「"ひたいせき"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

集塵気流によって、非堆積領域に塵埃が侵入し堆積することを防ぐことができる室内用集塵装置を提供する。例文帳に追加

To provide an indoor dust collector preventing intrusion and deposition of dust in non-deposition regions by a dust collecting air current. - 特許庁

マグネトロンスパッタリング法により成膜を行った場合に荷電粒子の衝突に起因して被堆積面が受けるダメージを小さくする。例文帳に追加

To reduce damage of the surface to be deposited, which is caused by a collision of charged particles produced when a film is formed by a magnetron sputtering technique. - 特許庁

複数のノズルから原料微粒子を被堆積基板の略同一箇所に向けて噴射し、その基板入射角度を制御することにより、堆積された膜のエッチングを行いつつ成膜体を形成する。例文帳に追加

The film-formed body is formed while etching the deposited film, by spraying raw particulates from a plurality of nozzles toward an approximately same area on a substrate to be deposited thereon and controlling the incident angle of the raw particulates onto the substrate. - 特許庁

２００Ｗａｔｔ／ｃｍ^2の箔における比較的適度な表面パワー密度で、水素ガスに与えられた比体積平均パワーは０．６６ＭＷａｔｔ／ｇのように大きくできる。例文帳に追加

Average specific volume power imparted to the hydrogen gas is brought into a high value of 0.66 MWatt/g in a relatively moderate surface power density in a foil of 200 Watt/cm2. - 特許庁

シロキサン結合を有する化合物と酸化性ガスとをプラズマ化して反応させ、被堆積基板１０３上にシリコン含有絶縁膜２０４を成膜する成膜方法による。例文帳に追加

In this deposition method, a compound having siloxane bond and an oxidizing gas are changed into plasma for reaction, and the silicon- containing insulating film 204 is formed on a substrate 103 to be deposited. - 特許庁

ＴＭＯＳ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｏｘｙ−Ｓｉｌａｎｅ）と酸化性ガスとを含む反応ガスをプラズマ化し、反応させてシリコン酸化膜２０４を被堆積基板１０３上に形成する成膜方法。例文帳に追加

In this film forming method, a treatment gas containing TMOS (tetramethoxysilane) is made plasma and reacted to form a silicon oxide film 204 on a deposition target substrate 103. - 特許庁

集塵気流による集塵性能を維持しつつ、塵埃が、非堆積領域に侵入し堆積することを防ぐことができる室内用集塵装置を提供する。例文帳に追加

To provide an indoor dust collector for preventing dust from entering and accumulating in a non-accumulation region while maintaining dust collecting performance using dust collecting air flow. - 特許庁

絶縁層１５が基板１８の側において接する被堆積物１７の表面を、先端径が１０ｎｍのＡＦＭ探針を用いて１μｍ^２の範囲で観察した時の算術平均粗さＲａが３ｎｍ未満である。例文帳に追加

The arithmetic mean of roughness Ra when a surface of the accumulated material 17 with which the insulating layer 15 is contacted on the substrate 18 side is observed within a range of 1 μm^2 by using an AFM probe with a 10 nm tip diameter is less than 3 nm. - 特許庁

モータ冷却、冷媒の比体積低減、及び、潤滑油の粘性抵抗による圧縮機構の冷媒吸入効率の低下抑止を安価に信頼性高く実現することができる電動圧縮機を提供する。例文帳に追加

To provide a motor-driven compressor capable of inexpensively realizing the prevention of the lowering of the refrigerant suction efficiency of a compressing mechanism caused by the cooling of a motor, the reduction of specific volume of the refrigerant, and the viscosity resistance of the lubricating oil. - 特許庁

最大８５％、有利に最大５０％および特に有利に最大４０％のサイズ抽出性を有するサイズドガラスファイバーの比体積の上昇を抑える空気輸送装置を提供する。例文帳に追加

To provide an air transport device for suppressing an increase in the specific volume of a side glass fiber having a size extractivity of maximum 85%, maximum 50% in advantage or maximum 40% in particular advantage. - 特許庁

堆積効率を低下させることなくノズル先端部の赤熱による劣化を抑制した、特に堆積モードと非堆積モードとの間の移行を高頻度に繰り返す場合の劣化を抑制する。例文帳に追加

To suppress degradation of a distal end part of a nozzle by red heat without lowering depositing efficiency and in particular to suppress degradation in the case of frequently repeating transitions between depositing modes and non-depositing mode. - 特許庁

そして、仕切板１０４が、円筒状基体１０５の被堆積面が互いに直接対向することがないように円筒状基体１０５同士の間に設けられ、かつ、放電電極１０１と電気的に接続されている。例文帳に追加

Therein, a partition plate 104 is disposed between the cylindrical base bodies themselves such that surfaces to be deposited of the cylindrical base bodies 105 are not directly opposed and are electrically connected with the discharge electrode 101. - 特許庁

材料の荷重−比体積曲線の傾きBv（体積弾性率）と、材料の荷重−歪曲線の傾きBpr（見かけ弾性率）から、ポアソン比を次の式で求める。例文帳に追加

From a gradient Bv (volume modulus) of a load-specific volume curve of a material and a gradient Bpr (apparent modulus) of a load-strain curve of the material, a poisson ration is obtained according to the expression, where A=Bv/B_pr. - 特許庁

これにより非堆積領域Ｆへのナノファイバ１０ａの付着・体積を排除して、エレクトロスピニングによる膜形成の対象面において、簡便な方法でナノファイバ１０ａの堆積の有無の切り替えを行うことができる。例文帳に追加

