「phase defect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEFECT REPAIR METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法、位相シフトマスク及び露光方法 - 特許庁

To enhance correction accuracy of phase defect by detecting a defect position accurately when a phase defect is corrected.例文帳に追加

位相欠陥修正時における欠陥位置を正確に検出することができ、位相欠陥の修正精度の向上をはかる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER例文帳に追加

位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁

PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN例文帳に追加

位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法 - 特許庁

OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, APPARATUS FOR CORRECTING PHASE DEFECT IN OPTICAL ELEMENT, AND METHOD FOR CORRECTING PHASE DEFECT IN OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

光学素子、光学素子の製造方法、光学素子の位相欠陥修正装置及び光学素子の位相欠陥修正方法 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を確実に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK HAVING PSEUDO PHASE DEFECT, AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK HAVING PSEUDO PHASE DEFECT例文帳に追加

擬似位相欠陥を有する反射型マスクブランクスの製造方法、および擬似位相欠陥を有する反射型マスクの製造方法 - 特許庁

A white defect in a halftone phase shift mask or a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask is corrected to match the phase by depositing an electron beam CVD film 6 having high transmittance and a high phase effect such as tetramethoxysilane or the like.例文帳に追加

透過率が高く位相効果のあるテトラメトキシシラン等の電子ビームCVD膜６でハーフトーン型位相シフトマスクの白欠陥やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥を位相が合うように修正する。 - 特許庁

In the phase defect correction method of reflection type mask, phase difference between a phase defect part and a high reflection part is practically brought to 0 (zero) by laminating a multilayer film composed of two kinds of material on the phase defect part, and the reflectance of the phase defect part is substantially equalized to the reflectance of the high reflection part.例文帳に追加

位相欠陥部上に２種類の材料からなる多層膜を積層することにより、該位相欠陥部と高反射部の位相差を実用上０（ゼロ）とし、該位相欠陥部の反射率と高反射部の反射率を実用上等しくするように行う反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法である。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

Other part than the zigzag defect 15c is held at a temperature equal to or lower than the phase transition temperature of a smectic C phase.例文帳に追加

ジグザグ欠陥部１５ｃ以外は、スメクティックＣ相の相転移温度以下の温度に保持される。 - 特許庁

Phase shift or a phase defect part included in an original signal u(0) is made dull by the addition of the delayed signals.例文帳に追加

遅延信号の加算により元の信号ｕ（０）に含まれる位相ずれや位相欠損部が鈍化する。 - 特許庁

To provide a photomask correction optical system for phase defect correction with which high-accuracy defect correction can be achieved by correcting while observing and measuring the degree of a defect on correcting a phase shift photomask having a phase defect, and to provide a correction device using the system.例文帳に追加

位相欠陥を持つ位相シフトフォトマスクの修正にあたり、欠陥の度合いを観察、測定しながら行うことにより高精度の欠陥修正を達成できる位相欠陥修正用フォトマスク修正光学系とそれを用いた修正装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 - 特許庁

Further, a surface defect-shaped martensite phase along a specified direction is introduced therein.例文帳に追加

さらに、特定の方向に沿った面欠陥状マルテンサイト相を導入する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method for simultaneously detecting a phase defect and a pattern defect or a foreign substance.例文帳に追加

位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To surely detect even a minute defect of a halftone type phase shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。 - 特許庁

The defect structure 2 is included in the R_2Fe_14B type magnetic phase.例文帳に追加

そして、前記欠陥構造が、前記Ｒ_２Ｆｅ_１４Ｂ型磁性相に内包されている。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of reflection type mask which allows for accurate phase defect correction of a reflection type mask without causing any damage thereon.例文帳に追加

反射型マスクがダメージを受けることなく、精度よく、位相欠陥が修正されることを可能とする、反射型マスクの位相欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加

クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

This can provide the liquid crystal display device in which the defect (orientation defect) representing other oriented states than the blue phase is suppressed.例文帳に追加

これによって、ブルー相以外の配向状態を示す欠陥（配向欠陥）を抑制した液晶表示装置を作製する。 - 特許庁

To provide a phase difference defect inspection device which easily discriminates and detects the residual defect of a phase shifter and the surface flaw defect of a glass substrate from another defects, such as foreign matter (light shielding) defects.例文帳に追加

位相シフターの残存欠陥及びガラス基板の表面傷欠陥を異物（遮光）欠陥等の他の欠陥と区別して検出することを簡便に行なう位相差欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Phase defect can be corrected by laminating a multilayer film for correction, even for a protrusion defect directly above a substrate and a protrusion defect in the center of the multilayer film.例文帳に追加

基板真上の突起欠陥と多層膜中央の突起欠陥であっても、修正用多層膜を積層することでこれらの位相欠陥を修正することが可能である。 - 特許庁

Thereafter, a decision is made from the value of the mesh signal strength whether there is a phase defect (step S06).例文帳に追加

