To provide a photosensitive resin composition for a photoresist which improves photosensitivity and heat resistance.例文帳に追加

感光性、耐熱性に優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in pattern uniformity and heat resistance after a hard baking step.例文帳に追加

ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

To provide a tris-adamantane-based compound useful as a photoresist additive, an intermediate for medicines or agrochemicals, or a resin additive (heat resistance-improving agent).例文帳に追加

フォトレジスト添加剤、医薬・農薬中間体、樹脂添加剤（耐熱向上剤）として有用なトリスアダマンタン系化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist base material and composition excellent in heat resistance and having such properties as high sensitivity, high resolution, high suitability to microfabrication and high solubility.例文帳に追加

耐熱性に優れ、高感度、高解像度、高微細加工性、高い溶解性等の特徴を具備するフォトレジスト基材及び組成物の提供。 - 特許庁

To improve heat resistance of a photoresist formed by the conventional method of forming a negative image through reaction development, and to secure an appropriate developing time.例文帳に追加

従来のネガ型反応現像画像形成法により形成されるフォトレジストの耐熱性を向上させ、かつ適正な現像時間を確保する。 - 特許庁

To provide a compound useful as a monomer for a photosensitive resin etc., having high heat resistance, especially in a photoresist lithography field.例文帳に追加

高い耐熱性を有し、特に、フォトレジストリソグラフィー分野における感光性樹脂等のモノマー等として有用な化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition so excellent in heat resistance that deformation of a resist pattern can be prevented in heating at high temperature.例文帳に追加

高温加熱処理時にレジストパターン形状の変形を防止できる耐熱性に優れたホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novolac phenol resin used for a photoresist resin composition having both excellent heat resistance and good sensitivity; and to provide a photoresist resin composition using the same.例文帳に追加

優れた耐熱性と良好な感度を併せもつフォトレジスト用樹脂組成物に用いることができるノボラック型フェノール樹脂と、これを用いたフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novolak type phenolic resin which can produce a photoresist having high heat resistance, high sensitivity, a high residual film rate and high resolution as a photoresist used for lithography on the production of semiconductors or LCD.例文帳に追加

半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a phenolic resin for a photoresist capable of manufacturing the photoresist of high heat resistance, without impairing sensitivity and resolution.例文帳に追加

感度および解像度を損なうことなく、高耐熱性を備えたフォトレジストの製造を可能にするフォトレジスト用フェノ−ル樹脂を提供するものである。 - 特許庁

To provide a novolak phenol resin that enables production of photoresist with high heat resistance, high sensitivity, a high residual film ratio, and high resolution, for the photoresist used in lithography when producing a semiconductor and an LCD (liquid crystal display).例文帳に追加

半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度を備えたフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。 - 特許庁

The photoresist composition is superior in heat resistance and adhesiveness of a photoresist pattern, so that an aperture ratio of a thin film transistor substrate increases to thereby improve display quality.例文帳に追加

該フォトレジスト組成物は、フォトレジストパターンの耐熱性および接着性に優れるので、薄膜トランジスタ基板の開口率が増大し、表示品質を改善することができる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition improved in heat resistance and adhesion, and to provide a method of forming a metal pattern and a method of manufacturing a display substrate by using the photoresist composition.例文帳に追加

耐熱性及び接着性を向上させたフォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法が開示される。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of simultaneously achieving high heat resistance and high sensitivity required as a photoresist for manufacture of system LCD in which an integrated circuit and a liquid crystal display part are formed on one substrate.例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されるシステムＬＣＤの製造用として要求される高耐熱性と高感度を同時に達成できるホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novolac resin composition that can be used for a resin composition for a photoresist having both of excellent heat resistance and good sensitivity, and to provide a resin composition for a photoresist using the resin.例文帳に追加

優れた耐熱性と良好な感度を併せもつフォトレジスト用樹脂組成物に用いることができるノボラック型フェノール樹脂と、これを用いたフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novolak type phenol resin enabling to produce photoresist with high heat resistance, high sensitivity, a high residual film ratio and high resolution, for the photoresist used in lithography when producing a semiconductor and an LCD (liquid crystal display).例文帳に追加

