「"W-In"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A forklift includes a counter weight W in the rear of the vehicle.例文帳に追加

フォークリフトは、カウンタウェイトＷを車両後方に搭載している。 - 特許庁

A hanger pipe 13 is disposed over the width W in the locker box.例文帳に追加

ロッカーボックス内に幅Ｗにわたってハンガーパイプ１３を配設する。 - 特許庁

The conveyor 20 has air permeability and moves the material W in the state for mounting the material W in the housing 10.例文帳に追加

コンベア２０は、通気性を有し、ハウジング１０内において被処理物Ｗを載置した状態でその被処理物Ｗを移動させる。 - 特許庁

The system comprises a cleaning device 4 for cleaning the work W in the vertical state, a drying device 5 for drying the work W in the vertical state, and a conveying device 2 for conveying the work W in the vertical state.例文帳に追加

即ち、ワークＷを垂直な状態で洗浄する洗浄装置４，ワークＷを垂直な状態で乾燥させる乾燥装置５，ワークＷを垂直な状態で搬送する搬送装置２を設けた。 - 特許庁

The sewage W in the septic tank 2 can be efficiently evaporated and scattered.例文帳に追加

汚水槽２の汚水Ｗを効率良く蒸発させて飛散できる。 - 特許庁

Fine bubbles are formed in the ground water W in the second circulation S2.例文帳に追加

第２循環Ｓ２において地下水Ｗに微細気泡を生成する。 - 特許庁

After carrying the work W in and away at the machining stage S3, the transferring device 3 carries the work W in and away at the opposite machining stage S4.例文帳に追加

移載装置３は、加工ステージＳ３側でのワークＷの搬出入を行った後に反対側の加工ステージＳ４でのワークＷの搬出入を行う。 - 特許庁

A CPU 26 integrates the game start waiting time w in a RAM 25.例文帳に追加

ＣＰＵ２６は、この遊技開始待ち時間ｗをＲＡＭ２５に積算する。 - 特許庁

The second photoelectric sensor 13 detects behavior of the article W in deceleration.例文帳に追加

第２光電センサ１３は、減速時の物品Ｗの挙動を検出する。 - 特許庁

An evaporation sheet 11 is immersed in sewage W in a septic tank 2 by operating a winch 24 to allow the evaporation sheet 11 to absorb the sewage W in the septic tank 2.例文帳に追加

巻取機24を駆動して蒸発用シート11を汚水槽２の汚水Ｗに浸漬し、蒸発用シート11で汚水槽２の汚水Ｗを吸収する。 - 特許庁

The light source 13 irradiates ultraviolet light onto the work W in the treatment tank 12.例文帳に追加

光源１３は、処理槽１２内のワークＷに紫外線を照射する。 - 特許庁

A watermark embedding part 60 embeds the enlarged watermark w* in the original image c.例文帳に追加

透かし埋め込み部６０は、拡大透かしｗ＊を原画像ｃに埋め込む。 - 特許庁

A plurality of rollers 29 hold the workpiece W in contact with its outer periphery.例文帳に追加

複数個のローラ２９は、ワークＷの外周を接触保持している。 - 特許庁

Salient-pole pieces 14a are formed at an equal interval in a width W in a circumferential direction.例文帳に追加

突極片１４ａは周方向に幅Ｗで等間隔に形成される。 - 特許庁

The low-speed conveying means 3 conveys articles W in the closely contacted state.例文帳に追加

低速搬送手段３は物品Ｗを密着状態のまま搬送する。 - 特許庁

The width W in a free posture of the packing 1 is broader than the width of the packing groove.例文帳に追加

パッキン１の自由姿勢における幅Ｗは、パッキン溝の幅よりも広い。 - 特許庁

The wafer carrying-in/out station 5 carries the wafer W in and out of the imprint unit 4.例文帳に追加

ウェハ搬入出ステーション５は、インプリントユニット４にウェハＷを搬入出する。 - 特許庁

In this film forming system 1, after a copper film is formed on a wafer W in a copper forming process chamber 20, a CMP process is applied to the wafer W in a CMP process chamber 30.例文帳に追加

成膜装置１では、銅形成処理室２０にてウェハＷ上に銅膜を形成した後、ＣＭＰ処理室３０にてＣＭＰ処理がウェハＷに施される。 - 特許庁

The width W in a tire axial direction on the surface 10S is made 0.5-1.5 mm.例文帳に追加

前記帯状面１０Ｓのタイヤ軸方向の巾Ｗを０．５〜１．５ｍｍとした。 - 特許庁

In this case, the blades W in the region R are so set as to tilt downward in the right and the blades W in the region T are so set as to tilt upward in the right while being kept at the angle θa to the line Q.例文帳に追加

ここで、領域Ｒの羽根Ｗは右下がりに、領域Ｔの羽根Ｗは右上がりに、線Ｑに対して角度θaを有して形成されている。 - 特許庁

The chuck 3 moves the printed circuit board W in the applying direction of the film F.例文帳に追加

チャック３は、フィルムＦが仮付けされる方向にプリント基板Ｗを移動する。 - 特許庁

The cement paste is obtained by mixing cement C and water W in a prescribed ratio.例文帳に追加

セメントペーストは、セメントＣと水Ｗとを所定の比率で混合したものである。 - 特許庁

Particles of W in the W phase and particles of Ti in the Ti phase have diameters of 5 μm or less.例文帳に追加

Ｗ相のＷ粒径及びＴｉ相のＴｉ粒径が５μｍ以下である。 - 特許庁

A work distinguishing means 26 distinguishes the sort of the work W in the standby part 2.例文帳に追加

