| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
On the first insulating layer 41, a second insulating layer 42 is formed so as to cover the wiring patterns W1 and W2 for writing and the ground pattern G1.例文帳に追加
書込用配線パターンW1,W2およびグランドパターンG1を覆うように第1の絶縁層41上に第2の絶縁層42が形成されている。 - 特許庁
Two control gates are arranged via a second gate insulating layer 22 to the semiconductor substrate and via a side insulating layer 24 to the word gate, respectively.例文帳に追加
両コントロールゲートはそれぞれ半導体基板に対して第2ゲート絶縁層22を介して、かつワードゲート対してサイド絶縁層24を介して配置される。 - 特許庁
In the pixel 2, any one of the first reflecting layer 42 or the second reflecting layer 44 is arranged according to the wavelength of light to be emitted.例文帳に追加
画素2には、射出される光の波長に応じて、第1の反射層42または第2の反射層44のいずれか一方が配置されている。 - 特許庁
This invention relates to a method of manufacturing an organic electroluminescent element 1 equipped with a first electrode 11, a buffer layer 30, a light emitting layer 40, and a second electrode 50.例文帳に追加
第1電極11と、バッファ層30と、発光層40と、第2電極50とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子1を製造する方法に関する。 - 特許庁
The amount of resin included in the first interlayer resin insulation layer 410 is greater than that of the second interlayer resin insulation layer 420.例文帳に追加
そして、第1の層間樹脂絶縁層410に含まれている樹脂の量は前記第2の層間樹脂絶縁層420に含まれている樹脂の量より多い。 - 特許庁
A plurality of via conductors 103v connected electrically to the second electrode set are formed on the resin layer 103 adhering to the wiring layer 102.例文帳に追加
第2の電極セットに電気的に接続された複数のビア導体103vが、配線層102に付着された樹脂層103に形成される。 - 特許庁
The first dummy via 7a is formed on the first-layer metal 3, and there is no second-layer metal 9 formed on the first dummy via 7a.例文帳に追加
第1ダミーVIA7aは第1層目メタル3上に形成され、第1ダミーVIA7a上には第2層目メタル9は形成されていない。 - 特許庁
The first outer layer 11 and the second outer layer 12 are formed by using, as base materials, wood powder and a resin material mainly composed of a thermoplastic resin material.例文帳に追加
第1外層11および第2外層12は、木粉と、熱可塑性樹脂材料を主要成分とする樹脂材とを基材として形成されている。 - 特許庁
Also, in forming the anti-ferromagnetic layer 6 of Rh/Mn alloy, the second magnetic layer 5 is formed at a film formation rate which is 0.181 nm/s or less.例文帳に追加
また、反強磁性層6をRh−Mn合金によって形成する場合には、第2の磁性層5を0.181nm/s以下の成膜レートで形成する。 - 特許庁
A ground line to which a grounding voltage GND to be used in a sub-column decoder 125a is supplied, is formed on a metal wiring layer 204 of a second layer (2M).例文帳に追加
第2層(2M)の金属配線層204にサブコラムデコーダ125aで用いる接地電圧GNDが供給される接地線が形成される。 - 特許庁
The nozzle plate 4 is provided with a nozzle hole 11 in the first layer by electroforming and then provided with a recess becoming an ink channel 12 and a common recess 13 in the second layer.例文帳に追加
ノズルプレート4は、電鋳法の1層目にノズル孔11を形成した後、2層目にインク流路12となる凹部及び共通凹部13が形成されている。 - 特許庁
Furthermore, the semiconductor device comprises a recess which is formed on the third semiconductor layer and of which at least a corner between the side face and the bottom face is within the second semiconductor layer.例文帳に追加
さらに、第3の半導体層に形成され、少なくとも側面と底面との角部が第2の半導体層内にある凹部を備えている。 - 特許庁
This artificial flower to which the decorativeness is added is formed out of a base material which is coated with the luminous material as a first layer and further with the photocatalyst comprising titanium oxide, etc., as a second layer.例文帳に追加
装飾性を加えた造花を基材とし、第一層に蓄光剤をコーティングし、さらに第二層に光触媒である酸化チタン等をコーティングする。 - 特許庁
In the light emitting device 1, a second inter-layer insulating film 35, an auxiliary electrode 150 and a common electrode 72 are successively laminated on an element layer 30.例文帳に追加
発光装置1においては、素子層30の上に、第2層間絶縁膜35と、補助電極150と、共通電極72が順に積層される。 - 特許庁
The organic EL device 100 is equipped with a device substrate 101, a first electrode layer 102, a light emitting medium laminate 103, and a second electrode layer 104.例文帳に追加
有機ELデバイス100は、デバイス基板101、第1電極層102、発光媒体積層体103、及び第2電極層104を備えている。 - 特許庁
A first diffusion layer and a second diffusion layer are provided on the surface portion of the silicon substrate so as to sandwich the gate insulating film and the gate electrode therebetween.例文帳に追加
前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極を挟むように、前記シリコン基板の表面部に第1の拡散層および第2の拡散層が設けられる。 - 特許庁
