「second-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(105ページ目) - Weblio英語例文検索

The power semiconductor device has a first main electrode connected to the first semiconductor layer and a second main electrode connected to the fourth semiconductor layer and the fifth semiconductor layer.例文帳に追加

前記第１半導体層に接続された第１主電極と、前記第４半導体層と前記第５半導体層とに接続された第２主電極と、を備える。 - 特許庁

Meanwhile, most of the thickness d in the liquid crystal layer 19 in a display area S is equal to the thickness between a first electrode layer 14 and a second electrode layer 16.例文帳に追加

一方、表示領域Ｓにおいては、液晶層１９の厚みｄの大部分は第１電極層１４と第２電極層１６との間の厚みとなる。 - 特許庁

The lead frame 11 has a three-dimensional structure of a lower conductor layer 11a (first electrode terminal), an insulating layer 11b, and an upper conductor layer 11c (second electrode terminal).例文帳に追加

リードフレーム１１は下部導体層１１ａ（第１電極端子）、絶縁層１１ｂおよび上部導体層１１ｃ（第２電極端子）の立体構造を有する。 - 特許庁

The manganese capturing layer is composed of a second capturing layer 8c consisting of a simple substance of metal such as silicon or tin and a first capturing layer 7c consisting of oxide of such a simple substance of silicon or tin.例文帳に追加

マンガン捕捉層は、シリコン、スズなどの金属の単体からなる第二捕捉層８ｃと、それら単体の酸化物からなる第一捕捉層７ｃとから構成される。 - 特許庁

A birefringent film 13 having a grating of recesses and projections and a transparent substrate 12 are adhered with a multilayered adhesive layer 15 including a first adhesive layer 15a and a second adhesive layer 15b.例文帳に追加

凹凸格子を有する複屈折膜１３と透明基板１２とを、第１接着剤層１５ａ、第２接着層１５ｂを含む多層の接着層１５で接着する。 - 特許庁

Then, the first transparent electrode layer 12 and the second transparent electrode layer 14 are laminated together with a transparent insulating layer 17 sandwiched therebetween to form a transparent electrode substrate 10.例文帳に追加

そして、透明絶縁層１７を間に挟んで第１透明電極層１２と第２透明電極層１４を積層して透明電極基板１０を構成する。 - 特許庁

A laminated film including a first silicon layer S1p in a polycrystal state, an insulating layer IL and a second silicon layer S2a in an amorphous state is formed on a substrate SB.例文帳に追加

基板ＳＢ上に、多結晶状態の第１シリコン層Ｓ１ｐと、絶縁層ＩＬと、アモルファス状態の第２シリコン層Ｓ２ａとを有する積層膜が形成される。 - 特許庁

In the forming die for an optical element, a first layer 3 of chromium, a second layer 4 of chromium nitride, and third layer 5 of chromium oxide or/and chromium oxynitride are successively laminated on a forming surface 2a of a die base material 2.例文帳に追加

型母材２の成形面２ａに、第１層のクロム層２、第２層の窒化クロム層３、第３層の酸化クロム層または／及び酸窒化クロム層４を形成する。 - 特許庁

The invention relates to a method for manufacturing a ferroelectric memory device by forming an underlying layer above a substrate, and then laminating a first electrode, a ferroelecric layer and a second electrode on the underlying layer.例文帳に追加

基板の上方に下地層を形成し、下地層上に第１電極、強誘電体層、第２電極を積層する強誘電体メモリ装置の製造方法である。 - 特許庁

The connection includes 1-2 layer connection to second layer printed wiring from the surface and 1-3 layer connection to a third printed wiring from the surface.例文帳に追加

接続は、表面から数えて２層目のプリント配線に対する１−２層接続と、表面から数えて３層目のプリント配線に対する１−３層接続である。 - 特許庁

Electron holes, which are generated by optical absorption performed by the third semiconductor layer 4 during operation, are accumulated on the interface between the third semiconductor layer 4 and the second semiconductor layer 3.例文帳に追加

