「solvent washing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cross-linked fine particle dispersion in which polymerization solvent-soluble free components by-produced except the resin particles is reduced to ≤1 wt.% by suitably controlling the kind and amount of a hydrophilic group-containing ethylenic unsaturated monomer, and which does not deteriorate water resistance, adhesiveness, and the like, even when used without passing through a washing process.例文帳に追加

親水性基含有エチレン不飽和単量体の種類、量を適切にすることで、樹脂粒子とは別に生成する、重合溶剤に可溶な遊離の成分を、１重量％以下に抑え、洗浄工程を経ずに使用しても耐水性、密着性等の物性が低下しない既架橋微粒子分散液を提供する。 - 特許庁

This method for removing the endotoxin from the basic protein comprises (a) adding a surfactant to a solution which contains the basic protein obtained from the recombinant microorganism and mixing them, (b) loading the mixed solution into a cation exchange resin, (c) washing the cation exchange resin with a surfactant-free solvent, and (d) eluting a desired basic protein from the washed cation exchange resin.例文帳に追加

再組合わせの微生物から得た塩基性蛋白質を含有する溶液に界面活性剤を添加して混合し、前記溶液を陽イオン交換樹脂にローディングした後、陽イオン交換樹脂を界面活性剤を含有しない溶媒で洗浄し、陽イオン交換樹脂から所望の塩基性蛋白質を溶出させる。 - 特許庁

The method for separating and producing sesamins comprises: keeping still deodorized scum occurring in a deodorizing step of sesame oil production; removing a liquid portion of the upper layer to obtain a solid portion as a raw material; and subjecting the raw material to a washing and purifying step where the raw material is only treated at least twice with one kind of solvent at different temperatures to separate and produce sesamins.例文帳に追加

セサミン類を分離製造する方法において、ゴマ油製造の脱臭工程で生じる脱臭スカムを静置し、その上層の液状部分を除いて得た固形部分を原料とし、原料に一種類の溶剤による温度の異なる二回以上の処理だけからなる洗浄・精製工程を施してセサミン類を分離製造することを特徴とする方法。 - 特許庁

The method for producing the immobilized lipase includes adding a solvent to the immobilized lipase used for the esterification reaction, washing the immobilized enzyme until the remaining oil content becomes ≤50 pts.mass based on 100 pts.mass of the immobilizing carrier, bringing the product into contact with an alkali solution, collecting the resultant immobilizing carrier, and allowing the immobilizing carrier to adsorb the lipase on the immobilizing carrier.例文帳に追加

エステル化反応に使用した固定化脂質分解酵素に溶剤を添加し、油分残存量が固定化担体100質量部に対して50質量部以下になるように洗浄し、次いでアルカリ溶液を接触させた後固定化担体を回収し、当該固定化担体に脂質分解酵素を吸着させる固定化脂質分解酵素の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor wafer washing composition contains organic amine in 2-98wt.%, water in 0-50wt.%, a 1,3-dicarbonyl compound chelating agent in 0.1-60wt.%, additional different chelating agents in 0-25wt.%, a nitrogen-containing carboxylic acid or an imine in 0.1-40wt.%, and a polarizable organic solvent in 2-98wt.%.例文帳に追加

２〜９８重量％の有機アミンと、０〜５０重量％の水と、０．１〜６０重量％の１，３−ジカルボニル化合物キレート化剤と、０〜２５重量％の追加の異なるキレート化剤類と、０．１〜４０重量％の窒素含有カルボン酸又はイミンと、２〜９８重量％の極性有機溶媒とを含む半導体ウェーハ洗浄組成物を提供する。 - 特許庁

The method for producing a solid-phase synthesis substrate 100 includes a step of spreading a solution (polymer solution 2a) of an organic substance having a hydroxy group (OH group 22) on a substrate 1, a step of heat-treating 30 the substrate 1 spread by the polymer solution 2a, and a step of washing 40 the substrate 1 with a solvent after heat-treating 30.例文帳に追加

本発明の第１の態様にかかる固相合成用基板１００の製造方法は、基板１上にヒドロキシ基（ＯＨ基２２）を有する有機物の溶液（ポリマ溶液２ａ）を塗布するステップと、ポリマ溶液２ａが塗布された基板１を加熱処理３０するステップと、加熱処理３０後、基板１を溶剤で洗浄４０するステップと、を備えるものである。 - 特許庁

