「patterning up」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

On sending the cloth P from upstream to downstream, and on stopping the cloth P once, the base stage 2 is pushed up with the lifting up and down device 4 and the cloth P on the base stage 2 is pushed to the rotary bodies 5 (the frictional bodies 5a) to make the surface of the cloth P bear with the frictional bodies 5a for patterning.例文帳に追加

布Ｐを上流から下流に送り、布Ｐが一旦停止したときに、昇降機４により基台２を押し上げて基台２上の布Ｐを、回転する回転体５（摩擦体５ａ）に押し付け、摩擦体５ａにより布Ｐの表面を禿げさせて模様付を行う。 - 特許庁

After the lower layer wiring 13 is subjected to patterning to a first interlayer insulating film 12 on a semiconductor substrate 11, an etching stop layer 14, a second interlayer insulating film 15, and a reflection preventing film 16 are successively built up.例文帳に追加

半導体基板１１上の第１の層間絶縁膜１２に下層配線１３をパターニングした後、エッチング停止層１４及び第２の層間絶縁膜１５及び反射防止膜１６を順次堆積する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The light-shielding film 3 is made of a material, having conductivity of such a degree that charge-up phenomenon is not induced when patterning the resist film 4 by electron beam drawing, and the film is formed to cover the exposed portion 5 and the phase shift film 2.例文帳に追加

遮光膜３は、レジスト膜４を電子線描画しパターニングする際にチャージアップしない程度に導電性を有する材料であり、露出部５及び位相シフト膜２を覆うように形成されている。 - 特許庁

A plate-like member 3 is stuck on a support base board 1 via an adhesive layer 2, and plural cross-sectional pattern members 31, 32 and 33 are collectively formed by performing patterning up to penetrating through the plate-like member 3 by using a photolithography method.例文帳に追加

支持基板１上に接着層２を介して板状部材３を貼り付け、フォトリソグラフィー法を用いて板状部材３を貫通するまでパターニングして複数の断面パターン部材３１，３２，３３を一括して形成する。 - 特許庁

On the occasion of the patterning, the resin layer 102 is etched up to the bottom electrode 13a, so that resin forming the resin layer 102 does not substantially remain on the surface of the bottom electrode 13a facing the spaces 14a.例文帳に追加

該パターニングにあたり、液媒収容空間１４ａに面する下部電極１３ａの表面上に樹脂層１０２を構成する樹脂が実質的に残存しないように樹脂層１０２を下部電極１３ａまでエッチングする。 - 特許庁

An Al wiring is obtained by subjecting a multi-filmed Al layer made up of an Al film 2a of pure Al and an AlOx film 2b formed on the film 2a and made of Al containing oxygen elements to a photolithograpical patterning process.例文帳に追加

純粋なＡｌによって構成されるＡｌ膜２ａと、その上層に積層された酸素元素を含むＡｌによって構成されるＡｌＯ_x 膜２ｂとからなる多層Ａｌ層３をフォトリソグラフィーによってパターニングし、Ａｌ配線を得る。 - 特許庁

This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.例文帳に追加

これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁

To provide a cold cathode and its manufacturing method that enable to control the orientation of a field emission electron source capable of decreasing the operating drive voltage and the degree of vacuum of operation and to build up a cold cathode structure having a large-area wherein patterning in a desired shape can be made.例文帳に追加

動作駆動電圧、動作真空度が低減可能な電界放出電子源を配向制御することができ、所望の形状にパターニングできる大面積冷陰極構造の構築を可能にする冷陰極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A groove with its planar shape of an inclined face and an angle of gradient even from the central part to the longitudinal end is obtained by heat-treating and patterning at the time of forming a resist pattern after curling up the longitudinal tip of the inclined plane of a part corresponding to the groove in a semicircle.例文帳に追加

