「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING SYSTEM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

スパッタリング装置及び透明導電膜形成方法並びに有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁

The intermediate layer and the zinc oxide thin film is subsequently film-formed, for example, by a sputtering method.例文帳に追加

中間層とＺｎＯ系薄膜は、例えば、スパッタ法により、続けて成膜することができる。 - 特許庁

RECORDING LAYER FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体、並びにスパッタリング・ターゲット - 特許庁

To provide a zinc-oxide-based sputtering target; a manufacturing method therefor; and a zinc-oxide-based thin film.例文帳に追加

酸化亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化亜鉛系薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a controlling method and a device for obtaining a uniform film thickness distribution in a sputtering device.例文帳に追加

スパッタ装置において、均一な膜厚分布を得るための制御方法・装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system for easily forming a thin film having a desired film thickness distribution.例文帳に追加

所望の膜厚分布を有する薄膜を簡易に作成するためのスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR HIGHLY RESISTANT TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF HIGHLY RESISTANT TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

高抵抗透明導電膜用スパッタリングターゲット及び高抵抗透明導電膜の製造方法 - 特許庁

As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加

しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁

Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF MAGNETIC RECORDING FILM WHICH IS LESS LIKELY TO GENERATE PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲット - 特許庁

NONLINEAR ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRO-OPTIC DEVICE, AND REACTIVE SPUTTERING FILM-FORMING DEVICE例文帳に追加

非線形素子の製造方法、非線形素子、電気光学装置、および反応性スパッタ成膜装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFTING MASK BLANK, AND PHASE SHIFTING MASK USING THE SAME例文帳に追加

スパッタターゲット、並びに該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING RECORDING LAYER OF OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光情報記録媒体および光情報記録媒体の記録層形成用スパッタリング・ターゲット - 特許庁

The process is, for example, a reverse sputtering process for physically etching the opening edge of the via hole by ion bombardment.例文帳に追加

例えばイオン衝撃でビアホール開口縁部を物理的にエッチングする逆スパッタ工程である。 - 特許庁

To prevent separation and scattering of deposits generated in the vicinity of a sputtering target or from a backing plate.例文帳に追加

スパッタリングターゲット近傍又はバッキングプレートから発生する堆積物の剥離・飛散を防止する。 - 特許庁

RECORDING LAYER FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光情報記録媒体用の記録層およびスパッタリングターゲット、並びに光情報記録媒体 - 特許庁

To provide a sputter source of a sputtering apparatus, which can control current flowing to bearings.例文帳に追加

ベアリングに流れる電流を抑制することができるスパッタリング装置のスパッタ源を提供する。 - 特許庁

RECORDING LAYER AND SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光情報記録媒体用の記録層およびスパッタリングターゲット、並びに光情報記録媒体 - 特許庁

To improve a film deposition rate and productivity and further to stabilize quality in sputtering.例文帳に追加

スパッタリングにおける成膜レートおよび生産性を向上すると共に、品質の安定化を図る。 - 特許庁

The manufacturing method can stably form the TiN film and can apply a large amount of electrical power for sputtering.例文帳に追加

ＴｉＮ膜を安定に成膜でき、また、大きなスパッタ電力を投入することができる。 - 特許庁

And the preferable thickness of the thin film formed by sputtering is 200-1,000 Å.例文帳に追加

前記スパッタリング法で形成する薄膜の膜厚を、２００〜１０００Åとすることが望ましい。 - 特許庁

ZINC OXIDE SINTERED COMPACT, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT FILM例文帳に追加

酸化亜鉛焼結体、その製造方法、スパッタリングターゲット及び透明性膜の製造方法 - 特許庁

To reduce damage caused by negative ions or the like during deposition of a fluorine-containing thin film by a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法による弗素含有薄膜成膜中の、負イオン等によるダメージを低減する。 - 特許庁

Then a second electrode layer 24 is deposited on the piezoelectric layer 22 by using, for instance, the sputtering method.例文帳に追加

次いで、圧電層２２上に第２電極層２４を、例えばスパッタリング法を用いて成膜する。 - 特許庁

An oxide film of Ta and Al and an MgF2 film are laminated on a substrate by sputtering.例文帳に追加

基板上にＴａ及びＡｌの酸化物膜と、ＭｇＦ_２膜とをスパッタリングによって積層する。 - 特許庁

The sputtering target is composed of high purity Nb having ≤3000 ppm Ta content and ≤200 ppm oxygen content.例文帳に追加