The central portion 131 is configured in such a manner that the first metallic heat generating layer 135 made of magnetic shunt alloy and the second metallic heat generating layer 136 made of copper are stacked.例文帳に追加
中央部131は、整磁合金からなる第1金属発熱層135と、銅からなる第2金属発熱層136が積層されてなる。 - 特許庁
The base part 40 has a three-layer structure including a resin layer 43 interposed between a first metal plate 41 on the front side and a second metal plate 42 on the rear.例文帳に追加
ベース部40は、表側の第1金属板41と裏側の第2金属板42との間に樹脂層43が介在してなる3層構造となっている。 - 特許庁
A first hard coat layer and a second hard coat layer different in film thickness, which are transparent and rigid organic material layers, are formed on both faces of a transparent substrate.例文帳に追加
透明基板の両面に透明硬質な有機物質層による膜厚が異なる第1のハードコート層と第2のハードコート層が設けられる。 - 特許庁
A belt layer 20 is provided in the radial direction outside the carcass layer 18 and is constituted of two plies of a first belt ply 2002 and a second belt ply 2004.例文帳に追加
ベルト層20は、カーカス層18の半径方向外側に設けられ、第1ベルトプライ2002と第2ベルトプライ2004の2枚で構成されている。 - 特許庁
The second conductive junction layer 51 is brought into direct contact with the first conductive junction layer 42, and both layers and are compression bonded together under a high temperature (Fig.1(g)).例文帳に追加
第2の導電性接合層51と第1の導電性接合層42とが直接接するようにして、高温で加圧接合する(図1(g))。 - 特許庁
The first adhesive layer 7 is provided in the vicinity of a tip of the flap 4, and the second adhesive layer 8 is provided in the vicinity of the opening 6.例文帳に追加
第1接着剤層7は、フラップ4の先端部近傍に設けられており、第2接着剤層8は、開口部6の近傍に設けられている。 - 特許庁
A channel layer 107 is doped with a first conductivity type impurity, and the regrown semiconductor layer 112 is doped with a second conductivity type impurity.例文帳に追加
チャネル層107は第1の導電型の不純物を含有し、再成長半導体層112は第2の導電型の不純物を含有している。 - 特許庁
Since a difference between the refractive index of the protective layer 20 and those on the boundary faces of the second electrode 14 and the color conversion layer 22 is small, reflection interfering effect is prevented.例文帳に追加
保護層20と、第二の電極14と色変換層22との界面において屈折率差が小さいため、反射干渉効果が防止される。 - 特許庁
A second electron supply layer 15 is set to have an aluminum abundance ratio equal to or higher than a maximum value of the aluminum abundance ratio of the first electron supply layer 14.例文帳に追加
第2電子供給層15は、第1電子供給層14におけるアルミニウム存在比の最大値以上のアルミニウム存在比に設定される。 - 特許庁
The prism sheet 8 is formed of a molding material 6 either at the first electrode at an opposite side of the light-emitting layer or at the second electrode at an opposite side of the light-emitting layer.例文帳に追加
プリズムシート8は、第一電極の発光層とは反対側、または、第二電極の発光層とは反対側に成形材料6で形成されている。 - 特許庁
The first layer 30 includes a first portion 31 and the like and a second region 32 and the like with a layer thickness smaller than that of the first portion 31 and the like arranged alternately.例文帳に追加
第1層30は、第1部分31等と、その第1部分31等より層厚の薄い第2部分32等とを交互に有している。 - 特許庁
The center part of the second p-clad layer 6 is removed by wet etching by a mask pattern in accordance with the outline of a p electrode 8 to expose the first p-clad layer 5.例文帳に追加
第2pクラッド層6の中央部を、p電極8の輪郭に合わせたマスクパターンによるウェットエッチングで除去して、第1pクラッド層5を露出させる。 - 特許庁
The coil electrode section 10 is sandwiched by the first magnetic layer 11 and the second magnetic layer 12 from both directions perpendicular to the plane.例文帳に追加
コイル電極部10は、前記平面に直交する方向の両側から第1磁性体層11および第2磁性体層12により挟持される。 - 特許庁
An organic EL element 1 comprises: an anode 3; a first organic layer 4; an intermediate electrode 5; a second organic layer 6; and a cathode 7 on a substrate 2.例文帳に追加
有機EL素子1は、基板2上に、陽極3と、第1の有機層4と、中間電極5と、第2の有機層6と、陰極7とを備えている。 - 特許庁
The electrodes 19 in the second wiring layer 12 and the first wiring layer 11 are connected electrically by a bump 20 which is an interlayer adhesive member.例文帳に追加
第2の配線層12における電極部19と、第1の配線層11とは、層間接合部材であるバンプ20により電気的に接続されている。 - 特許庁
The first spacer 27 and the second spacer 28 are formed on the scanning line Ly at a position opposing to a light shielding layer BM of a color filter layer 26.例文帳に追加
第1スペーサ27及び第2スペーサ28は、走査線Lyであってカラーフィルタ層26の遮光層BMと相対向する位置に形成されている。 - 特許庁