動作時に第３の半導体層４による光吸収によって生成される正孔が第３の半導体層４と第２の半導体層３との界面に蓄積される。 - 特許庁

(c) After removing the second etching mask layer 14, part of the backside semiconductor layer 9 in the weight section formed region 4 is etched using the first etching mask layer 12 as a mask.例文帳に追加

第２エッチングマスク層１４を除去した後、第１エッチングマスク層１２をマスクにして重錘部形成領域４の裏面側半導体層９の一部をエッチングする（ｃ）。 - 特許庁

The intermediate layer 102 contains filler to have third density being intermediate density between the first density in the uppermost layer 101 and the second density in the bottom face layer 103.例文帳に追加

中間層（１０２）は、最上層（１０１）の第１の密度と、底面層（１０３）の第２の密度の中間の第３の密度を有するようにフィラーを含有する。 - 特許庁

The organic EL element 1 has a first electrode layer (a positive electrode) 3, an organic EL layer 4, and a second electrode layer (a negative electrode) 5 laminated in turn on the surface of a glass substrate 2.例文帳に追加

有機ＥＬ素子１は、ガラス基板２の表面に第１電極層（陽極）３、有機ＥＬ層４、第２電極層（陰極）５が順に積層されている。 - 特許庁

A means for knowing the thickness after treatment is provided on the first layer of the sample and thereby the distance between the first layer and the second layer which is thereafter formed can be measured.例文帳に追加

また、試料の第１の層上に処理後の厚さがわかる手段を儲けることで、その後に形成する第２の層と第１の層との距離を測定できるようにする。 - 特許庁

A second interlayer insulating layer 15 consists of a PSG film 9, an SiN film 11 and a photosensitive polyimide layer 13, and has a through hole 17 on the first metal wiring layer 7.例文帳に追加

ＰＳＧ膜９、ＳｉＮ膜１１及び感光性ポリイミド層１３からなり、第１メタル配線層７上にスルーホール１７をもつ第２層間絶縁層１５を形成する。 - 特許庁

To arrange a first clad layer and a second clad layer concentrically with high accuracy in a double-clad fiber having the first clad layer of a noncircular shape including a polygonal shape.例文帳に追加

多角形状を含む非円形形状の第１クラッド層を有するダブルクラッドファイバにおいて第１クラッド層と第２クラッド層とを精度高く同心配置する。 - 特許庁

Among the regions in the semiconductor layer including the top face of the semiconductor layer, a second semiconductor region is formed in at least a part of a region below the semi-insulating layer.例文帳に追加

半導体層の上面を含む半導体層内の領域のうち、半絶縁層の下側の少なくとも一部の領域に、第２半導体領域が形成されている。 - 特許庁

Further, a second metal layer is formed on the surfaces of the semiconductor layer and the first insulation layer, and a third MPE is carried out to form a source structure and a drain structure on both the sides of the ES.例文帳に追加

また該ESと、半導体層と第1絶縁層の表面に第2金属層を形成して第3MPEを行い該ESの両側にソース構造とドレイン構造とを形成する。 - 特許庁

A dopant layer 51 containing a p-type dopant is formed at a part of the second nitride semiconductor layer 504 disposed below the p-type nitride semiconductor layer 506.例文帳に追加

第２窒化物半導体層５０４のうちｐ型窒化物半導体層５０６の下に位置する部分には、ｐ型ドーパントを含むドーパント層５１１が形成されている。 - 特許庁

A substitute 50 is formed from a first layer 1 consisting of monocrystal silicon, a second layer 2 consisting of SiO2, and a third layer 3 consisting of monocrystal silicon, which are laminated one over another.例文帳に追加

単結晶シリコンから成る第１層１と、ＳｉＯ２から成る第２層２と、単結晶シリコンから成る第３層３とを順次に積層した基板５０を準備する。 - 特許庁

A first alignment layer 1 is formed in an inner side region and a second alignment layer 2 having alignment regulating force stronger than that of the first alignment layer is formed in a peripheral region.例文帳に追加

