「zirconium-nitride」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the silicon nitride wiring board, a conductor layer composed of zirconium nitride is formed integrally on the surface of a silicon nitride substrate.例文帳に追加

窒化けい素基板の表面に窒化ジルコニウムから成る導体層が一体に形成されていることを特徴とする窒化けい素配線基板である。 - 特許庁

To provide a black and low electrically conductive fine particle lower zirconium oxide-zirconium nitride composite in an industrial scale.例文帳に追加

黒色系で電気伝導度の低い微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を工業的規模で提供する。 - 特許庁

One or more kinds among silicon nitride, boron carbide, and silicon carbide are contained in potassium zirconium phosphate.例文帳に追加

リン酸ジルコニウムカリウムに、窒化珪素、炭化ホウ素、炭化珪素のうち少なくとも１種を含有させる。 - 特許庁

The zirconium nitride conductor layer preferably has a thickness of 3-25 μm.例文帳に追加

また上記窒化ジルコニウム導体層の厚さが３〜２５μｍであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a novel method for producing a zirconium nitride film, which is free from disadvantages of conventional technology.例文帳に追加

従来技術の欠点を有していない、窒化ジルコニウム被膜の新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

The ceramic for the decorative piece contains titanium nitride as a main component and further contains zirconium oxide, tantalum nitride and nickel.例文帳に追加

窒化チタンを主成分とし、酸化ジルコニウム，窒化タンタルおよびニッケルを含む装飾部品用セラミックスである。 - 特許庁

The silicon nitride wiring board is characterized in that a conductor layer made of zirconium nitride is integrally formed on the surface of the silicon nitride, electrical resistance of the above zirconium nitride conductor layer is 10^2 Ω cm or less, and 98 or more mass percent of the above conductor layer is composed of zirconium nitride (ZrN).例文帳に追加

窒化けい素基板の表面に窒化ジルコニウムから成る導体層が一体に形成されており、上記窒化ジルコニウム導体層の電気抵抗値が１０^２Ω・ｃｍ以下であり、上記導体層の９８質量％以上が窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）から成ることを特徴とする窒化けい素配線基板である。 - 特許庁

The carbon nanofiber has inorganic fine particles of one or more kinds selected from the group consisting of silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, zirconium oxide, silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride, zinc nitride, zirconium nitride, silicon carbide, titanium carbide, aluminum carbide, zinc carbide and zirconium carbide, physically or chemically attached to the surface in a monolayer or multilayer shape.例文帳に追加

酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミニウム、窒化亜鉛、窒化ジルコニウム、炭化珪素、炭化チタン、炭化アルミニウム、炭化亜鉛、炭化ジルコニウムからなる群から選ばれる１種以上の無機微粒子が単層または複数層の形態で物理的または化学的に表面に付着しているカーボンナノファイバーである。 - 特許庁

This black-colored free-cutting ceramics is obtained by adding a sintering aid to an aggregate consisting of 25-60 mass% silicon nitride and 40-75 mass% boron nitride to prepare raw material powder, adding zirconium of 0.1-20 mass% based on the aggregate to the raw material powder and sintering the zirconium-added powder in a reducing atmosphere.例文帳に追加

窒化珪素25〜60質量％および窒化硼素40〜75質量％を骨材とし、焼結助剤を添加した原料粉末に、ジルコニアを骨材の 0.1〜20質量％の量で添加し、還元性雰囲気で焼成する。 - 特許庁

The fine particle lower zirconium oxide-zirconium nitride composite having the peak of lower zirconium oxide and the peak of zirconium nitride in the X-ray diffraction profile and 10-60 m^2/g specific surface area is obtained through a step for firing a mixture of zirconium dioxide or zirconium hydroxide, magnesium oxide and metal magnesium under an inert gas flow at 650-800°C.例文帳に追加

