あらぐすくじまの英語

Ｔｉ系皮膜などまたはクロムアルミニウム系皮膜などの皮膜がコーティングされた使用済のホブ１１の表面に付着した表面酸化皮膜を酸洗処理工程４１により剥離した後、皮膜除去工程５１によりコーティング皮膜を除去し、次に、このホブ１１の表面に皮膜コーティング工程６１により新たなＴｉ系皮膜をコーティングすることで、ホブ１１を再生する。例文帳に追加

A surface oxide layer attached to the surface of a used hob 11 coated with the film such as the Ti film or the chrome aluminum film is stripped off by an acid washing treatment process 41, then the film is eliminated by a film eliminating process 51, and the new Ti film is formed on the surface of the hob 11 by a film coating process 61 to recycle the hob 11. - 特許庁

スピンのフリップアングルが目標値に一致するように励起用のＲＦパルスをチューニングするに際し、スピンのフリップアングルが目標値に一致するまでＲＦパルスのパルス幅を予め定めた初期値から逐次増加させる（９０２〜９１２）。例文帳に追加

In tuning RF pulse for excitation so that the flip angle of a spin coincides with a target value, the pulse duration of RP pulse is sequentially increased from a predetermined initial value so that the flip angle of the spin coincides with the target value (902 to 912). - 特許庁

垂直磁気記録ディスクの基板の表面に形成した軟磁性層の表面を、平均表面粗さが２．０Å以下の範囲で、スクラッチやパーティクルさらに腐食欠陥がなく、表面うねりが１Å以下の範囲に、平滑且つ平坦に研磨できる研磨スラリー及び方法を提供することである。例文帳に追加

To provide polishing slurry and a method capable of polishing a surface of a soft magnetic layer formed on a surface of a substrate of a vertical magnetic recording disc smooth and flat to a range of surface waviness of 1Å or less and to a range of average surface roughness of 2.0Å or less without scratches, particles and corrosional defects. - 特許庁

基体金属表面にアパタイト膜２５をエキシマレーザーアブレーション法によってその使用時または作製時の変形に応じた、適切な膜厚に該基体金属（主線材）１８の表面の一部または全部にコーティングすることにより、該基体金属表面の改質をおこない、ガイドワイヤ１８においては、その後の表面処理を容易確実なものとした。例文帳に追加

A part of or an entire surface of a base metal (main wire) 18 is coated with an apatite film 25 for suitable thickness corresponding to deformation in the case of use or production by excimer laser ablation to reform the surface of the base metal and in a guide wire 18, whereby the following surface treatment is facilitated and ensured. - 特許庁

ＨＦ励起パルスと、ＨＦ励起パルスにより惹起される検査対象物の核磁化を完全にリフェージングするための磁界勾配パルスとを有するパルスシーケンスを発生し、その際に測定サイクルを相続くパルスシーケンスの固定された数の繰り返しの後に核磁化の被駆動平衡状態（定常状態）の到達の前に中断し、またその後に新たに開始する。例文帳に追加

A pulse sequence is generated having both an HF excitation pulse and a magnetic field gradient pulse for completely rephasing the nuclear magnetization of the subject of inspection which is induced by the HF excitation pulse; in that case, a measuring cycle is interrupted after the repetition of a fixed number of consecutive pulse sequences and before the arrival of the nuclear magnetization at a driven equilibrium state (steady state) and is newly started thereafter. - 特許庁

各サンプリング位置で吸気管内圧力をサンプリングする毎に、新たにサンプリングした吸気管内圧力を１燃焼サイクル前の同じサンプリング位置でサンプリングした前回の吸気管内圧力と比較して、その比較の結果から内燃機関１が加速状態にあること及び減速状態にあることを検出する。例文帳に追加

Pressure in the intake pipe subjected to new sampling is compared with the previous pressure in the intake pipe subjected to sampling at the same sampling positions in a previous combustion cycle at each time the pressure in the inlet pipe is taken as a sample at the respective sampling positions to detect that the internal combustion engine 1 is in the acceleration condition or the deceleration condition based on the comparative result. - 特許庁

塩基性物質を含む下地膜表面をカーボンガスを含むガスによるプラズマを晒す表面改質処理を行う工程と下地膜上に化学増幅型レジスト膜を塗布する工程と化学増幅型レジストに露光および現像処理を行って化学増幅型レジストをパターニングする工程とを備えるようにしたものである。例文帳に追加

This method comprises a step for performing a surface reforming process to expose the underlayer film surface including the basic substance to the plasma of gas including carbon gas, a step for coating the chemically amplified resist film of the underlayer film, and a step for patterning the chemically amplified resist through the exposing and development processes thereof. - 特許庁

投入口２１に搬送溝４０Ｇが現れる度に１個ずつ当該投入口２１から搬送溝４０Ｇへ投入されるコイル電極を、回転する搬送シャフト４０によって、いわゆるスクリューフィーダ方式で搬送しながら、タングステン電熱線３０で応力除去焼きなまし温度に加熱して焼きなまし処理を行う。例文帳に追加

At every times when the conveying groove 40G appears in the charging hole 21, while conveying the coil electrode charged onto the conveying groove 40G from the charging hole 21 one by one with the rotated conveying shaft 40, i.e., a screw feeder system, the component is heated at a stress-removal annealing temperature with the tungsten electric heating wire 30 to apply the annealing treatment. - 特許庁