「pattern projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device having a trench element isolation region where a dummy projection region is formed in a predetermined pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域が所定のパターンで形成された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that stereoscopic processing is difficult in a black area such as hairs in the case of finding a three-dimensional shape of an object by a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により対象物の三次元形状を求める際、髪の毛などの黒い領域ではステレオ処理が困難である。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

To provide a system and method for altering pattern data capable of precisely compensating for a distortion or aberration of an image formed in a projection system.例文帳に追加

投影系に形成される像のディストーションまたは収差を精度よく補償できるのパターンデータの変更システム及び方法を提供する。 - 特許庁

Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate.例文帳に追加

即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 - 特許庁

The method includes: controlling an emission beam; imparting a pattern to the emission beam by a reticle having a pattern image area and a reticle mark so as to form an emission beam with the pattern; and projecting the emission beam with the pattern on a target part of a substrate through a projection system.例文帳に追加

方法は、放射ビームを調節すること、パターン付き放射ビームを形成するためにパターン像領域及びレチクルマークを有するレチクルによって放射ビームにパターンを与えること、及び、投影システムによってパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを含む。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING METHOD AND ITS DEVICE, SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR RECORDING MEDIUM WITH RECORDED LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING PROGRAM例文帳に追加

立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成方法とその装置、並びに立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide a method of correcting the distortion of a pattern image projected in an imaging process and decreasing an overlay error, when the pattern is overlaid on a substrate by a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置によって基板上にパターン形成を重ねる場合に、投影するパターン像の歪みを結像プロセス中に修正してオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a shape measurement apparatus for measuring a three-dimensional shape of a target by a simple method using one type of a projection pattern.例文帳に追加

１種類の投影パターンを用いた簡便な方法で被検物の三次元形状を測定することができる形状測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-directional projection type moire interferometer for irradiating an inspecting object with pattern lighting from many directions, and an inspection method using this.例文帳に追加

多方向からパターン照明を検査対象物に照射する多方向映写式モアレ干渉計及びこれを用いた検査方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate inspection method, phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate is acquired by successively irradiating the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts with pattern illumination, and height data classified by the projection parts in relation to the substrate is extracted by using the acquired phase data classified by the projection parts.例文帳に追加

本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。 - 特許庁

In this position detection method, prior to the position detection of the projection image of reticle patterns RP1 and RP2, the projection image of the reticle patterns RP1 and RP2 is scanned at initial setting speed on a sensor pattern, and actual scanning speed is obtained.例文帳に追加

レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像の位置検出に先立って、そのレチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像をセンサパターン上で初期設定速度にてスキャンさせ、実際の実スキャン速度を求める。 - 特許庁

The image forming characteristic fluctuation predicting method concerns predicting image forming characteristic fluctuation of the projection optical system in an exposing device for projecting a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate via a projection optical system.例文帳に追加

マスク上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する露光装置における前記投影光学系の結像特性変動を予測する結像特性変動予測方法。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

To provide a method and a device for creating pattern image capable of creating a pattern image to which an endless processing is applied by expressing a depth of field effect by using orthogonal projection and creating the pattern image with distinctive design.例文帳に追加

正射影を用いて被写界深度効果を表現することによりエンドレス処理の施された模様画像を作成することが可能であるとともに、個性的なデザインの模様画像を作成することが可能な模様画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加

減光体としての機能を有する薄膜パターン２ａと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン３ａとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ１１上のレジスト膜１２にパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide a method capable of improving the reliability of biometrics for evaluating a projection line stripe pattern for authentication in an entrance area against a false trial.例文帳に追加

欺瞞の試みに対抗して、入口領域での認知チェックのために突起線スジパターンを評価する生物測定の信頼度を向上させることができる方法を提供する。 - 特許庁

A method is provided for manufacturing the optical component to be used in the exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a pattern of a reticle on the substrate via a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系を介してレチクルのパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置において使用される光学部品を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method for the circuit arrangement, a projection 25 which projects up partially to an electric conduction pattern 18 is formed in the surface of a circuit board 16.例文帳に追加

本発明の回路装置の製造方法では、回路基板１６の表面に形成される導電パターン１８に部分的に上方に突出する突出部２５を形成する。 - 特許庁

To manufacture, at a low cost, a substrate for a liquid crystal display device, which has a common electrode pattern-formed by an etching method, and also has a projection for alignment restriction.例文帳に追加

本発明は、共通電極をエッチング法によりパターン形成し、かつ、配向規制用の突起を有している液晶表示装置用基板を安価に製造することである。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of transferring a pattern accurately even when processing a substrate with immersion exposure via a liquid between a projection optical system and the substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method that transfers a pattern with high accuracy even in immersion exposure on a substrate through liquid between a projection optical system and the substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To realize correction with high accuracy in a shirt correction time in a mask pattern correction method used for forming desired patterns on a wafer by a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系によりウェハ上に所望パターンを形成するために用いられるマスクパターン補正方法において、短い補正時間で高精度な補正を実現する。 - 特許庁

To provide a method for compensating for the effect of flare due to stray radiation in use of a projection system of lithographic apparatus to produce a pattern image on an image plane with a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化放射線ビームで像面にパターン像を生成するために、リソグラフィ装置の投影システムの迷光放射線によるフレアの効果を補償する方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process of forming a recess-projection pattern by cutting a front face of a stile raw material 1 made of the medium quality fiber board and a process of cutting a rear face of the stile raw material 1.例文帳に追加

中質繊維板製の框素材１の前面を切削して凹凸模様を形成する工程と、框素材１の後面を切削する工程とを有する。 - 特許庁

The method of adjusting the aligner has a projection optical system (PL) for forming the pattern image of a reticle (R) illuminated by pulse emission laser beams on a photosensitive substrate (W).例文帳に追加

