted on a wiring pattern formed on the multi-layered wiring substrate.例文帳に追加
この多層配線基板に形成した配線パターン上に半導体素子を実装する。 - 特許庁
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