tr wとは 意味・読み方・使い方

In fitting them, the cable W of the right terminal fitting TR and the cable W of the left terminal fitting TL come closer gradually from the most separated state, thus the cables W of right and left sides are not overlapped or do not interfere each other.例文帳に追加

組付け時は、右端子金具ＴＲの電線Ｗと左端子金具ＴＬの電線Ｗが最も離れた状態から次第に接近するようになっているので、左右の電線Ｗが重なったり干渉したりすることがない。 - 特許庁

When the sagging amount of the workpiece W is large, the braking force of the tension roller TR is set to a small value Lo, and the workpiece W is taken up to the take-up reel 2 while it is tensioned fixedly.例文帳に追加

ワークＷのたるみ量が大きいときは、テンションローラＴＲの制動力は小さな値Ｌｏに設定され、ワークＷは一定のテンションをかけられながら巻き取りリール２に巻き取られる。 - 特許庁

When the metal layer ML on the wafer W is annealed using an annealing unit, the droplets DL become fluid and fill the trenches TR completely.例文帳に追加

熱処理ユニットによって基板Ｗ上の金属膜ＭＬをアニールすると、ドロップレットＤＬが流体化し、溝ＴＲを完全に埋めることになる（図４（ｂ））。 - 特許庁

As the reagent is supplied to a plurality of positions of the surface peripheral part TR of the substrate W, a time required for etching removal of a thin film is shortened.例文帳に追加

基板Ｗの表面周縁部ＴＲの複数箇所に薬液が供給されるため、薄膜のエッチング除去に要する時間が短縮される。 - 特許庁

A first nozzle 3 is positioned at a supplying position P31 to supply an agent from the first nozzle 3 to a surface peripheral part TR of the rotating substrate W with a second nozzle 4 positioned at a supplying position P41 to supply the agent from the second nozzle 4 to the surface peripheral part TR of the substrate W.例文帳に追加

第１ノズル３を供給位置Ｐ３１に位置決めして第１ノズル３から薬液を回転する基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給するとともに、第２ノズル４を供給位置Ｐ４１に位置決めして第２ノズル４から薬液を基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給する。 - 特許庁

When a normal static image recorded beforehand of a hot plate HP1 matches with the static image photographed by the camera 10, a substrate transfer robot TR ships in/out the substrate W.例文帳に追加

予め記録されているホットプレート部ＨＰ１の正常な静止画像とカメラ１０の撮影する静止画像とが一致すれば、基板搬送ロボットＴＲは基板Ｗの搬入出を行う。 - 特許庁

The substrate cleaning device 1 is equipped with a mounting stage 10 for mounting cassettes C1, C2, cleaning units SS1, SS2 for performing cleaning-treatment on a substrate W, and a transport robot TR.例文帳に追加

基板洗浄装置１は、カセットＣ１，Ｃ２を載置するための載置ステージ１０と、基板Ｗに洗浄処理を行う洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２と、搬送ロボットＴＲとを備えている。 - 特許庁

The process recipe defines, together with the procedure of conveying a wafer W, which hands UH, LH of the transfer robot TR are used for deriving and accommodating the wafer W with respect to a cassette C, and defines which hands UH, LH of the center robot CR are used for conveying in and out the wafer W with respect to each processing chamber through which the wafer W passes.例文帳に追加

プロセスレシピは、ウエハＷを搬送する手順とともに、カセットＣに対するウエハＷの払出しおよび収納にそれぞれトランスファロボットＴＲのどちらのハンドＵＨ，ＬＨを使用するか、ならびに、ウエハＷを経由させる各処理チャンバに対するウエハＷの搬入および搬出にそれぞれセンタロボットＣＲのどちらのハンドＵＨ，ＬＨを使用するかを規定している。 - 特許庁