The manufacturing method removes the first photodegradable positive type resist layer and the second photodegradable positive type resist layer, to form the foaming chamber and the ink flow channel.例文帳に追加
そして、第一の光崩壊性ポジ型レジスト層および第二の光崩壊性ポジ型レジスト層を除去して、発泡室およびインク流路を形成する。 - 特許庁
The appearance of the laminate obtained by the first silicone layer 4 can be adjusted by the content of a white filler in the second silicone rubber layer 6.例文帳に追加
第2のシリコーンゴム層には、白色系充填剤の含有量によって、第1のシリコーン層によって得られる積層体の外観を調整することができる。 - 特許庁
By making the image 22 prove to be an image of the side face of the most upper layer of the pattern, an image 23 below the image 22 is recognized as an image of a second layer of the pattern.例文帳に追加
さらに、パターン最上層側面の像22が判明することで、その下の像23がパターン第2層の像であることが認識される。 - 特許庁
Both the first layer 12 and the second layer 13 are transparent and are formed by a material having a light refractive index smaller than the light refractive index of the light guide body 11.例文帳に追加
第1の層12及び第2の層13はいずれも透明でかつ導光体11より光の屈折率が小さな材質で形成されている。 - 特許庁
In this process, the form of the second resin part 308a appears on the surface of the resin layer to form fine recesses and projections on the surface of the resin layer.例文帳に追加
このとき、第2樹脂部308aの形状が樹脂層表面に現れ、樹脂層の表面に微細な凹凸を形成することができる。 - 特許庁
Succesively, an upper layer CVD film 28 is formed on the lower layer CVD film with the use of a second raw gas comprising the cyclic organosilicon compound.例文帳に追加
これに引き続き、環状有機ケイ素化合物からなる第2原料ガスを用いて、下層CVD膜上に上層CVD膜28を成膜する。 - 特許庁
The first metallic layer 6 and the second metallic layer 7 are continuously laminated and formed by a high frequency sputter method using a high frequency power source without vacuum break.例文帳に追加
第1の金属層6および第2の金属層7を、高周波電源を用いた高周波スパッタ法により真空破壊せず連続して積層形成する。 - 特許庁
The scrubber 10 has a packed column 1 in which a first packed layer 2 is arranged in a lower stage and a second packed layer 3 is arranged in an upper stage.例文帳に追加
スクラバー10は、下段に設けられた第一充填層2及び上段に設けられた第二充填層3を配設した充填塔1を有する。 - 特許庁
The printed circuit board 11 comprises a build-up layer 30 which is formed by alternately laminating a second internal layer conductor 60 and interlayer insulating layers 31, 61.例文帳に追加
本発明のプリント配線基板11は、第2内層導体60と層間絶縁層31,61とを交互に積層してなるビルドアップ層30を備える。 - 特許庁
The second portion 4b of the upper shielding layer is arranged on the upper side of the MR element 9 and is connected to the first portion 4a of the upper shielding layer.例文帳に追加
上部シールド層の第2の部分4bは、MR素子9の上側に配置され、上部シールド層の第1の部分4aに対して接続される。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device which prevents peeling of a semiconductor layer (a second semiconductor layer) in an upper part of an SOI structure.例文帳に追加
SOI構造上部の半導体層(即ち、第2半導体層)の剥がれを防止できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The active layer 5 and the potential control layer 2 are provided between the first conductivity type semiconductor region 3 and the second conductivity type semiconductor region 7.例文帳に追加
活性層5及び電位制御層2は、第1導電型半導体領域3と第2導電型半導体領域7との間に設けられる。 - 特許庁
The first semiconductor substrate 2 is so overlapped with the second semiconductor substrate 3 that the Au thin film layer 14 faces the Au thin film layer 34.例文帳に追加
第1半導体基板2と第2半導体基板3は、Au薄膜層14とAu薄膜層34とが対向するように重なり合っている。 - 特許庁
The wiring layer 3 includes a first part 3A and a second part 3B existing at positions different from each other on the first surface 2a of the insulation layer 2.例文帳に追加
配線層3は、絶縁層2の第1の面2a上の互いに異なる位置に存在する第1の部分3Aと第2の部分3Bを含んでいる。 - 特許庁
An optical disk 1 has a structure where a first substrate 5, a reflection layer 23, a recording layer 13 including the hologram recording material, and a second substrate 7 are stacked.例文帳に追加
光ディスク1は、第1基板5、反射層23、ホログラム記録材料を含む記録層13、第2基板7が積層された構造をしている。 - 特許庁
Thereafter, the substrate 21 is etched, the mask layer 22 is lessened in thickness, then the part of the substrate 21 where the second deepest groove is cut is exposed on the mask layer, and the substrate is etched.例文帳に追加
その後基板をエッチングし、次にマスクの厚さを減らして、次の深さの溝に対応するマスクの位置から基板を露出させて、基板をエッチングする。 - 特許庁
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