半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin permitting manufacture of a photoresist having excellent transparency to radiations, especially KrF excimer lasers, resolution, sensitivity, heat resistance and plasma etching resistance as a chemical sensitization type resist and giving rectangular photoresist patterns with high reproducibility.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にＫｒＦエキシマレーザーなどの放射線に対する透明性、解像度、感度、耐熱性、プラズマエッチング耐性に優れ、矩形なフォトレジストパターンを再現性良く形成する特徴をもつフォトレジストの製造を可能にする樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing photoresist composition developable with an aqueous alkali solution, capable of adopting a short-wavelength light source and excellent in flatness, dry etching resistance, heat resistance, etc.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能で短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等が優れた含フッ素光レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing photoresist composition developable with an aqueous alkali solution, capable of adopting a short-wavelength light source and capable of retaining flatness, dry etching resistance, heat resistance, etc.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能で短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等が保持できる含フッ素光レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To produce a photoresist polymer which not only is excellent in etching resistance, heat resistance, and adhesive properties but also is developable with an aqueous tetramethylammonium hydroxide(TMAH) solution as a developing solution.例文帳に追加

エッチング耐性、耐熱性及び接着性が優れるだけでなく、現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（TMAH）水溶液に現像可能であるフォトレジスト重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrogenated ring-opening metathesis polymer excellent in heat resistance, thermal decomposition resistance and light transmittance, and used as a photoresist suitable for the fine processing of a semiconductor.例文帳に追加

耐熱性、耐熱分解性、光透過性に優れ、半導体微細加工用フォトレジストに適した開環メタセシス重合体水素添加物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive photoresist composition excellent in various performances such as the rate of a residual film, suitability to coating and heat resistance and excellent particularly in sensitivity, resolution, profile and time-delay resistance.例文帳に追加

残膜率、塗布性、耐熱性などの諸性能に優れ、特に感度、解像度、プロファイルおよびタイム・ディレイ耐性に優れた化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer having a N-substituted acrylamide unit useful as a basic resin for a photoresist which enables high sensibility and high resolution of the photoresist by satisfying good optical transparency, alkaline solubility and heat resistance in an excimer laser lithography at the same time.例文帳に追加

エキシマレーザーリソグラフィーにおいて、良好な光透過性、アルカリ溶解性、耐熱性を同時に満たすことで、フォトレジストの高感度化、高解像度化を可能にするフォトレジスト用ベース樹脂として有用な、Ｎ−置換アクリルアミド単位を有する重合体を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance and having a high aspect ratio on a thick film board with good perpendicularity and resolution and to provide a board with a photosensitive film, a resist pattern forming method and a method for preparing the photoresist composition.例文帳に追加

厚膜基板上で、耐熱性に優れ、高アスペクト比のスペースパターンを垂直性、解像性よく形成可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法およびポジ型ホトレジスト組成物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having good sensitivity and satisfying heat resistance, resolution, linearity and DOF property required as a photoresist composition for manufacture of a system LCD in which an integrated circuit and a liquid crystal display section are formed on one substrate.例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されるシステムＬＣＤの製造用として要求される耐熱性、解像性、リニアリティ、およびＤＯＦ特性を満足するとともに、良好な感度を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new 4, 4'-(hexahydro-4, 7-methanoindan-5-ylidene)bis(substituted phenol) expected to improve heat resistance, lipophilicity, fine processability, etc., of a resin for an optical material or a photoresist on being used as a raw material of the resin for the optical material or the photoresist.例文帳に追加

光学材料用樹脂や感光性レジストの原料として用いれば、それら光学材料用樹脂や感光性レジストの耐熱性、親油性、微細加工性等を一層向上させることが期待される新規な４，４’−（ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダン−５−イリデン）ビス（置換フェノール）類を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an ultrahigh heat-resistant positive pattern by using a positive photosensitive composition in the process which requires high heat resistance of a photoresist pattern such as manufacturing of a TFT active matrix substrate.例文帳に追加

ＴＦＴアクティブマトリクス基板の製造など、フォトレジストパターンに高耐熱性が要求されるプロセスにおいて、ポジ型感光性組成物を用いて良好な超高耐熱ポジ型パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist which excels in heat resistance, sensitivity, resolution and degradability in ozone water, can be developed with an alkaline aqueous solution, and hardly generates scum which is residue on dissolution of resist when developed.例文帳に追加

耐熱性、感度及び解像度に優れ、オゾン水に対する分解性に優れ、アルカリ水溶液で現像することができ、さらに現像の際にレジストの溶け残り物であるスカムが生じ難いポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a silicon film forming method which can form a pattern of a fine silicon film using the photoresist having excellent heat resistance property.例文帳に追加