スパッタターゲットは、Ｔａ含有量が3000ppm 以下、酸素含有量が200ppm以下の高純度Ｎｂからなる。 - 特許庁

To manufacture a sputtering target without performing a positioning process and a joining process of a target material.例文帳に追加

ターゲット材の位置合わせ工程及び接合工程を行うことなくスパッタリングターゲットを製造する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium manufactured without substrate heating in a sputtering step.例文帳に追加

スパッター工程において基板加熱をせずに製造することができる磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

In the method, a pre-processed semiconductor substrate is first positioned in a sputtering chamber.例文帳に追加

この方法では、最初に、前処理された半導体基板がスパッタリング・チャンバ内に位置決めされる。 - 特許庁

The high-purity Ta material for the semiconductor device is used as a material for producing a sputtering target.例文帳に追加

半導体デバイス用高純度Ｔａ材は、スパッタリングターゲットの形成素材として用いられる。 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING TARGET OF SULFIDE FOR PRODUCING PHOSPHOR MATERIAL, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

蛍光体材料製造用の硫化物焼結体スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

To form a LiNbO_3 thin film by an ECR sputtering method using a single crystal target.例文帳に追加

単結晶ターゲットを用いたＥＣＲスパッタ法でＬｉＮｂＯ_3薄膜が形成できるようにする。 - 特許庁

Each thin layer constituting the barrier layer is preferably formed by sputtering.例文帳に追加

バリア層を構成する各薄層は、真空状態でスパッタリングにより形成されることが好ましい。 - 特許庁

To realize high luminance and long service life of a cold cathode fluorescent lamp by suppressing sputtering in the electrode.例文帳に追加

電極でのスパッタを抑えて冷陰極蛍光ランプの高輝度化、長寿命化を図る。 - 特許庁

Thereby, a large size sputtering target made of a metal oxide and having excellent film-forming property can be obtained.例文帳に追加

これにより、成膜性に優れる金属酸化物の大型スパッタリングターゲットを得ることができる。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can uniformly form a sputtered film on a substrate.例文帳に追加

基板上にスパッタ膜を均一に形成することができるマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

BACKING PLATE MANUFACTURING METHOD, BACKING PLATE, SPUTTER CATHODE, SPUTTERING APPARATUS, BUCKING PLATE CLEANING METHOD例文帳に追加

バッキングプレートの製造方法、バッキングプレート、スパッタカソード、スパッタリング装置、及びバッキングプレートの洗浄方法 - 特許庁

TARGET, SPUTTERING METHOD, PLASMA DISPLAY PANEL MANUFACTURING METHOD, AND PLASMA DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ターゲット、スパッタリング方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマ表示装置の製造方法 - 特許庁

The photocatalyst thin film of titanium oxide is preferably produced by film forming of a gas-flow sputtering.例文帳に追加

この光触媒酸化チタン薄膜は、ガスフロースパッタリングにより成膜されることが好ましい。 - 特許庁

ALUMINUM BASED ALLOY PREFORM, ALUMINUM BASED ALLOY DENSE BODY, METHOD FOR PRODUCING THEM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

アルミニウム基合金プリフォーム、アルミニウム基合金緻密体、これらの製造方法、およびスパッタリングターゲット - 特許庁

To form a film well on a resin layer by applying sputtering.例文帳に追加

本発明の目的は、スパッタリングを適用して樹脂層上に膜を良好に形成することにある。 - 特許庁

The shields may be grounded and provide a path to ground for electrons present within a sputtering plasma.例文帳に追加

シールドは接地してもよく、スパッタリングプラズマ内に存在する電子の接地経路を提供する。 - 特許庁

If the depot attaches inside the gap 64, the ions scraped out from the gap 64 through ion sputtering.例文帳に追加

隙間６４内部にデポが付着していれば、イオンスパッタにより隙間６４の外へ掻き出される。 - 特許庁

To efficiently deposit a film of a perovskite type high dielectric material (SrTiO_3 etc.) by sputtering.例文帳に追加

ペロブスカイト系の高誘電体材料（ＳｒＴｉＯ３等）をスパッタリングにより効率良く成膜する。 - 特許庁

The resistance material 3 is formed by electroless plating, coating of thick film resistor paste, or sputtering.例文帳に追加

抵抗材３は、無電解メッキや、厚膜抵抗体ペーストの塗布や、スパッタリングによって形成される。 - 特許庁

PHASE-CHANGE FILM FOR SEMICONDUCTOR NONVOLATILE MEMORY, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING THE FILM例文帳に追加

半導体不揮発メモリー用相変化膜およびこの相変化膜を形成するためのスパッタリングターゲット - 特許庁