「pattern projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The thin-film heater 10 is provided with an installation guide 14 consisting of a pair of projection walls formed by photosensitive materials pattern molded by a photo lithography method by projecting from a substrate 11 on both sides of a plurality of thin-film resistors 12.例文帳に追加

本発明の薄膜ヒータ１０は、フォトリソグラフィー法によりパターン成形された感光性材料により形成された一対の突出壁からなる取付ガイド１４を、複数の薄膜抵抗体１２の両側に基板１１上より突出して備えるようにしている。 - 特許庁

To provide a field emission display element using a diamond type material that can form displaying pattern by enhancing the efficiency of electron emission from particular spots by forming no projection on the surface of substrate of silicon or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン等の基板の表面に突起を形成することなしに、特定の個所からの電子放出効率を高めることによって、表示パターンを形成することができるダイヤモンド系材料を用いた電界放出表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrolytic capacitor that improves the productivity by decreasing the frequency of replacement of a projection pattern for joining electrode foils and tab terminals together and also improves the yield by maintaining peeling strength even when the frequency of replacement is decreased to avoid foil breaking.例文帳に追加

電極箔とタブ端子とを接合する凸型の交換頻度を減らすことによって生産性を向上させ、且つ交換頻度を少なくしても、剥離強度を維持して箔切れを生じさせないようにすることで歩留まりを向上させることができる電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner that supports, aligns, and controls an object such that the reaction forces and the vibrations caused by the motion of the object are not transferred to other elements, such as a projection optical device for exposing a pattern of a mask onto the object, and to provide a method of exposure using the apparatus.例文帳に追加

対象物の運動により生ずる反力及び振動が、マスクのパターンを対象物に露光するための投影光学装置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、位置決め、及び、制御する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.例文帳に追加

浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク２２を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ３１と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液２１Ａを一時的に貯留する溶液供給部４０とを含んでいる。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

In a method, in which the image of a photomask pattern provided on a photomask is projected and exposed upon and on a surface to be exposed by irradiating the photomask with light from an exposure light source by means of a projection optical system, the image is projected and exposed upon the surface to be exposed by scanning the photomask, while the photomask is housed in a hermetically sealable enclosure.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して、フォトマスクパターンの像を、投影光学系により被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを、密閉可能な筐体に収装し、前記筐体内部において走査させ、投影露光する。 - 特許庁

To provide an electron beam (EB) drawing data generation method capable of extracting a graphic in a CP cut-away frame as a character pattern while suppressing an increase in computational complexity even if it is necessary to resize a graphic cell, when extracting the graphic in a character projection (CP) cut-away frame generated from a cell arrangement frame included in the graphic cell as a character pattern.例文帳に追加

図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、ＥＢ描画データ生成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

The data creation method for an electron beam projection photolithography machine is characterized by including a process of creating flat data by expanding the pattern data of a hierarchized mask, a process of performing profiling that extracts the profile line of the pattern on the flat data, and a process of extracting cells in which polygons have the same patterns and hierarchizing the cells.例文帳に追加

電子ビーム投影露光装置用のデータ作成方法において、階層化されたマスクのパターンデータを展開してフラットなデータを作成する工程と、このフラットなデータについてパターンの輪郭線を抽出する輪郭化処理を行う工程と、このフラットなデータから同一の形状のポリゴンを有するセルを抽出して階層化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.例文帳に追加

画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁

It is preferable that a light projector 10 projecting a group of slit lights combined in a lattice type and a stereo type image sensing devices 12R, 12L measuring three- dimensional coordinates of each cross point of a lattice pattern formed by the projection of the group of the slit lights are contained in the measuring apparatus 5, and the three-dimensional coordinates are measured by a stereo image sensing method.例文帳に追加

好ましくは計測装置５に、格子状に組み合わせたスリット光の群を投光する投光器10と、スリット光の群の投影により形成された格子模様の各交点の三次元座標を計測するステレオ式撮像装置12R、12Fを含め、ステレオ画像法により三次元座標を計測する。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure comprises: a stage where a first catalyst 31 is formed on a substrate 10; a stage where the projection pattern of second catalysts 32 is formed on the first catalyst 31 by printing; and a stage where an electroless plating film 40 is formed on the first catalyst 31 and the second catalysts 32.例文帳に追加

本発明は、基板１０上に第１の触媒３１を形成する工程と、第１の触媒３１上に第２の触媒３２の凸パターンを印刷によって形成する工程と、第１の触媒３１および第２の触媒３２上に無電解めっき膜４０を形成する工程とを有する構造体の製造方法である。 - 特許庁

A liquid crystal blind 17 that a reduced projection exposure apparatus has is driven by a liquid crystal driving method to variably set an irradiation pattern of the irradiation light, and forms an optical opening section capable of controlling transmission and blocking of light by liquid crystal cell by application of a voltage to an electrode corresponding to the liquid crystal cell, so that the shape of an irradiation area can be optionally set.例文帳に追加

この縮小投影露光装置に備えられた液晶ブラインド１７は、液晶駆動方式で駆動されて照射光の照射パターンを可変設定し、各液晶セルに対応した電極への電圧印加で各液晶セル毎に光の透過、遮断を制御できる光学的開口部を成すため、照射領域の形状を任意に設定できる。 - 特許庁

In the method, vibration-related information is determined by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, by mapping the intensity of the aerial image into an image map wherein the image map includes values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at the respective sampling locations, and by measuring the intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The invention relates to a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, wherein the image map comprises values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The manufacturing method for the electrolyte film for the fuel cell is provided, wherein a mold having a recessed part of a prescribed flat pattern is pressed to the one face or the both faces of the polyelectrolyte film, then, the mold is separated from the polyelectrolyte film while extending a projection formed inside the recessed part to form the fine protrusion group.例文帳に追加

又、本発明は、高分子電解質膜の片面又は両面に、所定の平面パターンの凹部を有する成形型を押圧し、次いで前記凹部内に形成された前記高分子電解質膜の凸部を引き伸ばしながら前記成形型を前記高分子電解質膜から引き剥がし、微小突起群を形成することを特徴とする燃料電池用電解質膜の製造方法にある。 - 特許庁