pe wとは 意味・読み方・使い方

Then, the cooling nozzle 3 faced to the substrate surface Wf of the rotatively driven substrate W is moved toward an end edge position Pe of the substrate W.例文帳に追加

そして、回転駆動されている基板Ｗの表面Ｗｆに向けて冷却ノズル３を基板Ｗの端縁位置Ｐｅに向けて移動させていく。 - 特許庁

While the substrate W is rotated, the nozzle 3 is swung along a movement trace T from a rotation center position Pc of the substrate W to an edge position Pe of the substrate W.例文帳に追加

そして、基板Ｗを回転させながら冷却ガス吐出ノズル３を基板Ｗの回転中心位置Ｐｃから基板Ｗの端縁位置Ｐｅに向けて移動軌跡Ｔに沿って揺動させる。 - 特許庁

A pressure is applied to the wafer W along the peeling edge PE of the adhesive sheet S even if a plane width of the adhesive sheet S changes by bringing the width-changing pulleys 57 closer to or separating from each other.例文帳に追加

幅変更用プーリ５７を離間接近させることで接着シートＳの平面幅が変化しても、接着シートＳの剥離縁ＰＥに沿ってウエハＷに押圧力を付与するようになっている。 - 特許庁

A substrate stage 11 of the exposure device PE includes a substrate holding plate where a substrate W is mounted and a plurality of mask holding pins that are disposed as freely approaching and retreating from above the substrate holding plate and that hold a mask M.例文帳に追加

露光装置ＰＥの基板ステージ１１は、基板Ｗが載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクＭを保持する複数のマスク保持ピンとを備える。 - 特許庁

An exposure unit 1 has an exposure device PE, a robot 87, a control part 88 and sensors 100a, 100b, 100c for detecting positional information of a substrate W supplied to a processing unit 84.例文帳に追加

露光ユニット１は、露光装置ＰＥと、ロボット８７と、制御部８８と、処理ユニット８４に供給された基板Ｗの位置情報を検出するセンサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃと、を備える。 - 特許庁

In the proximity exposure device PE, an elastically deformable seal member 23 is provided on a work stage 1 so as to surround the circumference of a substrate W held thereon.例文帳に追加

近接露光装置ＰＥのワークステージ１上には、保持された基板Ｗの周囲を囲むように弾性変形可能なシール部材２３が設けられる。 - 特許庁

The exposing device PE detects whether a substrate W to be exposed is supplied to a first substrate stage 11 or a second substrate stage 12, and when supply of the substrate W to be exposed is stopped, at least performs idle operation of the first substrate stage 11 or the second substrate stage 12.例文帳に追加

露光装置ＰＥは、露光されるべき基板Ｗが第１又は第２基板ステージ１１，１２に供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板Ｗの供給が停止したとき、少なくとも第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転を行う。 - 特許庁