二酸化ジルコニウムまたは水酸化ジルコニウムと、酸化マグネシウムと、金属マグネシウムとの混合物を、窒素ガスまたは窒素ガスを含む不活性ガス気流中６５０〜８００℃で焼成する工程を経て、Ｘ線回折プロファイルにおいて、低次酸化ジルコニウムのピークと窒化ジルコニウムのピークを有し、比表面積が１０〜６０ｍ^２／ｇである微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を製造する。 - 特許庁

Thus, it is possible to improve the growth property of the zirconium boride titanium layer 2 to the substrate 1, and the growth boride of a gallium nitride system compound semiconductor to the zirconium boride titanium layer 2 by interposing titanium (Ti).例文帳に追加

チタン（Ｔｉ）が介在することにより、基板１への硼化ジルコニウム・チタン層２の成長性および硼化ジルコニウム・チタン層２への窒化ガリウム系化合物半導体の成長性が改善される。 - 特許庁

The electrode tip part 11 formed of the alloy of zirconium nitride and tungsten can restrain evaporation of tungsten.例文帳に追加

ジルコニウムナイトライドおよびタングステンとの合金で形成された電極先端部１１は、タングステンの蒸発を抑えることができる。 - 特許庁

As the ceramic, alumina, chromium oxide, silicon nitride, silicon carbide, zirconium, etc. are selected, and as the metal, molybdenum, tungsten, tantalum, etc are selected.例文帳に追加

該セラミックは、アルミナ、酸化クロム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ジルコニウム等であり、該金属は、モリブデン、タングステン、タンタル等からなる。 - 特許庁

To deposit a titanium-zirconium nitride film including impurities on a metallic substrate so as to have the appearance of brass or gold.例文帳に追加

不純物を含むチタンとジルコニウム窒化皮膜を、黄銅又は金の外観を有するように金属下地に付着させる。 - 特許庁

The materials of a protective layer are one or more kinds of metal, such as silicon, zirconium, and molybdenum, or alloy, oxide, or nitride.例文帳に追加

保護層の材料は、シリコン、ジルコニウム、モリブデン等の１種類以上の金属又は合金、もしくは酸化物又は窒化物。 - 特許庁

ZIRCONIUM NITRIDE THIN FILM, METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE THIN FILM, AND METHOD AND APPARATUS FOR FORMING COPPER WIRING例文帳に追加

窒化ジルコニウム薄膜及びその作製方法と作製装置、並びに銅配線形成方法及び形成装置 - 特許庁

In this cleaning method of harmful gas, the harmful gas including nitrogen fluorides is brought into contact with a cleaning agent which contains zirconium nitride as an active ingredient or a cleaning agent which contains zirconium nitride as an active ingredient and fluoride of alkaline earth metal as forming assitant ingredient and, thereby, is cleaned.例文帳に追加

窒素フッ化物を含有する有害ガスを、窒化ジルコニウムを有効成分として含む浄化剤、あるいは窒化ジルコニウムを有効成分として、アルカリ土類金属のフッ化物を成型助剤成分として含む浄化剤と接触させて浄化する。 - 特許庁

The light-absorbing resin composition for laser welding comprises a polymer dispersing agent having a glass transition temperature of 30°C or higher and laser beam-absorbing particulates, wherein the laser beam-absorbing particulates are nitride particulates selected from titanium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, vanadium nitride, niobium nitride and tantalum nitride.例文帳に追加

３０℃以上のガラス転移温度を持つ高分子分散剤と、レーザー光吸収微粒子とを含有するレーザー溶着用光吸収樹脂組成物であって、レーザー光吸収微粒子が、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルから選択される窒化物微粒子である。 - 特許庁

The ceramic arc tube 1 has a sealing region 25 with an integral susceptor 20, which comprises a conductive material which is selected from among titanium nitride, zirconium nitride, carbon, tungsten, niobium, molybdenum, and cermet.例文帳に追加

窒化チタン、窒化ジルコニウム、炭素、タングステン、ニオブ、モリブデン、サーメットから選択される導電性材料から成る一体式サセプタ２０を有する封止領域２５を有しているセラミック発光管１により解決される。 - 特許庁

