「pattern projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.例文帳に追加

パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.例文帳に追加

たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁

To provide a terminal inspection method in which a projected status of a terminal mounted in projection on a holding member in a given arrangement pattern is inspected by a terminal inspection jig and a mistaken insertion of a terminal of a poor projection status into an insertion hole of the terminal inspection jig can be detected.例文帳に追加

所定の配列パターンで保持部材に突出装着された端子の突出状態を端子検査治具で検査する端子検査について、端子検査治具の挿通孔への突出状態不良端子の過誤挿通を検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

To obtain a surface position detecting method and a projection aligner using the same that detects surface position information in an optical axis direction of a wafer surface to position a pattern area of the wafer in an allowable depth of focus of a projection lens and can manufacture a semiconductor device with high density.例文帳に追加

ウエハ面の光軸方向の面位置情報を検出し、ウエハのパターン領域を投影レンズの許容焦点深度内に位置させ高密度の半導体素子の製造が可能な面位置検出方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 - 特許庁

To provide an aligning method and an aligner that the dimension of a pattern formed on a substrate is uniformized in each projecting area at the time of transferring the image of the pattern formed on a mask through plural projection optical systems to the substrate.例文帳に追加

複数の投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板上に転写するに際し、基板上に形成されるパターンの寸法が各投影領域において均一化できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加

投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも１つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁

In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.例文帳に追加

所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the resolution of a maskless exposure method of digitally generating a projection pattern without using a mask to perform exposure, without having to uses a complex processes or mechanism element.例文帳に追加

本発明は、マスクを用いることなく投影パターンをデジタル的に生成して露光するマスクレス露光方法に関し、複雑なプロセスや機構要素を付加することなく、分解能を向上することを目的とする。 - 特許庁

To provide a high-precision pattern duplication method that is not subject to mask flexure in spite of a small clearance between the mask and projection optical system and eliminates exposure errors for defocusing.例文帳に追加

マスクと投影光学系との間の空間が少ない場合であっても、マスクの撓みなどの影響を受けることなく、デフォーカスによる露光不良のない高精度なパターンの転写を実現する。 - 特許庁

The exposure method is provided for scanning a stage mounted with a first substrate in a predetermined direction and transferring the pattern of the first substrate by exposure onto a second substrate through first and second projection optical units disposed along the predetermined direction.例文帳に追加

第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。 - 特許庁

To provide a device and a method for projecting an image rectifying it to crrect hues and being not influenced by a pattern even when a projection plane is colored and patterned.例文帳に追加

投射面が有彩色であったり模様が付いているような場合においても、正しい色相に補正すると共に模様の影響を受けない画像投射装置及び画像投射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for detecting defects of a transfer mask capable of detecting defects such as foreign matters and a projection on a pattern opening of the transfer mask.例文帳に追加

転写マスクのパターン開口部の異物や突起等の欠陥を精度良く、再現性良く検査するための転写マスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner for controlling the image formation characteristic variation of a projection optical system due to exposure heat within an allowable value, and for easily obtaining a pattern with high resolution without extremely deteriorating productivity, and to provide a method for manufacturing a device by using this.例文帳に追加

本発明は、露光熱による投影光学系の結像特性変動が許容値を越えないように制御し、生産性を著しく低下させることなく高解像度のパターンが容易に得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method forms a relief embossing pattern and a contact hole on a surface of an organic protective film by pressuring a mold having an intaglio embossing pattern and a projection on the surface of the organic protective film to expose a drain electrode through the contact hole.例文帳に追加

本発明による液晶表示装置の製造方法は、陰刻エンボシングパターンと突出部とを含むモールドを有機保護膜の表面に加圧することで、有機保護膜の表面に陽刻エンボシングパターンと接触孔とを形成し、その接触孔からドレイン電極を露出させる。 - 特許庁

In the probe substrate for inspection that is provided with a substrate having insulation properties, a specific wiring pattern that is formed on the substrate, and a metal-plated projection that is formed, so that it is electrically connected onto the wiring pattern and comes into contact with the external terminal of a semiconductor device an electronic device, the metal- plated projection is formed through electroless plating method.例文帳に追加

