「plasma sample」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SAMPLE STAGE FOR PLASMA PROCESSING SYSTEM AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

プラズマ処理装置用試料台及びその製法 - 特許庁

The atomizer 1 generates plasma (atomized plasma 5) containing an atomized sample.例文帳に追加

アトマイザー１は、原子化した試料を含むプラズマ（アトマイズプラズマ５）を発生させる。 - 特許庁

PLASMA SAMPLE TREATMENT METHOD, THIN FILM AND PLANE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

プラズマ試料処理法、薄膜及び平面表示装置 - 特許庁

SAMPLE PLACING ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS EMPLOYING SAME例文帳に追加

試料載置電極及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁

ICP-MS PLASMA INTERFACE FOR HIGH-MELTING POINT MATRIX SAMPLE例文帳に追加

高融点マトリックスサンプル用ＩＣＰ−ＭＳプラズマインターフェース - 特許庁

A sample 1 is introduced into plasma generated in a plasma ion source part 2, and ionized.例文帳に追加

プラズマイオン源部２で生成されたプラズマ中には試料１が導入され、イオン化される。 - 特許庁

Additionally, plasma characteristics are changed, and the distance between the probe and the sample is controlled according to the sample.例文帳に追加

また、プラズマ特性を変化させ、プローブ・試料間距離を試料に応じて制御する。 - 特許庁

A sample W on a sample base 3 is processed by the plasma, having a uniform density.例文帳に追加

密度が均一化されたプラズマによって、試料台３上の試料Ｗが処理される。 - 特許庁

To suppress rise of the temperature of a sample, to prevent the sample from being charged, and to control acceleration energy of the ions, when ions are doped into the sample by ionizing a material gas by subjecting it to plasma decomposition, and by exposing the sample to the plasma atmosphere.例文帳に追加

原料気体をプラズマ分解してイオン化し、そのプラズマ雰囲気に曝露することで試料にイオンをドーピングする際に、試料の温度の上昇を抑制する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING SAMPLE BY PLASMA PROCESSING例文帳に追加

プラズマ処理による試料処理方法および試料処理装置 - 特許庁

The coronary artery spasm type angina pectoris is identified by measuring serotonin concentration in a plasma sample, a whole blood sample, a serum sample, or a platelet sample.例文帳に追加

血漿試料、全血試料、血清試料、または血小板試料中のセロトニン濃度を測定することにより、冠動脈攣縮型狭心症を識別する。 - 特許庁

To measure activity of a coagulation reaction with a small amount of blood plasma sample.例文帳に追加

凝固反応の活性を少量の血漿サンプルで測定する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SURFACE-TREATING SAMPLE USING PLASMA例文帳に追加

プラズマを用いた試料の表面処理方法及び表面処理装置 - 特許庁

Additionally, by measuring serotonin concentration in the plasma sample, that in the whole blood sample, serum sample, or platelet sample, and then obtaining the ratio of the serotonin concentration in the plasma sample to serotonin concentration in the whole blood sample, serum sample, or the platelet sample, the coronary artery spasm type angina pectoris can be identified.例文帳に追加

また血漿試料中のセロトニン濃度と、全血試料、血清試料または血小板試料中のセロトニン濃度とを測定し、血漿試料中のセロトニン濃度と、全血試料、血清試料、または血小板試料中のセロトニン濃度との比を求めることにより、冠動脈攣縮型狭心症を識別する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus with a high treatment rate without damages of a sample surface by plasma.例文帳に追加

プラズマが試料表面を損傷することなく、処理レートの高いプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

By this constitution, the matching of impedance is not largely shifted when the sample of the plasma is introduced and the sample is introduced into the plasma while certainly keeping the lighting of the plasma.例文帳に追加

この構成により、プラズマの試料導入時に、インピーダンスの整合が大きく外れることがなくなり、プラズマの点灯を確実に維持したまま試料をプラズマへ導入することができる。 - 特許庁

Microwave and plasma-produced gas are introduced into a processing chamber 2, and high frequency voltage is applied to a sample bed 3 for plasma processing on the sample W.例文帳に追加