The oxide nitride in the grain boundary phase 4 is at least one among alumina, yttria, magnesium oxide, calcium oxide, carium oxide, Fe_2O_3, niobium oxide, silicon oxide nitride, SiO_2 and zirconium oxide.例文帳に追加

粒界相４の酸窒化物は、アルミナ、イツトリア、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化セリウム、三酸化二鉄、酸化ニオブ、酸窒化珪素、二酸化珪素、酸化ジルコニウムの内の少くとも１つである。 - 特許庁

Members for a semiconductor manufacturing device to be used in a plasma treatment apparatus is obtained by mixing titanium nitride or zirconium nitride to a ceramic base material compose of Si and N as main components.例文帳に追加

Ｓｉ及びＮを主成分とするセラミックス母材とし、セラミックス母材中に、窒化チタン、または窒化ジルコニウムを添加した、プラズマ処理装置内で使用される半導体製造装置用部材である。 - 特許庁

The electrode for electrolysis is formed by the steps of: preparing a substrate mainly made from an electroconductive ceramic which contains any one or more elements of titanium nitride, titanium boride, zirconium nitride and zirconium boride; adding a metal catalyst which contains ruthenium singly or a ruthenium-containing alloy as a main component, and/or an oxide catalyst made from ruthenium oxide; and sintering the mixture.例文帳に追加

本発明の電気分解用電極は、窒化チタン、ホウ化チタン、窒化ジルコニウム、ホウ化ジルコニウムのいずれか１種又はこれらを主成分とする導電性セラミックスからなる基材に、ルテニウム単体又はルテニウムを主成分とする合金からなる金属触媒、及び／又は、ルテニウム酸化物からなる酸化物触媒を添加したものを焼結することにより形成される。 - 特許庁

The abrasive particle is preferably formed of a non-ferromagnetic body having magnetic anisotropy, and more preferably at least one selected from aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, titanium oxide, silicon carbide, boron carbide, silicon nitride, boron nitride, and diamond.例文帳に追加

研磨材粒子は磁気異方性を有する非強磁性体が好ましく、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素及びダイヤモンドより選ばれる少なくとも一種がより好ましい。 - 特許庁

In the reaction vessel 25 used for growing the single crystal by using flux containing at least either of alkali metal and alkaline earth metal, there is provided the reaction vessel 25 composed of ceramics containing either or both of titanium nitride and zirconium nitride as a principal component.例文帳に追加

アルカリ金属とアルカリ土類金属との少なくとも一方を含むフラックスを使用して単結晶を育成するのに使用する反応容器２５であって、窒化チタンと窒化ジルコニウムとの一方または双方を主成分として含むセラミックスからなる反応容器２５を提供する。 - 特許庁

(d) Among ceramic composite materials reinforced by particles, whiskers or fibers, those having silicon, zirconium or boron carbide or nitride as a matrix 例文帳に追加

ニ　セラミック複合材料であって、粒子、ウィスカー又は繊維により強化されたもののうち、けい素、ジルコニウム又はほう素の炭化物又は窒化物をマトリックスとするもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

(xiv) Ceramic composites mainly consisting of glass, oxide, silicon, zirconium, boron carbon or nitride 例文帳に追加

（十四）　セラミックの複合材料であつて、その主たる構成物質がガラス、酸化物又はけい素、ジルコニウム若しくはほう素の炭化物若しくは窒化物であるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

For the filler 4, granular powder of zirconium tungstate, lithium-aluminum-silicon oxide or copper-germanium-manganese nitride is adopted.例文帳に追加

こうした充填材４には、タングステン酸ジルコニウム、リチウム・アルミニウム・ケイ素酸化物、または銅・ゲルマニウム・マンガン窒化物の粒子状粉末が採用される。 - 特許庁

For forming the crystallized ceramic coating film 3, silicon carbide, silicon nitride, α-alumina, rutile, magnesium aluminum spinel, YAG (yttrium-aluminum-garnet), mullite or zirconium titanate is used.例文帳に追加