ワーク待機部２のワークＷの種類を識別するワーク識別手段２６を設ける。 - 特許庁

The carrying rollers 6 carry a substrate W in and out of the etching chamber 3.例文帳に追加

搬送ローラ６は、基板Ｗをエッチング処理チャンバー３に対して搬出入する。 - 特許庁

The second transport path 5 is formed like a path for passing the articles W in a line.例文帳に追加

第２搬送路５は、物品Ｗを一列に通過させる通路状に形成する。 - 特許庁

The hydraulic cylinder 11 applies pressure to the flat surface of a workpiece W in a direction perpendicular thereto.例文帳に追加

油圧シリンダ１１は、ワークＷの平面に対して垂直な方向へ押圧する。 - 特許庁

A probing device 100 for testing an object W in a vacuum state is provided.例文帳に追加

被検査体Ｗを真空状態で検査するプローブ装置１００が提供される。 - 特許庁

Subsequently, concrete C is poured into the beam form W in a concrete placing step S13.例文帳に追加

次いで、コンクリート打設工程Ｓ１３で、梁型枠Ｗ内にコンクリートＣを流し込む。 - 特許庁

A resist film is formed on a substrate W in the resist film processing block 11.例文帳に追加

レジスト膜用処理ブロック１１において基板Ｗ上にレジスト膜が形成される。 - 特許庁

This flower stand 1a includes a water receptacle 2a storing water W in a container.例文帳に追加

花立て１ａは、容器内に水Ｗを貯留する水受容器２ａを備えている。 - 特許庁

A cooling water W in a cooling water tank 11 is cooled by operating a cooling means 16.例文帳に追加

冷却手段16の作動で冷却水槽11内の冷却水Ｗを冷却する。 - 特許庁

Thus, ammonia can be efficiently separated from the organic waste liquid W in the reaction tower 2.例文帳に追加

反応塔２内の有機性廃液Ｗからアンモニアをより効率良く分離できる。 - 特許庁

The treatment liquid of the organic waste liquid W in the reaction tower 2 is again sprinkled to the upper side than the liquid surface P of treatment liquid of the organic waste liquid W in the reaction tower 2.例文帳に追加

反応塔２内の有機性廃液Ｗの処理液が散水装置４にて再び反応塔２内の有機性廃液Ｗの処理液の液面Ｐよりも上方に散水させる。 - 特許庁

This work machining system having a transverse-axis-type double-end grinding machine 1 for grinding the work W in a vertical state always machines the work W in the vertical state.例文帳に追加

ワークＷを垂直な状態で研削する横軸型の両頭研削盤１を備えたワーク加工システムにおいて、このワークＷを、常に垂直にした状態で処理することとした。 - 特許庁

As only the wafer W in the identical group is housed in one cassette C, the variation in thickness of the plurality of wafers W in the cassette C is in the predetermined range.例文帳に追加

一つのカセットＣには同じグループのウエハＷだけが収容してあるので、カセットＣ内における複数枚のウエハＷについての厚さのバラツキは所定範囲内に収まっている。 - 特許庁

The transmission type sensor 80, which falls integrally with the shutter member 5, sequentially detects substrates W in the cassette 1 for grasping the condition of substrates W in the cassette 1.例文帳に追加

シャッター部材５と一体となって下降する透過型センサ８０が、カセット１内の基板Ｗを順次検出していくことで、カセット１内の基板Ｗの状態を把握することができる。 - 特許庁

The reflection type sensor 10, which falls integrally with the shutter member 5, sequentially detects substrates W in the cassette 1 for grasping the condition of substrate W in the cassette 1.例文帳に追加

シャッター部材５と一体となって下降する反射型センサ１０が、カセット１内の基板Ｗを順次検出していくことで、カセット１内の基板Ｗの状態を把握することができる。 - 特許庁

The transfer mechanism 5 transfers the substrate W in-between the carrying-in/carrying-out mechanism 4 at a transfer position P3 while transferring the substrate W in-between the first/second horizontal conveyance mechanisms 6, 7.例文帳に追加

移載機構５は、移載位置Ｐ３において、搬出入機構４との間で基板Ｗを授受し、第１および第２水平搬送機構６，７との間で基板Ｗを授受する。 - 特許庁

A notch locating pin 74 is moved to the inside of the workpiece W in the radial direction, and a slider 743 is moved to the inside of the workpiece W in the radial direction by an energizing force of a spring 746.例文帳に追加

ノッチ位置決めピン７４をワークＷの半径方向内側に移動し、ばね７４６の付勢力によって、スライダー７４３を、ワークＷの半径方向内側に移動する。 - 特許庁

A material W in the shape of a bar is inserted between a pair of barrel-shaped forming rolls 9, 10.例文帳に追加

樽形状の一対の成形ロール９，１０同士の間に棒状素材Ｗを挟み込む。 - 特許庁

The work piece W in which a flat metallic plate is forged in a cylindrical shape is made the spacer.例文帳に追加

平板からなる金属板を円筒形状に鍛造加工してなるワークＷをスペーサとする。 - 特許庁

Consequently, it is possible to wash and treat front and back surfaces of the wafer W in sheet type washing.例文帳に追加

これにより、枚葉式洗浄におけるウェハＷの表裏面の洗浄処理が可能となる。 - 特許庁

The solder feeding apparatus feeds a solder wire W in a non-oxidizing atmosphere to a crucible 1.例文帳に追加

非酸化性雰囲気中の半田ワイヤＷをルツボ１に供給する半田供給装置である。 - 特許庁

A pump device 10 returns stored water W in the treatment liquid storage part 8 to the feed ports 4.例文帳に追加

ポンプ装置１０は、供給口４に処理液貯留部８の貯留水Ｗを送り戻す。 - 特許庁