レジストパターン形成時に、この溝に相当する部分の斜面の長手方向の先端を半円形状に丸めておき、加熱処理をしてパターニングすることで、斜面の平面形状および傾斜角度が中央部から長手方向の端部まで均一である溝を得る。 - 特許庁

To enable reliable wiring patterning by eliminating or reducing linear thermal expansion coefficient between a transfer mold and a substrate, and thus by eliminating a problem of expansion difference between the transfer mold and the substrate when they are heated up to a predetermined temperature in an embossing process.例文帳に追加

転写金型と基板との間の線熱膨張係数の差をなくするか或いは減少して、エンボス加工の際に転写金型と基板とを所定温度まで加熱しても両者間の膨張差による問題を解消し、信頼性のある配線パターニングを可能にする。 - 特許庁

After the recessed pattern having surface density equivalent to that of the recessed pattern in the display region 102 is formed in the frame part 104, when columnar spacers 25 and 50 are formed, patterning is performed so that the recessed pattern of a transparent insulating layer formed in the frame part 104 is filled up with the columnar spacer 50.例文帳に追加

また、額縁部１０４に表示領域１０２と同等の面積密度の凹パターンを形成した後に、柱状スペーサ２５、５０を形成する際に、その柱状スペーサ５０で額縁部１０４に形成された透明絶縁膜層の凹パターンを埋めるようにパターンニングする。 - 特許庁

After forming a lower electrode (step S1), temperature is raised up to a predetermined value in a mixture gas atmosphere of an inert gas and O_2 gas (step S2); thereafter a ferroelectric film is formed (step S3); and an upper electrode is formed and patterning and the like are executed (step S4, S5) to form the ferroelectric capacitor.例文帳に追加

下部電極形成後（ステップＳ１）、不活性ガスとＯ_2ガスの混合ガス雰囲気中で所定温度まで昇温し（ステップＳ２）、その後、強誘電体膜を形成し（ステップＳ３）、上部電極形成およびパターニング等を行って（ステップＳ４，Ｓ５）、強誘電体キャパシタを形成する。 - 特許庁

Next, via holes 53 are formed at predetermined positions on the insulating layers 46 by laser work, and a series of patterning treatment is applied through a subtractive method or a semi additive method, to form wiring layers 16a, 16b and vias 17 whereby a four-layered build-up wiring board 300 employing the insulating layers 46 can be obtained.例文帳に追加

次に、レーザー加工により、絶縁層４６の所定位置にビア用孔５３を形成し、サブトラクティブ法、もしくはセミアディティブ法により、一連のパターニング処理を行って、配線層１６ａ、１６ｂ及びビア１７を形成し、絶縁層４６を用いた４層のビルドアップ配線基板３００を得ることができる。 - 特許庁

On the film, a titanium oxide film 8, a metal film 9 containing aluminum , a cap film 15 made up of a second titanium 13 and a second titanium film 14, and an anti-reflection film 16, are laminated in order; patterning is carried out by lithography and etching to form wiring; and the wiring is then heat-treated at some temperature of 385 to 415°C.例文帳に追加

その上に酸化チタン膜８、アルミニウムを含む金属膜９、第二チタン膜１３および第二窒化チタン膜１４からなるキャップ膜１５、反射防止膜１６を順次積層し、リソグラフィおよびエッチングによりパターニングして配線を形成した後、この配線を３８５〜４１５℃程度の温度で熱処理する。 - 特許庁

The tree classification method and pruning method are such that garden trees are classified in five categories from the viewpoint of a tree form, and shown as tree forms made by patterning peculiar features for each classification, based on each physiological ecology for each classification, and the pruning method backed up from the physiological ecology.例文帳に追加

課題を解決するために、樹形という観点から庭木を5つに分類して、分類毎に其々の生理生態と生理生態から裏付けされた剪定方法に基づいて、分類毎に特徴的な形態をパターン化した樹形とて現したことを特徴とする樹木の分類法と剪定のメソッドを提供して課題解決を図るものである。 - 特許庁