結晶化セラミックス皮膜３として、炭化ケイ素、窒化ケイ素、α−アルミナ、ルチル、マグネシウムアルミニウムスピネル、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）、ムライト、チタン酸ジルコニウムが用いられる。 - 特許庁

A lower material layer or upper material layer like this is made of an oxide or nitride of niobium or tantalum, aluminum, silicon, zirconium, cerium, titanium, and yttrium.例文帳に追加

このような下部物質層または上部物質層はアルミニウム、シリコン、ジルコニウム、セリウム、チタニウム、イットリウム、タンタルまたはニオビウムの酸化物または窒化物よりなる。 - 特許庁

The filler 21 contains at least one kind of substance selected from a group consisting of manganese nitride, zirconium tungstate, and ternary oxide consistiong of lithium oxide particles, aluminum oxide and silicon oxide.例文帳に追加

フィラー２１は、マンガン窒化物、タングステン酸ジルコニウム、ならびにリチウム酸化粒、アルミニウム酸化物およびシリコン酸化物からなる三元系酸化物からなる群より選ばれた少なくとも一種の物質を含む。 - 特許庁

The boron nitride nanostructure is manufactured by melting a boron containing material in the presence of nitrogen, which contains boron and one or more kinds of elements selected from the group consisting of yttrium, niobium, and zirconium.例文帳に追加

イットリウム、ニオブおよびジルコニウムからなる群より選択される１種以上の元素とホウ素とを含むホウ素含有材料を、窒素の存在下で溶解することで窒化ホウ素系ナノ構造物を製造する。 - 特許庁

A negative expansion layer 13 formed of either of zirconium tungstate, silicon oxide and manganese nitride, is prepared on a lower surface of the sealing film 12 in the semiconductor device 1.例文帳に追加

半導体装置１において、封止膜１２の下面には、タングステン酸ジルコニウム、シリコン酸化物、マンガン窒化物のいずれかによって形成された負膨張層１３が設けられている。 - 特許庁

The abrasives are preferably at least one kind of metal compound selected from a group of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride, and zirconium oxide.例文帳に追加

研磨材としては、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、窒化珪素及び酸化ジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属化合物であることが好ましい。 - 特許庁

This new titanium-zirconium nitride film including oxygen, carbon and the other impurities has predetermined opacity, color and electrical conductivity and is prepared in a commercial reactor.例文帳に追加

酸素及び炭素並びにその他不純物を含んでいる新規なチタン及びジルコニウム「窒化物」膜であって、予め定められた不透明度、色及び電気伝導率で商用反応装置において調製される。 - 特許庁

The opaque brass or gold-colored film has the atomic oxygen concentration of 5 to 45%, preferably of 7 to 30% in both of titanium and zirconium nitride.例文帳に追加

不透明な黄銅及び金色の皮膜は、チタン及び窒化ジルコニウムの両方について５〜４５％及びより好ましくは７〜３０％原子酸素の原子酸素濃度を有する。 - 特許庁

The electrode tip part 11 is formed of an alloy of zirconium nitride and tungsten, and the electrode base part 12 is formed of high-melting-point metal such as tungsten.例文帳に追加

電極先端部１１はジルコニウムナイトライドおよびタングステンとの合金により形成され、電極基部１２は高融点金属である例えばタングステンで形成される。 - 特許庁

It is more preferable to add to the abrasive liquid at least one kind of abrasive grains selected from a group composed of silicon oxide, alumina, cerium oxide, titanium oxide, silicon nitride, and zirconium oxide.例文帳に追加

研磨液に、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化チタン、窒化ケイ素および酸化ジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種類の研磨材砥粒を含ませるとさらに好適である。 - 特許庁

On the surface of an emission end face, a silicon nitride film 5 is formed by plasma CVD and then a silicon dioxide film 6, a zirconium oxide film 7, and another silicon dioxide film 8 are formed in order.例文帳に追加