処理室２内にマイクロ波及びプラズマ生成ガスが導入され、試料台３に高周波電圧が印加されて試料Ｗにプラズマ処理が施される。 - 特許庁

To provide a plasma treatment system and method therefor capable of applying temperature control to a stage and applying plasma treatment to a sample depending on the process of the sample to be treated.例文帳に追加

処理される試料のプロセスに応じて、試料台の温度制御を行いプラズマ処理することのできるプラズマ処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating device for uniformizing a plasma treatment distribution when the plasma treatment is applied to a sample.例文帳に追加

試料に対してプラズマ処理を行う際、プラズマ処理分布を均一化できる表面処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment apparatus capable of uniformizing plasma distribution when applying a plasma treatment to a sample.例文帳に追加

試料に対してプラズマ処理を行う際、プラズマ処理分布を均一化できる表面処理装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CALIBRATING STANDARD SAMPLE, LASER INDUCED PLASMA SPECTRAL ANALYZING METHOD AND LASER INDUCED PLASMA SPECTRAL ANALYZER例文帳に追加

較正用標準試料の生成方法および装置、並びにレーザー誘起プラズマ分光分析方法および装置 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus comprising a small sample stage which can quickly mount and dismount a sample thereon and therefrom.例文帳に追加

小型で、試料の離脱を速やかに行うことのできる試料台を備えたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus capable of simply and accurately dispensing a plasma sample and a blood corpuscle sample.例文帳に追加

血漿サンプルおよび血球サンプルを簡易かつ正確に分注しうる方法および装置を提供すること。 - 特許庁

BLOOD PLASMA COLLECTION METHOD AND INSTRUMENT, AND BLOOD SAMPLE INSPECTION METHOD AND INSTRUMENT例文帳に追加

血漿回収方法及び器具並びに血液簡易検査方法及び器具 - 特許庁

A sample to inspected is blood, serum, or blood plasma and PTX3 protein concentration in the test sample using anti-PTX3 antibody in the sample.例文帳に追加

被検試料が、血液、血清または血漿であり、抗ＰＴＸ３抗体を用いて被検試料中のＰＴＸ３タンパク質濃度を測定するものである。 - 特許庁

To provide a reaction vessel and a plasma processing apparatus free from elemental impurity contamination on a sample and damages by the plasma.例文帳に追加

元素不純物で試料が汚染されず、且つプラズマによる損傷が少ない反応容器及びプラズマ処理装置。 - 特許庁

When the sample is released, the electrostatic chuck 4 is first connected to the earth to generate a cleaning (discharging) plasma on the upper side of the sample.例文帳に追加

試料の脱離時には、先ず静電チャック４をアースと接続し、試料上方に除電用のプラズマを発生させる。 - 特許庁

The ionized sample is further ionized by an inductive-coupling plasma torch 6.例文帳に追加

そのイオン化された試料は誘導結合プラズマトーチ６によって更にイオン化される。 - 特許庁

To provide a large-dimension high frequency plasma device for sample treatment using a waveguide.例文帳に追加

導波管を用いた大面積試料処理用高周波プラズマ装置の提供。 - 特許庁

The method for measuring the amount of chymase in a serum or plasma sample is provided, including: the step of contacting a reducing agent with a serum or plasma sample; and the step of measuring the amount of the chymase in the sample.例文帳に追加

血清あるいは血漿サンプルと還元剤とを接触させる工程、および、該サンプル中のキマーゼ量を測定する工程を含む、血清あるいは血漿サンプル中のキマーゼ量の測定方法を提供する。 - 特許庁

In the plasma treatment apparatus which utilizes a plasma for treating the sample, a non-opening part 2 is provided in a middle portion of a dispersion plate 1 installed at an upper position of a sample treatment chamber 12 where a sample 14 is placed.例文帳に追加

プラズマを利用して試料を処理するプラズマ処理装置で、試料１４が載置されている試料処理室１２の上部の位置に設置された分散板１の中央部分に、非開口部２を設けた。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which allows the improvement of the evenness of processing in a direction of a sample surface, and a plasma processing method.例文帳に追加

