「pattern projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

軟Ｘ線縮小投影露光装置、軟Ｘ線縮小投影露光方法及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加

図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法 - 特許庁

METHOD OF TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD OF DETERMINING IMAGE FIELD AND REDUCTION PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

回路パタ—ン転写方法、イメ—ジフィ—ルド決定方法及び縮小投影露光装置 - 特許庁

PHASE ANALYSIS METHOD OF INTERFERENCE PATTERN OR PROJECTION GRID USING ALIASING例文帳に追加

エイリアシングを利用した干渉縞又は投影格子の位相解析方法 - 特許庁

PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD IN GRID PATTERN PROJECTION METHOD, MEASURING DEVICE AND IMAGE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

格子パターン投影法における画像処理方法、計測装置及び画像処理装置 - 特許庁

STRIPE IMAGE ANALYTICAL METHOD, INTERFEROMETER DEVICE, AND PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

縞画像解析方法、干渉計装置、およびパターン投影形状測定装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS ARRAY, ILLUMINATOR FOR PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNER AND ABERRATION MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

パターン形成方法、光学素子の製造方法、マイクロレンズアレイの製造方法、投影露光装置の照明装置、投影露光装置、及び収差測定装置 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND APPARATUS USING COLOR PATTERN LIGHT PROJECTION例文帳に追加

カラーパターン光投影を用いた三次元形状計測法および三次元形状計測装置 - 特許庁

WATER-REPELLENT PROJECTION FORMING MATERIAL, WATER-REPELLENT PATTERN STRUCTURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

撥水性突起形成材料、並びに、撥水パターン構造物及びその製造方法 - 特許庁

FINE APERIODIC PATTERN PROJECTION DEVICE AND METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細非周期パターン投影装置および方法とそれを用いた三次元計測装置 - 特許庁

To obtain a pattern image and a texture image simply and quickly in a three-dimensional image detector using a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法を用いた３次元画像検出装置において簡単・迅速にパターン画像とテクスチャ画像を得る。 - 特許庁

An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加

露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁

To suppress a variation of the line width of a resist pattern which is formed by a reduction projection exposure method.例文帳に追加

縮小投影露光方法で形成するレジストパターンの線幅の変動を小さくすること。 - 特許庁

To prevent a failure of color discrimination when using a color striped grid in a grid pattern projection method.例文帳に追加

格子パターン投影法において、カラー縞格子を使用する際に色識別の失敗を防止する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING CONVERGENCE OF PROJECTION TELEVISION BY COMPENSATING ANGLE OF REFERENCE PATTERN例文帳に追加

基準パターンの角度補償を行うプロジェクションテレビのコンバージェンス制御装置及び制御方法 - 特許庁

To provide a projection exposure method of exposing a radiation-sensitive substrate by at least one image of a mask pattern, to provide a projection exposure system, and to provide a projection objective.例文帳に追加

放射線感応基板をマスクパターンの少なくとも１つの像によって露光する投影露光方法、投影露光システム、及び投影対物系を提供する。 - 特許庁

Also, a three- dimensional image is detected from the image data obtained by the first or second projected pattern by using a pattern projection method.例文帳に追加

また第１または第２の投影パタ−ンによって得られた画像デ−タから、パタ−ン投影法によって３次元画像を検出する。 - 特許庁

To provide a method for producing a pattern forming mold which is good in adhesion between a substrate and a projection having a desired pattern and excellent in durability and can form the pattern exactly, and the pattern forming mold.例文帳に追加

基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reticle for easily aligning a light shielding pattern to a projection pattern of a transparent substrate while reducing the cost than a conventional method.例文帳に追加

従来よりもコストを削減しながら、遮光パターンと透明基板の凸パターンとの位置合わせを容易に行うことができるレチクルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for exposing a resist layer on a substrate to an image of a pattern on a mask, and a lithographic projection apparatus.例文帳に追加

基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposing a resist layer of a substrate to a mask pattern image, and provide a lithography projection apparatus.例文帳に追加

基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

3-DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION DEVICE, PROJECTION PATTERN IN 3-DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION AND 3- DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION METHOD例文帳に追加

３次元情報取得装置、３次元情報取得における投影パターン、及び、３次元情報取得方法 - 特許庁

WAVEFORM ANALYZING DEVICE, WAVE FORM ANALYSIS PROGRAM, INTERFEROMETER DEVICE, PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE, AND WAVEFORM ANALYSIS METHOD例文帳に追加

波形解析装置、波形解析プログラム、干渉計装置、パターン投影形状測定装置、及び波形解析方法 - 特許庁

In this exposure method, a reticle 13 having a larger pattern area than the object side visual field of the projection optical system 16 is used.例文帳に追加

投影光学系（１６）の物体側視野よりも大きいパターン領域を有するレチクル（１３）を用いる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photoresist master disk by which omission of a projection pattern is prevented even if pitch of an irregular pattern is narrowed, while a surface shape of a recessed pattern is excellent.例文帳に追加