出射端面の表面上に順に、プラズマＣＶＤ法により窒化珪素膜５を形成し、さらに順に二酸化珪素膜６、酸化ジルコニウム膜７、二酸化珪素膜８を形成する。 - 特許庁

A film consisting of silicon oxide, zirconium oxide, chromium oxide or a mixture of them or a film consisting of silicon nitride oxide is deposited on the surface of the glass substrate to prevent the characteristic deterioration.例文帳に追加

ガラス基板表面に酸化ケイ素、酸化ジルコニウムあるいは酸化クロムあるいはこれらの混合よりなる膜、または窒化酸化ケイ素よりなる膜を形成して防止する。 - 特許庁

The ceramics for an ornamental piece include titanium nitride as a main component, at least either one of zirconium oxide and aluminum oxide, boron and titanium boride.例文帳に追加

窒化チタンを主成分とし、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムの少なくともいずれか１種と、硼素と、硼化チタンとを含む装飾部品用セラミックスである。 - 特許庁

A soln., in which a hard material such as diamond, cubic boron nitride, boron carbide, silicon carbide and silicon nitride or the carbide, nitride, boride, silicide or the like of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium and molybdenum, and a hard material of metallic carbonyl such as iron pentacarbonyl are suspended, is heated and decomosed, and a metallic layer is formed on the surface of the hard material.例文帳に追加

ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、或はチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、及びモリブデンの炭化物、窒化物、ホウ化物、ケイ化物等の硬質物質を、鉄ペンタカルボニル等の金属カルボニルの硬質物質が懸濁した液を加熱分解し、硬質物質の表面に金属層を生成させる。 - 特許庁

One or more coating layers composed of carbide, nitride, carbonitride, carboxide, nitroxide and carbonitroxide of the IV, V and VI group metals in a periodic table, are formed on a surface of a tool base, at least one of the coating layers is composed of titanium zirconium carbonitroxide film including titanium, zirconium, carbon, nitrogen and oxygen, and a content of oxygen in the titanium zirconium carbonitroxide is 10 mass % or less.例文帳に追加

工具基体の表面に周期律表の４、５、６族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、窒酸化物、及び炭窒酸化物からなる被覆層を単層又は多層に形成してなるものであり、かつ、これら被覆層のうち少なくとも一層を、チタン、ジルコニウム、炭素、窒素、及び酸素を含有する炭窒酸化チタンジルコニウム膜から構成し、該炭窒酸化チタンジルコニウム膜の酸素含有量を１０質量％以下とした。 - 特許庁

To provide new photoresists that are particularly useful for ion implant lithography applications and can exhibit good adhesion to underlying inorganic surfaces such as SiON, silicon oxide, silicon nitride, hafnium silicate, zirconium silicate and other inorganic surfaces.例文帳に追加

ＳｉＯＮ、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ケイ酸ハフニウム、ケイ酸ジルコニウムおよび他の無機表面のような下地無機表面に対して良好な接着性を示しうるイオン注入リソグラフィ適用に特に有用な新規フォトレジストの提供。 - 特許庁

The graphite crucible 4 which is disposed on the lower part in a heating furnace body 2 has on its inner face, a coated film 5 comprising the nitride of at least one material selected from hafnium, niobium, zirconium, tungsten, vanadium, molybdenum, rhenium, iridium, ruthenium and osmium.例文帳に追加

加熱炉本体２内の下部に配置される黒鉛るつぼ４の内側面に、ハフニウム、ニオブ、ジルコニウム、タングステン、バナジウム、モリブデン、レニウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウムから選ばれる少なくとも１種の材料の窒化物でなる被覆膜５を形成した。 - 特許庁

The method of manufacturing the steel drum cans includes a metal surface conversion treatment process for treating steel drum cans with an aqueous conversion treatment agent containing zirconium ions, fluoride ions, nitride ions and aminosilane, then performing alkali post treatment with an alkali water solution of a pH10 or higher.例文帳に追加

ジルコニウムイオン、フッ素イオン、硝酸イオンおよびアミノシランを含む水性化成処理剤で処理し、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液でアルカリ後処理を行う金属表面化成処理工程を含む鋼製ドラム缶の製造方法。 - 特許庁