内側領域には第１の配向膜１を形成し、周縁領域には第１の配向膜よりも強い配向規制力を備えた第２の配向膜を形成する。 - 特許庁

Also, this wiring board 1 is provided with a built-in capacitor 13 constituted of a first plane electrode layer 29 or the like, a second plane electrode layer 30 or the like, and a high dielectric layer 76 or the like.例文帳に追加

また、内部に、第１プレーン電極層２９等、第２プレーン電極層３０等、及び高誘電体層７６等からなる内蔵コンデンサ１３を備える。 - 特許庁

A second light shielding layer 5 is formed at a position which overlaps a region of the colored layer in a planar manner not overlapping the first shielding layer in the liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶表示パネルにおいて第１の遮光層と重ならない着色層の領域と平面的に重なる位置には第２の遮光層５が形成される。 - 特許庁

To provide a substrate for suspension capable of preventing disconnection of a second wiring layer provided on a first wiring layer via an insulating layer and improving electrical characteristics.例文帳に追加

絶縁層を挟んで第１配線層上に設けられた第２配線層の断線を防止し、電気的特性を向上させることができるサスペンション用基板を提供する。 - 特許庁

In a crotch area 8 of the diaper 1, the first absorption layer 21 and the third absorption layer 22 have the same width and the second absorption layer 23 has a width which is 1/3 to 2/3 of the above width.例文帳に追加

おむつ１の股下域８において、第１，第３吸収層２１，２２は同じ幅を有し、第２吸収層２３がそれらの幅の１／３〜２／３の幅を有する。 - 特許庁

A second semiconductor laser structure 120 consists of an n-type clad layer 121, an active layer 122, a p-type clad 123 and an n-type current blocking layer 124.例文帳に追加

また、第２の半導体レーザ構造１２０は、ｎ型クラッド層１２１、活性層１２２、ｐ型クラッド層１２３、ｎ型電流ブロック層１２４により構成されている。 - 特許庁

The sheet 4 is wound on one aligned-wound layer of the wire, and a second layer of wire is aligned-wound on the layer of the sheet 4.例文帳に追加

（１）ボビンのボビン胴部の外周上に、線材巻溝列が複数列設けられて成る線材整列層間シートを巻き付けて成ることを特徴とする線材整列巻用ボビン。 - 特許庁

The first fluorescent material layer 21 is formed on the anode 12, and the second fluorescent material layer 22 is formed to cover the first fluorescent material layer 21.例文帳に追加

アノード電極１２上には第１の蛍光体層２１が形成されており、さらに第１の蛍光体層２１を覆うように第２の蛍光体層２２が形成される。 - 特許庁

In this organic light-emitting device, a metallic reflection film, a metal fluoride thin film, a first transparent conductive layer, a luminous layer and a second transparent conductive layer are sequentially laminated.例文帳に追加

金属反射膜と、フッ素化金属薄膜と、第一の透明導電膜と、発光層と、第二の透明導電膜と、を順次積層した有機発光素子とする。 - 特許庁

The second adhesion layer 47, the heating body 35, the first adhesion layer 46 and the releasing layer 37 are disposed radially outward in this order from the base body 31.例文帳に追加

そして、ベース体３１から半径方向外方に向かって順に、第２接着層４７と、発熱体３５と、第１接着層４６と、離型層３７と、が配置されている。 - 特許庁

After the patterning of the DCL layer 602, the negative type feature of the DLC layer is filled with a deposited metal and remained DCL layer is removed, then a second mask 1002 is produced.例文帳に追加

ＤＬＣ層６０２のパターニング後、ＤＬＣ層のネガ型特徴を堆積金属で充填し、残ったＤＬＣ層を除去した後、第二マスク１００２が生成される。 - 特許庁

The second ferromagnetic layer 74 is ferromagnetically exchange-coupled with the first ferromagnetic layer 76 and antiferromagnetically exchange-coupled with the third ferromagnetic layer 70.例文帳に追加

第２強磁性層７４は、第１強磁性層７６と強磁性的に交換結合すると共に、第３強磁性層７０と反強磁性的に交換結合している。 - 特許庁

The substrate 100 is provided with a first power supply layer 12 and a second power supply layer 14 connected to the power supplies 32, 34 and an exclusive power supply layer 16 which is freed from the power supply.例文帳に追加