パルス発光のレーザー光により照明されたレチクル（Ｒ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）に形成する投影光学系（ＰＬ）を備えた露光装置の調整方法。 - 特許庁

To shorten the measurement time in three-dimensional shape measurement using a grid pattern projection method and to simplify the computing processing for improving measurement precision.例文帳に追加

格子パタン投影法を用いた３次元形状測定において、測定時間を短縮すると共に、演算処理を簡略化して測定精度を向上させること。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for projection capable of improving resolution by shifting the phase of modulated light when drawing is carried out according to pattern data.例文帳に追加

パターンデータに応じて描画を行う際に変調光の位相をシフトすることにより、解像度を高めることができる投影装置および投影方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and a system in which a desired pattern can be formed with an excellent resolution by suppressing deterioration of image quality due to residual aberration of a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系の残存収差による像質劣化を抑え、所望のパターンを形成することができる解像度に優れた露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The method of generating a design layout pattern of a semiconductor aims to generate by a projection optical system a layout pattern in which wiring lines are designed in the same pitch on a wafer, and the method includes a process of making uniform wiring line end parts 101 of the layout pattern 100 and the opposition space 101a between patterns formed in this wiring line direction.例文帳に追加

ウェハ上に配線ラインが等ピッチで設計されているレイアウトパタンを投影光学系により形成するための半導体設計レイアウトパタン生成方法であって、レイアウトパタン１００の配線ライン端部１０１とこの配線ライン方向に配置されたパタン間の対向スペース１０１ａを均一化する工程を含む。 - 特許庁

To provide a scanning exposure method which permits the refining of a pattern using an easy constitution without providing complicated functions, in the scanning type exposure method which employs a plurality of projection optical systems.例文帳に追加

複数の投影光学系を用いた走査型露光方法において、複雑な機能を備えることなく、容易な構成によりパターンの高精細化を可能とする、走査型露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fine optical pattern with good yield on a sheet where the optical pattern is formed of light absorbing material and light reflecting material or the like used for a back projection type television and a liquid crystal display device or the like.例文帳に追加

背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等に使用される光吸収材、光反射材等により光学パターンが形成されたシートにおいて、微細な光学パターンを歩留まりよく製造する方法を提供する。 - 特許庁

This pattern forming method comprises a process of forming a block copolymer layer on a substrate and a process of forming a pattern in the block copolymer layer by regularly arranging a plurality of segments for constituting the block copolymer by pressing a projection part of a mold having the projection part against a surface of the heated block copolymer layer.例文帳に追加

基板上にブロックコポリマー層を形成する工程と、加熱した前記ブロックコポリマー層の表面に凸部を有するモールドの前記凸部を押し当て、前記ブロックポリマーを構成する複数のセグメントを規則的に配列させて前記ブロックコポリマー層にパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a projection optical system which has the focus position less varied and allows a deep focal depth to be secured and to provide an exposure device and a method of forming a circuit pattern which allow a minute pattern to be faithfully and efficiently formed by providing the projection optical system.例文帳に追加

合焦位置変動が少なく実質的に深い焦点深度を確保することができる投影光学系を提供するとともに、当該投影光学系を備えることで微細なパターンを忠実に且つ効率的に形成することができる露光装置及び回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

In the device and method for adjusting the stereoscopic image display device, a test pattern image is projected on a screen 26 via an aperture member 36 attached to a center projector 24e via the projection lens 28e, and the position of the projection lens 28e is adjusted so that an appropriate test pattern image is obtained.例文帳に追加

本発明は、立体画像表示装置の調整装置及び調整方法に関するものであり、中央のプロジェクタ２４ｅに投影レンズ２８ｅを介して装着したアパーチャ部材３６を介してスクリーン２６にテストパターン画像を投影し、適切なテストパターン画像が得られるように、投影レンズ２８ｅの位置を調整する。 - 特許庁

In the pattern projection aligner or a method therefor, a first exposure mechanism for creating a pattern with thin width, and a second exposure mechanism for creating a pattern with a line width thicker than that of the first exposure mechanism are provided, the relative positional relation between the first and second exposure mechanisms is detected, and pattern exposure is made, based on the detected positional relation.例文帳に追加

パターン露光装置または方法において、線幅の細いパターンの作製が可能な第１の露光機構と、該第１の露光機構よりも線幅の太いパターンの作製を行う第２の露光機構とを備え、該第１の露光機構と該第２の露光機構との相対位置関係を検出し、該検出した位置関係に基づいてパターン露光するように構成する。 - 特許庁

To provide a projection optical system, capable of accurately projecting a pattern by suppressing the influence of a wavefront aberrations or particularly coma aberrations, and to provide an aligner and the exposure method.例文帳に追加

波面収差、特にコマ収差の影響を抑え、パターンを精度良く投影することができる投影光学系、露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An image processing method/system includes dividing a movement pattern of a moving object into N discrete position states, and for each of the N position states, determining a corresponding view projection matrix.例文帳に追加

画像処理方法／システムでは動く物体の運動パターンがＮ個の不連続位置状態に分割され、前記Ｎ個の位置状態各々に対し対応するビュー投影行列を決定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin-film transistor in which a pattern of a semiconductor layer made of an organic semiconductor material can be formed highly finely while suppressing projection at its end.例文帳に追加

有機半導体材料からなる半導体層のパターンをその端部での突起の発生を抑制しつつ、高精細に形成することができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for making an opening part between adjacent patterns finer than resolution of a projection exposing machine and for preventing the occurrence of deviation of dimensional precision between patterns.例文帳に追加

隣接するパターン間の開口部を、投影露光機の解像度よりも微細化することが可能であって、かつパターン間の寸法精度ずれが生じにくいパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