試料の面方向について処理の均一性を向上させたプラズマ処理装置またはプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus and a plasma treatment method where particles are prevented from being generated by preventing a sample from contaminated with element impurities.例文帳に追加

元素不純物で試料が汚染されず、パーティクル発生を防止するプラズマ処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

In irradiation by the pulse laser beams 5, plasma 13 is generated in the sample 3, and an X-ray 14 is generated from the plasma 13.例文帳に追加

パルスレーザ光５が照射されると、試料３ではプラズマ１３を発生し、プラズマ１３からはＸ線１４が発生する。 - 特許庁

The stabilizing component is introduced by the amount that shows stabilizing action in the blood sample or a blood plasma sample to stabilize brain natriuretic peptide (BNP) in the sample.例文帳に追加

安定化成分は血液試料または血漿試料中に安定化作用を示す量導入され、該試料中の脳性ナトリウム利尿ペプチド（ＢＮＰ）を安定化する。 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which processes the surface of a sample with a plasma, where a pattern of a high aspect ratio can be processed at a high speed.例文帳に追加

プラズマを利用し、試料の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、高アスペクト比のパターンを高速度で処理する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus with which the effects on the shape of a sample-carrying port on plasma can be reduced through a simple arrangement.例文帳に追加

簡易な構成で、試料搬送口の形状のプラズマへの影響を低減することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The boundary between a sheath and plasma formed on the surface of a sample placed in the plasma is detected by a fine electrostatic probe 18 for tracing.例文帳に追加

プラズマ中に置かれた試料表面に形成されるシースとプラズマの境界を微細な静電プローブ１８で検知し、これをトレースする。 - 特許庁

Sample gas introduced through a capillary pipe 16 is mixed with the plasma gas and the dilution gas by a turbulent flow generated by a collision between the plasma gas and the dilution gas, and sample components thereof are efficiently ionized by light from plasma without being affected by light shielding by sample components thereof having high density.例文帳に追加

キャピラリ管１６を通して導入された試料ガスはプラズマガスと希釈ガスとの衝突により生じる乱流によりそれらガスと混じり、試料成分は濃い試料成分による光遮蔽の影響を受けずに、プラズマからの光により効率的にイオン化される。 - 特許庁

To introduce an extremely small amount of a sample into plasma even in the case that a fluid of high viscosity is used.例文帳に追加

高粘性の流体を使用する場合でも、微量の試料をプラズマ中に導入すること。 - 特許庁

To provide a technique, capable of simply measuring the viscosity of serum or blood plasma, using a small amount of a sample.例文帳に追加

血清または血漿の粘度を少量の試料で簡便に測定できる技術の提供。 - 特許庁

A plasma doping device is provided into such a structure that a plasma generating chamber 1 for generating a plasma and a doping chamber 2 for introducing impurities in the surface of a sample to be processed communicate with each other.例文帳に追加

プラズマを発生させるプラズマ発生室１と、被加工試料の表面に不純物を導入するためのドーピング室２とが、互いに連通するように設けられている。 - 特許庁

To provide a configuration capable of supplying plasma gas in large quantity to stabilize plasma simultaneously with lowering the sample dilution ratio to improve detection sensitivity.例文帳に追加

プラズマを安定化させるべく大量のプラズマガスを流しつつ、高感度検出のために試料の希釈率を下げることが可能な構成とする。 - 特許庁

This reactive etching gas is integrated into plasma when the high frequency power is applied from the electrode 12, and the dry etching of the sample 14 is carried out by the plasma.例文帳に追加

この反応性エッチングガスは、電極１２から高周波電力が印可されてプラズマ化し、このプラズマによりサンプル１４がドライエッチングされる。 - 特許庁

The ion-doping apparatus is equipped with a plasma chamber, where a prescribed substance is excited in a plasma to generate ions and a processing chamber where the ion beam made to collide with the sample to inject ions into it.例文帳に追加

また、このイオン注入装置を用いて、生産性を高め、かつ、スイッチング特性に優れた薄膜半導体装置を提供する。 - 特許庁