耐熱性に優れたフォトレジストを用い、微細なシリコン膜のパターニングを行うことができるシリコン膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist having excellent heat resistance, sensitivity and resolution, having a fast resist stripping rate with ozone water, being developable with an alkali aqueous solution, and hardly producing scum as a dissolution residue of the resist upon development.例文帳に追加

耐熱性、感度及び解像度に優れ、オゾン水によるレジスト剥離速度が速く、アルカリ水溶液で現像することができ、さらに現像の際にレジストの溶け残り物であるスカムが生じ難いポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which is excellent in circuit linewidth uniformity (CD uniformity), resolution, development contrast and adhesiveness and particularly excellent in sensitization speed, residual film ratio and heat resistance.例文帳に追加

回路線幅均一度（ＣＤ Uniformity）、解像度、現像コントラスト、接着性に優れ、特に感光速度、残膜率及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide screen-printing varnish for electronic parts use, having heat resistance, highly insulating properties and adhesion, and capa ble of forming minute patterns with a simple way without using a photoresist method.例文帳に追加

耐熱性、高絶縁性、接着性を有し、フォトレジスト法を用いずに緻密なパターン形成を簡便な方法で可能ならしめる電子部品用ポリイミドスクリーン印刷ワニスを提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for photoresist having high heat resistance, good sensitivity and resolution, high film retaining property and other characteristics comparable to a general resin composition.例文帳に追加

特に高耐熱性を有し、良好な感度・解像度で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist resin composition having good sensitivity, high heat resistance and high residual film property and not inferior to a general-purpose composition with respect to other properties.例文帳に追加

良好な感度を有し、高耐熱性で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a Novolak type phenol resin which has excellent heat resistance, further is highly sensitive, and is not inferior to a Novolak type phenol resin for general purpose also in other characteristics, and to provide a resin composition for a photoresist.例文帳に追加

良好な耐熱性を有し、かつ高感度でその他特性についても汎用のものより劣ることのないノボラック型フェノール樹脂及びフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide composition which is soluble in organic solvents, which is excellent in adhesiveness, heat resistance, mechanical properties and flexibility, and which shows the property of a highly sensitive positive-type photoresist that is soluble in alkali upon irradiation with light.例文帳に追加

有機溶剤に可溶で、しかも接着性、耐熱性、機械的特性及びフレキシブル性に優れ、光照射によってアルカリ可溶の高感度ポジ型フォトレジストの特性を示す感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having excellent characteristics in sensitivity, resolution, heat resistance, etc., in a lithography process when an electrode pattern of a semiconductor or a thin panel display is produced.例文帳に追加

半導体や薄型パネルディスプレイの電極パターンを製造する際のリソグラフィー工程において、感度、解像度、耐熱性など優れた特徴をもつフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high heat resistance and dissolving property and capable of forming a pattern with excellent resolution and perpendicularity, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

耐熱性、溶解性が高く、且つ解像性、垂直性に優れるパターンを形成することができるポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

This compound is suitably used as a semiconductor photoresist, a photosemiconductor sealing medium, and an optical electronic part material and gives a cured product excellent in optical properties, long-term heat resistance, and electrical properties such as a dielectric constant.例文帳に追加

この化合物は半導体用フォトレジスト、光半導体用封止剤、光学電子部品材料として好適な、光学特性、長期耐熱性、誘電率など電気特性に優れた硬化物を与える。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good storage stability and heat resistance.例文帳に追加

高コントラストの薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な引置き安定性及び耐熱性を有するポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having improved storage stability, capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good heat resistance.例文帳に追加

引置き安定性が改善され、高コントラスト薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な耐熱性のポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable for photoresist substrates having characteristics such as excellent heat resistance, high sensitivity, high resolution and high microfabrication, and to provide a composition containing the same.例文帳に追加

優れた耐熱性、高感度、高解像度、高微細加工性等の特徴を具備するフォトレジスト基材に好適な化合物及び組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a copolymer for a photoresist that has excellent resist performances such as heat resistance, sensitivity, resolution, etc., and clearly and accurately forms a fine pattern.例文帳に追加

耐熱性、感度、解像度等のレジスト性能に優れ、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できるフォトレジスト用共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of reconciling high heat resistance with enhanced sensitivity and having good focal-depth range properties (particularly good total focal-depth range properties), and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

高耐熱性と高感度化の両立を図ることができ、かつ焦点深度幅特性（特にはトータル焦点深度幅特性）が良好なポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