凹凸パターンのピッチが狭められても、凸パターンの欠落が防止されるともに、凹パターンの表面形状に優れるフォトレジスト原盤の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern exposing method and an aligner device capable of exposing a fine pattern using a mask original plate on which a relatively large pattern is formed in a reduced projection exposing method utilizing holography.例文帳に追加

ホログラフィを利用した縮小投影露光方法において、比較的大きなパターンが形成されたマスク原盤を用いて微細パターンを露光することのできるパターン露光方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

PATTERN-FORMING METHOD, PHOTOSENSITIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN ON LENS SHEET, METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING TRANSMISSION-TYPE SCREEN, TRANSMISSION TYPE SCREEN AND PROJECTION-TYPE IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感光性粘着シート、レンズシートへの遮光パターンの形成方法、透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンの製造装置、透過型スクリーンおよび投射型画像表示装置 - 特許庁

A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light.例文帳に追加

プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面４３０の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン４００を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。 - 特許庁

To provide a lithography device and a device manufacturing method for improving a critical size profile in a projection pattern.例文帳に追加

投影パターンにおける臨界寸法プロファイルを改善するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain an image feature of a measurement object and a distance image at the same time using a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により、測定対象物の画像特徴と距離画像とを同時に取得することを目的とする。 - 特許庁

The method for correcting projection defects is carried out by irradiating abnormal projections on the surface of a metal plating film having a rugged pattern with laser at least once so as to correct the abnormal projection defects.例文帳に追加

凹凸形状を有する金属メッキ膜表面の異常突起にレーザーを少なくとも１回照射し、異常突起を修正する突起欠陥修正方法。 - 特許庁

To provide a reticle for projection exposure capable of significantly suppressing an isolated pattern from thinning and to provide a method for manufacturing the reticle for projection exposure and a semiconductor device using the reticle.例文帳に追加

孤立パターンの細りを大幅に抑制できる投影露光用のレチクル、該投影露光用のレチクルの製造方法及び該レチクルを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a crystallized glass article for building which has a clear projection-shaped pattern free from glass defects in the surface, and to provide a method for producing a crystallized glass article for building which forms a projection-shaped pattern by heat treatment.例文帳に追加

表面にガラス欠陥がない明確な凸状模様を有する建築用結晶化ガラス物品、及び熱処理により凸状模様を形成する建築用結晶化ガラス物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional (3D) spatial information input device, capable of general high-accuracy measurement by merging a stereo method, and to provide a pattern projection method.例文帳に追加

ステレオ法とパターン投影法を融合し、汎用的で高精度な計測ができる３次元空間情報入力装置を提供する。 - 特許庁

A pattern in a rugged pattern opposite to a target fine rugged structure is formed by using resin projection stripes arranged on a substrate surface; and the recesses of the pattern are filled with a dielectric layer by a film forming method.例文帳に追加

基板表面に配列された樹脂の凸条によって目的の微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成し、成膜法によってそのパターンの凹部を誘電体層で充填する。 - 特許庁

To provide a reflection type projection exposure mask blank such that a pattern of a reflection type mask can be transferred onto a wafer with high precision, to provide a reflection type projection exposure mask, and to provide a method of manufacturing the reflection type projection exposure mask.例文帳に追加

高精度に反射型マスクのパターンをウエハ上に転写することが可能な反射型投影露光マスクブランク、反射型投影露光マスク及び反射型投影露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the printed wiring board, a top surface-side circuit pattern 20 having a first protrusion 21 and a projection 22 is formed, and a reverse surface-side circuit pattern 40 having a second protrusion 41 is formed.例文帳に追加

第１突出部２１とプロジェクション２２とを有する表面側回路パターン２０を形成し、第２突出部４１を有する裏面側回路パターン４０を形成する。 - 特許庁

To provide a coating finishing method capable of enhancing a contamination-resistance property and a weather-resistance property of a multi-color pattern or a recession/projection pattern formed by a decorative coating material.例文帳に追加

装飾性塗材によって形成された多色模様または凹凸模様の耐汚染性、耐候性等を高めることができる塗装仕上げ方法を提供する。 - 特許庁

To provide method and device for easily and accurately adjusting the position for irradiation with charged particles, which is appropriate for forming a pattern using the self projection method.例文帳に追加

セルプロジェクション法を用いたパターン形成において好適な、荷電粒子照射位置調整を容易かつ正確に行なう方法および装置を提供する。 - 特許庁

In a method for irradiating the mask pattern of a photomask with light from an exposure light source and projection-aligning the image of the mask pattern on the surface to be exposed of a substrate to be treated by a projection optical system, the photomask is housed in a casing and scanned to be projection-aligned together with this housing.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスクのマスクパターンを照射して、マスクパターンの像を、投影光学系により被処理基板の被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを筐体に収容し、この筐体ごと走査して投影露光を行う。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium which has a good pattern shape using a thin etching mask, and can efficiently deactivate the magnetism of a pattern recess while suppressing magnetic deterioration of a pattern projection with less pattern irregularity.例文帳に追加

薄いエッチングマスク厚での加工ながらも加工後のパターン形状がよく、少ないパターン凹凸でパターン凸部の磁性劣化を抑えつつ、効率的にパターン凹部の磁性を失活させることが可能なパターンド磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