絶縁性がある基板と、前記基板上に形成された所定の配線パターンと、前記配線パターン上に電気的に接続されるように形成され、半導体装置もしくは電子装置の外部端子と接触する金属めっき突起とを備えた検査用プローブ基板であって、前記金属めっき突起は、無電解めっき法で形成された金属めっき突起である。 - 特許庁

To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a library preparing method used in cross-section shape measurement for measuring, with high throughput and high accuracy, the cross-section shape of a pattern of a structure having a cyclic recess-and-projection shape (such as lines and spaces) without destroying the pattern or without being affected by changes in optical constants of a substance constituting the pattern.例文帳に追加

周期的な凹凸形状（例えば、ライン＆スペース等）を有する構造のパターンの断面形状を、そのパターンを破壊することなくかつパターンを構成する物質の光学定数の変化に影響されることなく、高スループットかつ高精度に測定する断面形状測定に用いられるライブラリ作成方法を提供すること。 - 特許庁

To realize crystal of high quality which has small dislocation and cracking by selectively growing GaN on a substrate having a stepped striped pattern consisting of projection and recessed parts in various widths by using an organic metal vapor-phase grown crystal method.例文帳に追加

有機金属気相成長結晶法を用い、凸部と凹部の幅に粗密のある段差状ストライプ・パターンを有する基板上に、ＧａＮを選択成長させ、転位やクラックの少ない、高品質の結晶を実現する。 - 特許庁

To extract the scattering characteristic of a measuring object in addition, when the shape of its surface is measured in a measurement system for measuring a surface shape of a measuring object by the pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により測定対象物の表面形状を測定する測定システムにおいて、表面形状の測定時に、あわせて測定対象物の散乱特性を抽出することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner and a method, where satisfactory resolution characteristics and a depth of focus can be obtained, even when a fine pattern equal in size to or smaller than the wavelength of exposure light is transferred.例文帳に追加

露光波長と同程度ないし露光波長以下の微細なレジストパターンを転写する場合においても、良好な解像特性と焦点深度を得ることができる投影露光装置及び投影露光方法を提供する。 - 特許庁

In the method for forming a contamination prevention layer, coating is applied onto the surface of the plate material 1 having the projection/recessed part pattern 2 to form a coating film 5 and the coating film is coated with a contamination prevention agent containing a silica fine particle, alcohol, water and a surfactant.例文帳に追加

凹凸模様２を有する板材１の表面に塗装を施し塗膜５を形成し、その上にシリカ微粒子と、アルコールと、水と、界面活性剤とを含有する防汚処理剤を塗布する。 - 特許庁

To provide an image data creation method capable of solving a problem in association with projection transformation and creating an artificial image model to be used for pattern matching, especially, solving a problem in an image processing system which uses a stereo optical system for performing three-dimensional measurement and creating an image model with influences by projection distortion.例文帳に追加

投影変換に伴う問題点を解決して、パターンマッチングに使用する人工画像モデルを作成すること、特に、３次元測定をするためのステレオ光学系を用いた画像処理システムにおいて問題点が解消され、投影歪みの影響を取り入れた画像モデルを作成できる画像データ作成方法を提供する。 - 特許庁

This method for performing the calibration of the camera for photographing an object from different directions has a 1st step to obtain the projection matrix of the camera and a 2nd step to a photograph a chart for calibration where a dot pattern is displayed from the different directions by the camera, so that the previous projection matrix is corrected by using the obtained image.例文帳に追加

対象物を異なる方向から撮影するためのカメラのキャリブレーションを行う方法であって、カメラの投影行列を求める第１のステップと、ドットパターンが表示された校正用チャートを異なる方向からカメラで撮影し、得られた画像を用いて先の投影行列を修正する第２のステップとを有してなる。 - 特許庁

To obtain a method of projecting and exposing and a method of manufacturing a device using the same, in which the focus position of a projection optical system is detected with good precision irrespective of change with time, and the pattern on a reticle surface is projected and exposed on a wafer surface with high precision.例文帳に追加

経時的変化にかかわらず投影光学系のフォーカス位置を精度良く検出し、レチクル面上のパターンをウエハ面上に高精度に投影露光することができる投影露光方法及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for adhering exposure masks for performing high-grade exposure, and a projection aligner even in a near-field exposure method for improving adhesion properties between a mask for exposure and a substrate, and preparing a finer pattern than the wavelength of exposure light.例文帳に追加