基板１００は、電源３２，３４に接続された第１種電源層１２と第２種電源層１４と、電源からはフリーな専用電源層１６とを備える。 - 特許庁

Accordingly, the continuity between the first luminescent layer and the second luminescent layer is enhanced to improve the characteristic of the interface of the luminous layer, whereby a satisfactory emission can be obtained.例文帳に追加

これにより第１の発光層と第２の発光層との間の連続性が高まり、発光層の界面の特性が改善されることで良好な発光が得られる。 - 特許庁

A third winding C3 in the third layer is made to pass through a groove part 214 formed between the first winding C1 in the third layer and the second winding C2 in the third layer.例文帳に追加

第３層目の第３巻線Ｃ３を、第３層目の第１巻線Ｃ１と第３層目の第２巻線Ｃ２との間に形成される溝部２１４を通す。 - 特許庁

A current can be made to flow in both directions between the first pinned layer and the second pinned layer, and the direction of magnetization of the storage layer changes with the direction and value of the current.例文帳に追加

また、第１固着層と第２固着層の間に電流を双方向に流すことが可能で、電流の方向と値により記憶層の磁化の方向が変わる。 - 特許庁

A cupric oxide layer 14 and a cuprous oxide layer 15 are provided in this order on the surface except for the connection pad of second upper layer rewiring 13 consisting of copper.例文帳に追加

銅からなる第２の上層再配線１３の接続パッド部を除く表面には酸化第２銅層１４および酸化第１銅層１５がこの順で設けられている。 - 特許庁

In the second place (2), in the uppermost surface protective layer, at least one thermosetting layer is provided between the base film and the protective layer.例文帳に追加

（２）上記に該当する最表の保護層において、基材フィルムと当該保護層との間に１層以上の熱硬化型による層を具備することを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To improve reliability in connection between a first layer wire and a second layer wire arranged so as to sandwich a thick insulating film formed in the same layer as a three-dimensional multi-layerized capacitor.例文帳に追加

立体化されたキャパシタと同層に形成された厚い絶縁膜を挟んで配置される第１層配線と第２層配線との接続信頼性を向上する。 - 特許庁

A heat dissipation board is provided with a diamond board 1 and a metal bonding layer 4 which is mounted with a first intermediate bonding layer 2, a second intermediate bonding layer 3, and a semiconductor element.例文帳に追加

放熱基板は、ダイヤモンド基板１と、第１の中間接合層２と第２の中間接合層３と半導体素子が取付けられる金属接合層４とを備える。 - 特許庁

CoCrTa, Ru and CoCrPtB are further film-deposited as a first magnetic layer 5a, a exchange coupled film 5b and a second magnetic layer 5c, respectively, to form a magnetic layer 5.例文帳に追加

さらに、第１の磁性層５ａとしてＣｏＣｒＴａを、交換結合膜５ｂとしてＲｕを、第２の磁性層５ｃとしてＣｏＣｒＰｔＢを成膜し、磁性層５とした。 - 特許庁

The transparent conductive film is formed by laminating a first buffer layer, a second buffer layer, and a conductive layer on one surface of a transparent base-material film in this order.例文帳に追加

透明導電性フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に第１緩衝層と第２緩衝層と導電層とがこの順に積層されて構成されている。 - 特許庁

Further, the laminate 2 is formed by stacking a first insulating layer 3, a primary coil 8, an inter-coil insulating layer 9, a secondary coil 14, a second insulating layer 15, etc.例文帳に追加

また、積層体２は、第１の絶縁層３、１次コイル８、コイル間絶縁層９、２次コイル１４、第２の絶縁層１５等を積み重ねることによって形成する。 - 特許庁

An electrode 12 can be embedded at the inside of the layer 13, and it can be fixed and bonded to the rear surface of the second insulating layer or to the surface of the third insulating layer.例文帳に追加

また、電極１２は第１絶縁層１３の内部に埋設することもできるが、第２絶縁層の下面又は第３絶縁層の上面に固着することもできる。 - 特許庁