Thereby, the adhesion-accumulation of the nanofibers 10a on the non-target accumulation region F are excluded, and the presence or absence of the accumulation of the nanofibers 10a on the film forming target surface in electrospinning can be switched by the simple method. - 特許庁

III 価のリンを有し、かつ少なくともリンの結合手の一つに酸素が結合したシリコンリン含有化合物と不活性ガスとを含む成膜ガスを用いて、P２O ３を含むシリコン含有絶縁膜２１を被堆積基板１０１上に形成する。例文帳に追加

A silicon-containing insulating film 21 containing P2O3 is formed on a substrate 101 to be deposited, by using a film-forming gas containing a silicon-containing compound, having III-valence phosphorus, at least one valence bond of which is bonded to an oxygen atom, and an inert gas. - 特許庁

水やアルコールあるいはこれらの混合物のように蒸気比体積の大なる冷媒を使用しても、負荷側冷却器に直接冷媒を導くことができ、しかも冷凍機ユニットと負荷側冷却器との間の冷媒配管サイズを小型のものとすることができる圧縮式冷凍装置を提供する。例文帳に追加

To provide a compression type refrigeration device capable of directly guiding coolant to a load side cooler even when a coolant with a large vapor specific volume such as water, alcohol, or a mixture thereof is used, and capable of reducing a size of a coolant piping between a refrigerator device and the load side cooler. - 特許庁

フロン冷媒よりも比体積が小さな冷媒を用いて配管や機器として内径の小さなものを使用する場合でも、圧縮機用の潤滑油がこれら配管や機器の内面に付着することによる圧力損失の問題を一掃できる冷凍装置を提供する。例文帳に追加

To provide a refrigerating device for completely eliminating a problem of pressure loss due to attachment of compressor lubricating oil to the inner surface of a piping or an equipment even in the case where a piping of small inside diameter is used as a piping or equipment using refrigerant of specific volume smaller than fluorocarbon refrigerant. - 特許庁

シロキサン結合とＳｉ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基）とを有する化合物と、酸化性ガスと、Ｈ_2 とを含む反応ガスをプラズマ化して反応させ、被堆積基板１０３上にシリコン含有絶縁膜２０４を成膜する成膜方法による。例文帳に追加

This film forming method comprises a process in which a compound with a siloxane bond and an Si-R bond (R is alkyl group) and a reactive gas containing an oxidizing gas and H2 are turned to plasma and made to react on each other, and a silicon-containing insulating film 204 is formed on a substrate 103. - 特許庁

該非堆積事前処置が２つのステップ、従って該プラスチック基板２の該表面が非反応性低エネルギープラズマ１４によってクリーニングされる第１のステップと、該プラスチック基板２の該表面が反応性高エネルギーイオン放射１７によって活性化される第２のステップとで実行されるプロセスによって遂行される。例文帳に追加

The non-accumulated advance treatment is carried out by the process executed by two steps wherein a first step for cleaning the surface of the plastic substrate 2 with non-reactive low energy plasma 14, and a second step for activating the surface of the plastic substrate 2 by reactive high energy ion emission 17. - 特許庁

更に、製造方法は一定間隔で設けられた複数の貫通穴を有する板状体からなる第１の電極を、これと対をなす板状体からなる第２の電極に対向するように溶液中に配置するステップと、第１の電極が被堆積側電極となるように第１及び第２の電極に通電するステップとを含むことを特徴とする。例文帳に追加

The manufacturing method is characterized in that it includes a step which disposes a first electrode composed of the plate-like body having a plurality of through-holes provided at the fixed interval in a solution so as to oppose to a second electrode composed of the plate-like body paired with that, and a step which carries the current to the first and the second electrodes so that the first electrode becomes the deposited side electrode. - 特許庁

つまり、フロン冷媒よりも比体積が小さな二酸化炭素を冷媒として用いることにより、冷媒循環量を減らし且つ配管や機器として内径の小さなものを使用する場合でも、これら配管や機器の内面に潤滑油が付着することによる圧力損失の問題を一掃することができる。例文帳に追加

That is, by using carbon dioxide of specific volume smaller than fluorocarbon refrigerant, even in the case where an amount of refrigerant circulation is reduced and a piping of small inside diameter is used as a piping or equipment, the pressure loss problem due to the lubricating oil attaching to the inner surface of the piping or equipment is completely eliminated. - 特許庁

Ｓｉ（ＯＲ）_n Ｈ_m 化合物（但し、Ｒはアルキル基であり、ｎ＋ｍ＝４）と、ＳｉＦ_p （ＯＲ）_q 化合物（但し、Ｒはアルキル基であり、ｐ＋ｑ＝４）と、酸化性ガスとを含む反応ガスをプラズマ化して反応させ、被堆積基板１０３上にシリコン含有絶縁膜２０４を成膜する成膜方法による。例文帳に追加

This silicon-containing insulating film 204 is formed on a substrate 103 through causing a reaction by ionizing a reaction gas, containing an Si(OR)nHm compound (where R is a alkyl group and n+m=4), an SiFp(OR)q compound (where R is an alkyl group and p+q=4), and an oxidizing gas into a plasma with a microwave. - 特許庁

少なくとも１つの金属層、特に柔軟性プリント回路ボード用のプラスチックフォイルを具備するプラスチック基板を堆積するためのプロセスおよびウェブ堆積機器であって、堆積される該プラスチック基板の表面上に第１の層を堆積する前に、この表面の非堆積事前処置が実行されるプロセスおよびウェブ堆積機器に関する。例文帳に追加

Before a first layer is accumulated on the surface of the plastic substrate to be accumulated, non-accumulated advance treatment is executed. - 特許庁