露光用マスクと基板との密着性を向上させ、露光光の波長より小さな微細パターンを作製する近接場露光方法においても、高品位な露光が行える露光マスクの密着方法及び密着装置並びに露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection exposure method, in which a circuit pattern is formed at an accurate position even if relative position relation or an arrangement of respective reference marks deviates from a design value, and a decrease in throughput of manufacture of a printed circuit board is small.例文帳に追加

各基準マークの相対的な位置関係や配置が設計値に対して偏移しても回路パターンを的確な位置に形成でき、且つ、プリント基板の製造のスループット低下が少ない投影露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of complementarily dividing a mask used for an electron beam projection exposure, which is capable of dividing the mask quickly and reliably by introducing a simple procedure even when the mask has a very complicated pattern as an object of division.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring instrument, a three-dimensional measuring method, and a three-dimensional measuring program capable of obtaining a large number of pattern optical information by one projection, and capable of obtaining three-dimensional information quickly and precisely.例文帳に追加

一回の投影で多くのパターン光情報を得ることができ、高速かつ高精度の三次元情報を得ることができる三次元計測装置および三次元計測方法ならびに三次元計測プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a building board and its manufacturing method presenting more complex grain-like design appearance by presenting different color appearance even only at the grain forming projection parts or recessed parts of an uneven grain pattern.例文帳に追加

木目凹凸模様の木目形成凸部だけにおいて，また凹部だけにおいても異なる色外観を呈することができ，より複雑な木目調の意匠外観を呈することができる建築板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of effectively removing, from a substrate, unwanted residues in the assist feature to be used for optical proximity compensation, when a feature pattern is printed on a substrate, using a lithographic projection system.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置を使ってマスク上の形態パターンを基板上にプリントする場合に、光学的近接補正のために利用する補助形態の不要な残留物を基板から効果的に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mirror electron projection type ( including an MPJ type (also including an SEPJ type)) electron beam inspection device which is made possible to optimize a condition and a pattern defect inspection method and system by using the above electron beam inspection device.例文帳に追加

条件出しができるようにした写像投影型（ＭＰＪ型（ＳＥＰＪ）型も含む））電子線検査装置並びにこれら電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

The resist pattern forming method is provided with a process, wherein a pattern formed in a reticle is imprinted on a resist film in the status that optical path medium in which acid is added to fluorine solvent has been interposed between a projection column 33 and a substrates 10, a process which heats the resist film on which a latent image was formed, and a process which develops the heated resist film.例文帳に追加

投影レンズ系３３と基板１０との間に、フッ素溶剤に酸を添加した光路媒質を介在させた状態でレチクルに形成されたパターンをレジスト膜に転写する工程と、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する工程と、加熱されたレジスト膜を現像する工程を含む。 - 特許庁

The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.例文帳に追加

投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a decorated material capable of performing stereoscopic and clear pattern expression by a light and a shadow in the manufacturing method for the decorated material in which a recession/projection layer is formed on a back surface of a transparent sheet-like base material and a light reflection layer is superposed on its outer side.例文帳に追加

透明なシート状基材の裏面に凹凸層を形成しその外側に光反射層を積層させる装飾材の製造方法において、光と影による立体的で明瞭な図柄表現を行うことが可能な装飾材の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which connecting reliability is high, and any void generation failure or connection failure is not generated, and an adhesive to be used for this, in an alloy formation connecting method by thermal eutectic between a metallic projection on the electrode pad of a semiconductor element and the wiring pattern of a wiring board.例文帳に追加

半導体素子の電極パッド上の金属突起と配線基板の配線パターンとの熱共晶による合金形成接続法において、接続信頼性が高く、ボイド発生不良や接続不良が発生しない半導体装置の製造方法とそれ用の接着剤を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can improve the yield of a product by forming patterns of a spacer, a projection for liquid crystal alignment control, etc., at desired positions, and a structure for electronic display and the display that do not have variance (unevenness) of display characteristics.例文帳に追加

スペーサー、液晶配向制御用突起等のパターンを所望の位置に形成し、製品の歩留まりを向上させることができるパターン形成方法、表示特性にばらつき（ムラ）が生じない電子ディスプレイ用構造物及びディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