そして、メッシュ信号強度の値から位相欠陥の有無を判定する（ステップＳ０６）。 - 特許庁

To correct phase defect in a Mo/Si multilayer film or Mo_2C/Si multilayer film of the blanks of an EUVL mask.例文帳に追加

EUVLマスクのブランクスのMo/Si多層膜またはMo_2C/Si多層膜中の位相欠陥を修正する。 - 特許庁

PHASE DEFECT CORRECTION METHOD OF REFLECTION TYPE PHOTOMASK AND REFLECTION TYPE PHOTOMASK USING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法およびそれを用いた反射型フォトマスク - 特許庁

To improve accuracy in correcting a pixel value of a defect pixel in phase difference detection pixels.例文帳に追加

位相差検出画素における欠陥画素の画素値の補正の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a defect-correcting technique of high transmittance and satisfactory phase controllability, in order to provide a phase shift mask consisting of ruggedness of glass or quartz with high-quality defect correction.例文帳に追加

ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクに対して高品質な欠陥修正を提供するためには、高い透過率で、位相制御性も良い欠陥修正技術が必要である。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask having no black defect in a light shielding layer or in a phase shift layer and no decrease in the transmittance due to gallium stain, and no change in the phase difference due to a decrease in the thickness of the phase shift layer.例文帳に追加

遮光層及び位相シフト層の黒欠陥のない、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層の厚み低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

A phase shift mask is inspected by a mask inspecting apparatus and the size relating to the detected phase defect is measured by using this inspecting apparatus or a measuring instrument for defect review and further the phase and transmittance are calculated by using an optical simulation.例文帳に追加

位相シフトマスクをマスク検査装置を用いて検査し、検出した位相欠陥についてこの検査装置もしくは欠陥レビュー用測定装置を用いてサイズを測定し、さらに光学シミュレーションを用いて、位相、透過率を算出する。 - 特許庁

To reliably detect a defect or foreign matter in a halftone phase shifting mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクにおける欠陥或いは異物をより確実に検出できるようにする。 - 特許庁

The rare earth permanent magnet alloy comprises a rare earth-iron-boron type magnetic phase (R_2Fe_14B type magnetic phase) and at least a defect structure 2 in an internal structure.例文帳に追加

希土類−鉄−ボロン型磁性相（Ｒ_２Ｆｅ_１４Ｂ型磁性相）と、少なくとも欠陥構造２とを内部組織に有している。 - 特許庁

To provide a defect correcting method of a phase shift photomask that can raise and stabilize the yield of mask production by making efficient defect inspection and correction stages of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができる位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device having exact defect detection sensitivity even for a phase shift mask such as a halftone mask and a Levenson mask.例文帳に追加

ハーフトーンマスクやレベンソンマスク等の位相シフトマスクについても、正確な欠陥検出感度を備えた欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An SiC single crystal thin film of a single phase which comprises no anti-phase boundary (APB) and has less crystal defect can be formed on account of this anisotropy.例文帳に追加

この異方性によって、アンチフェーズバウンダリー(APB)を含まない結晶欠陥の少ない単相のSiC単結晶薄膜を形成可能とした。 - 特許庁

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

The estimation of the phase difference and transmittance at the exposure wavelength is made possible by calculating the phase difference and transmittance at the inspection wavelength of the detected phase defect and the improvement in the evaluation accuracy is made possible by calculating the defect transfer characteristic using the same.例文帳に追加

検出された位相欠陥の検査波長での位相差、透過率を算出したことで、露光波長での位相差、透過率を見積もることができ、これを用いて欠陥転写特性を計算することにより評価精度の向上が可能となる。 - 特許庁

After the phase and transmittance at an exposure wavelength are calculated from the determined values, the transfer characteristic of the phase defect is deduced by the optical simulation using these values.例文帳に追加

求めた値から露光波長での位相、透過率を算出した後、これらを用いた光学シミュレーションにより位相欠陥の転写特性を割り出す。 - 特許庁

Displacement of a domain wall of the R_2Fe_14B type magnetic phase is prevented by the defect structure 2 included in the R_2Fe_14B type magnetic phase, thereby improving the coercive force.例文帳に追加

Ｒ_２Ｆｅ_１４Ｂ型磁性相に内包された欠陥構造により、Ｒ_２Ｆｅ_１４Ｂ型磁性相の磁壁の移動を妨げて、保磁力を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a phase shift mask which makes the discovery of the defect produced in a phase shift layer possible in an early stage of a manufacturing process, a phase shift mask manufactured by this method for manufacturing the phase shift mask and a device manufactured by the phase shift mask.例文帳に追加

製造プロセスの早い段階で位相シフト層に生じた欠陥の発見を可能とする、位相シフトマスクの製造方法、その位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスク、および、その位相シフトマスクにより製造された装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をＡＦＭ型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