This method for purifying the resin used for the purification of the semiconductor lithographic resin is characterized by comprising a process (i) of washing the resin (A1') containing a constituting unit (a2') having a lactone-containing ring type group with an organic solvent (S1') having 17.0 to 20.5 (J/cm^3)^1/2 range solubility parameter (SP value).例文帳に追加

半導体リソグラフィー用樹脂の精製に用いられるものである、ラクトン含有環式基を有する構成単位（ａ２’）を含有する樹脂（Ａ１’）を、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が１７．０〜２０．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にある有機溶剤（Ｓ１’）で洗浄する工程（ｉ）を有することを特徴とする樹脂の精製方法。 - 特許庁

To provide a modification method of the resin surface as a simple means which can be applied by coating to the resin surface after cured without using a large amount of surface-modifier, realizes modified performances exhibiting good durability and being not easily lost even by detergent washing, can be applied to a smooth surface without detriment to the touch of the resin surface and exhibits good solvent resistance.例文帳に追加

多量の表面改質剤を使用することなく、硬化後の樹脂表面のへの塗布による適用が可能であって、しかも、改質性能の耐久性が良好であって、洗剤洗浄によっても改質性能が簡単に失われることはなく、樹脂表面の風合いを損うことなく平滑表面への適用もでき、耐溶剤性も良好な、簡便な手段としての樹脂表面の改質方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of treating a carbon base compound with an acid; a step of washing the acid treated material with water and freeze-drying it; a step of dispersing the freeze-dried material in a solvent, applying dispersed material to a porous carbon support, and drying to form a microporous diffusion layer; and a step of forming a catalyst layer on the microporous diffusion layer.例文帳に追加

カーボン系化合物を酸処理する段階と、酸処理された結果物を水で洗浄し、凍結乾燥処理する段階と、凍結乾燥された結果物を溶媒中に分散し、分散された結果物を多孔性炭素支持体上に塗布および乾燥して、微孔性拡散層を形成する段階と、微孔性拡散層上部に触媒層を形成する段階と、を含む、燃料電池用アノードの製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for effectively removing remaining butylamine distributed in nitric acid solution phase of two-phase system solvent regeneration-processed with butylamine washing agent, after being used in a nuclear fuel reprocessing process and provide a safe technology means which is effective for process-controlling butylamine in nuclear fuel reprocessing proc ess with it.例文帳に追加

核燃料再処理工程において使用された後、ブチルアミン洗浄剤での再生処理を受けた二相溶媒系の硝酸水溶液相中に分配され、残留するブチルアミンを効果的に除去する方法を提供し、かつそれにより核燃料再処理工程におけるブチルアミンを工程管理するのに有効な安全化技術手段を提供すること。 - 特許庁

The method comprises copolymerizing maleic anhydride with an olefin to form a maleic anhydride/olefin copolymer and washing and purifying the formed maleic anhydride/olefin copolymer with a solvent in which the maleic anhydride/olefin copolymer is insoluble.例文帳に追加

無水マレイン酸とオレフィンとの共重合反応を行い無水マレイン酸・オレフィン共重合体を製造するにあたり、共重合反応後の無水マレイン酸・オレフィン共重合体を無水マレイン酸・オレフィン共重合体を溶解しない溶剤で洗浄・精製する無水マレイン酸・オレフィン共重合体の製造方法。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a solid molded article at a temperature where a part of a granular pore forming material melts from a molding material in which the granular pore forming material is dispersed in a high molecular substance and forming a pore by washing the solid molded article with a solvent which does not dissolve the high molecular substance but dissolves the pore forming material.例文帳に追加

粒状気孔形成材を高分子物質に分散させてなる成形材料を、該粒状気孔形成材の一部が溶融する温度で充実成形体を成形する工程；及び該充実成形体を、前記高分子物質は溶解しないが前記気孔形成材は溶解する溶媒で洗浄することにより気孔を形成する工程を含む。 - 特許庁

This polyarylene sulfide resin having a coupling reactivity index of 2.0 at 320°C and SO_2 generation amount of not higher than 0.02 mg/g at 300°C is manufactured by polymerizing lithium sulfide and a multifunctional halogenized aromatic compound in a non-protonic organic solvent and, after the polymerization reaction, washing in a melt state.例文帳に追加

３２０℃でのカップリング反応性指数が２．０以下であり、３００℃でのＳＯ_２発生量が０．０２ｍｇ／ｇ以下であるポリアリーレンスルフィド樹脂を、非プロトン性有機溶媒中で、硫化リチウムと、多官能ハロゲン化芳香族化合物とを重合反応させ、さらに、重合反応後、溶融状態で洗浄することにより製造する。 - 特許庁

The surface treatment method of the nickel nanoparticles includes steps of; dispersing the nickel nanoparticles into a reducing organic solvent to obtain a dispersion liquid; heating the dispersion liquid to increase the surface homogeneity of the nickel nanoparticles; heating the dispersion liquid; separating the nickel nanoparticles from the heated dispersion liquid; and washing and drying the separated nickel nanoparticles.例文帳に追加

分散液を得るためにニッケルナノ粒子を還元性有機溶媒に分散させる段階と、前記ニッケルナノ粒子の表面均質性を増加させるために、前記分散液を加熱する段階と、前記加熱された分散液から前記ニッケルナノ粒子を分離する段階と、前記分離されたニッケルナノ粒子を洗浄および乾燥させる段階とを含むニッケルナノ粒子を表面処理する方法により、上記課題は解決される。 - 特許庁

The manufacturing apparatus which is characterized in that one wavelength in exposure is 140 to 310 nm and the other is 360 to 440 nm and different and is for manufacturing different kinds of resist liquids containing the mutually different solvent components is equipped with a manufacture line PL formed by connecting the following (a) to (c) and a reverse washing line RL comprising the following (d) to (e).例文帳に追加

露光時の波長が一方は１４０〜３１０ｎｍの範囲、他方が３６０〜４４０ｎｍの範囲である点で異なり、且つ溶剤成分が互いに異なるレジスト液を製造するための装置であって、下記のａ）〜ｃ）をこの順に接続した製造ラインＰＬと下記のｄ）〜ｅ）からなる逆洗浄ラインＲＬとを備えた製造装置。 - 特許庁

This method comprises depolymerizing polyester wastes containing at least copolyesters and composed mainly of polyethylene terephthalate by using ethylene glycol, recrystallizing dimethyl terephthalate to obtain its cake from a mixture composed substantially of dimethyl terephthalate obtained by substituting esterification, copolymer components in copolymerized polyesters, methanol and ethylene glycol, and washing the cake with a solvent having higher solubility for the copolymer components than that for dimethyl terephthalate to purify the dimethyl terephthalate.例文帳に追加

共重合ポリエステルを少なくとも含み、主としてポリエチレンテレフタレートからなるポリエステル廃棄物に対して、エチレングリコールを用いて解重合反応を行い、次いでメタノールを用いて置換エステル化反応を行って得られるテレフタル酸ジメチル、共重合ポリエステル中の共重合成分、メタノール及びエチレングリコールから実質的になる混合溶液から再結晶化を行ってテレフタル酸ジメチルのケークを得た後、該ケークをテレフタル酸ジメチルよりも共重合成分の溶解度が高い有機溶媒で洗浄を行って、テレフタル酸ジメチルを精製する。 - 特許庁

This apparatus for decomposition-treating the organic halogen compound comprises a bottom part having a heating means 16 for heating the organic halogen compound, a supplying means 17 for supplying air to the vaporized organic halogen compound by heating, a catalyst layer 14 for promoting the reaction of the organic halogen compound with air and a gas-washing means 19 for bringing the reaction gas in contact with a solvent to cool the generated reaction gas in the catalyst layer.例文帳に追加

有機ハロゲン化合物を加熱する加熱手段１６を有する底部と、加熱されて蒸発した有機ハロゲン化合物に空気を供給する供給手段１７と、有機ハロゲン化合物と空気との反応を促す触媒層１４と、触媒層において生成した反応ガスを冷却するために、反応ガスに溶剤を接触させるためのガス洗浄手段１９とを含む有機ハロゲン化合物の分解処理装置。 - 特許庁

The plating solution of the first plating bath 2 and the plating solution of the second plating bath 3 have the same composition except the metallic material and an acidic solvent to dissolve the metallic material, hence a water washing bath is not needed, and a plating method is realized wherein the concentration control of the plating solution is facilitated.例文帳に追加

導電部材２１を第１メッキ浴槽２のメッキ液、第２メッキ浴槽３のメッキ液と順次浸漬して異なる金属材料の２層のメッキ膜２２、２３を施すメッキ装置において、第１メッキ浴槽２のメッキ液および第２メッキ浴槽３のメッキ液は、金属材料およびそれを溶かす酸性溶剤を除いて同一の液構成にすることにより、水洗用浴槽を不要にし且つメッキ液の濃度管理を容易にしたメッキ方法を実現する。 - 特許庁