「"Work function"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The metal gate can have a work function which matches a work function of a p-type polysilicon.例文帳に追加

メタルゲートは、ｐ型ポリシリコンの仕事関数と整合する仕事関数を有し得る。 - 特許庁

MEASURING METHOD OF WORK FUNCTION AND WORK FUNCTION MEASURING DEVICE OF ELECTRODE OF DISCHARGE LAMP例文帳に追加

放電ランプの電極における仕事関数の測定方法及び仕事関数測定装置 - 特許庁

A work function of the low work-function metal is smaller than that of the first metal.例文帳に追加

低仕事関数金属の仕事関数は、第１の金属の仕事関数よりも小さい。 - 特許庁

To provide a transparent electrode keeping a high work function for a long period by improving the work function.例文帳に追加

仕事関数を向上させ、長時間高い仕事関数を有する透明電極を提供する。 - 特許庁

The first conductive material has a first work function and the second conductive material has a second work function different from the first work function.例文帳に追加

第１の導体材料は、第１の仕事関数を有し、第２の導体材料は、第１の仕事関数と異なる第２の仕事関数を有する。 - 特許庁

WORK FUNCTION MICROSCOPE AND PHOTOELECTRIC MICROSCOPE例文帳に追加

仕事関数顕微鏡及び光電子顕微鏡 - 特許庁

The electrode 12 is provided with a low-work-function layer on the surface of a base material with a work function lower than the base material.例文帳に追加

電極12は、基材表面に基材よりも仕事関数が小さい低仕事関数層を具える。 - 特許庁

ELECTROLUMINESCENT ELEMENT HAVING POSITIVE ELECTRODE OF LOW WORK FUNCTION例文帳に追加

低い仕事関数の陽極を有する電界発光素子 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASUREMENT OF WORK FUNCTION例文帳に追加

仕事関数測定法および仕事関数測定装置 - 特許庁

A difference between a work function of combination of the reflection pixel electrode 12 and the work function adjusting layer 6 and a work function of the counter transparent electrode 9 is kept 0.2 eV or less.例文帳に追加

反射画素電極１２と仕事関数調整層６とを合わせた仕事関数と、対向透明電極９の仕事関数との差が０．２ｅＶ以内である。 - 特許庁

ELECTROLUMINESCENCE DEVICE HAVING ANODE WITH LOW WORK FUNCTION例文帳に追加

低い仕事関数の陽極を有する電界発光素子 - 特許庁

A work function of the low work-function metal is smaller than that of the first metal and the second metal.例文帳に追加

低仕事関数金属の仕事関数は、第１の金属および第２の金属の仕事関数よりも小さい。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING ELECTRODE WITH HIGH EFFECTIVE WORK FUNCTION例文帳に追加

高有効仕事関数で電極を堆積する方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELECTRODE WITH ADJUSTED WORK FUNCTION例文帳に追加

調節された仕事関数で電極を形成する方法 - 特許庁

To control the work function of n+SiGe.例文帳に追加

ｎ^+ＳｉＧｅの仕事関数を制御できるようにする。 - 特許庁

The work function of the positive electrode metal is less than 4.8 eV.例文帳に追加

陽極金属は仕事関数が４．８ｅＶ未満である。 - 特許庁

The cathode is formed of a material with a low work function.例文帳に追加

カソード６は低仕事関数の材料で形成されている。 - 特許庁

CATHODE HAVING IMPROVED WORK FUNCTION AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

仕事関数を改善させた陰極およびその製造方法 - 特許庁

DUAL WORK FUNCTION SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

デュアル仕事関数半導体デバイスおよびその製造方法 - 特許庁

Accordingly, the work function of the impurity introduction portion 10 is smaller than the work function of the nickel silicide film 8.例文帳に追加

従って、不純物導入部１０の仕事関数は、ニッケルシリサイド膜８の仕事関数よりも小さくなっている。 - 特許庁

Accordingly, with regard to the NMOS work function control metal layer 7, the effective work function in the region b is set up near to a mid gap, in comparison with the effective work function in the region a.例文帳に追加

したがって、ＮＭＯＳ仕事関数制御メタル層７に関し、領域ｂにおける実効仕事関数が領域ａにおける実効仕事関数に比べ、ミッドギャップよりに設定される。 - 特許庁

The work function of the transparent conductive film is 5.5 eV or more.例文帳に追加

また、この透明導電膜の仕事関数は5.5eV以上である。 - 特許庁

A first work function of the first conductive part 108A and a second work function of the second conductive part 108B are different.例文帳に追加

第１の導電部１０８Ａの第１の仕事関数と第２の導電部１０８Ｂの第２の仕事関数とが異なっている。 - 特許庁

METHOD FOR ADJUSTING WORK FUNCTION OF SILICIDE GATE ELECTRODE例文帳に追加

シリサイド化されたゲート電極の仕事関数を調節する方法 - 特許庁

The provision of the intermediate layer 6 between the work function control layer 5 and the low resistance layer 7 allows to suppress the diffusion of N etc. to the work function control layer 5 or from the work function control layer 5, and to suppress the variation of the work function.例文帳に追加

仕事関数制御層５と低抵抗層７との間に中間層６を設けたことにより、仕事関数制御層５へのあるいは仕事関数制御層５からのＮ等の拡散が抑制され、その仕事関数の変動が抑制されるようになる。 - 特許庁

The second metal layer 6b either does not substantially contain a low work-function metal, or contains a low work-function metal at a lower density than that of the low work-function metal in the first metal layer 6a.例文帳に追加

第２金属層６ｂは、低仕事関数金属を実質的に含まないか、または第１金属層６ａにおける低仕事関数金属の濃度よりも低い濃度で低仕事関数金属を含む。 - 特許庁

To provide a capacitor electrode with a high work function and low resistance.例文帳に追加

仕事関数が高く、低抵抗なキャパシタ用電極を提供する。 - 特許庁

DOUBLE WORK FUNCTION METAL GATE STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

二重仕事関数金属ゲート構造体及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING DUAL WORK-FUNCTION SEMICONDUCTOR DEVICE, AND THE DEVICE例文帳に追加

二重仕事関数半導体デバイスの製造方法及びそのデバイス - 特許庁

The semireflective electrode 16 has a work function of ≤4 electron volt.例文帳に追加

半反射電極１６は仕事関数が４エレクトロンボルト以下である。 - 特許庁

For this reason, discharging of an emitter begins from a low work function region 14A which is surrounded by the high work function region 14B.例文帳に追加

これにより、エミッタの放出が、高仕事関数領域１４Ｂで取り囲まれた低仕事関数領域１４Ａから行われる。 - 特許庁

To provide an apparatus of producing a work function image that can convert and produce the work function image on the basis of secondary electron image.例文帳に追加

二次電子像に基づいて仕事関数像を容易に変換生成できるようにした仕事関数像生成装置を提供する。 - 特許庁

To reduce threshold voltage by bringing the work function of a P channel transistor's gate electrode close to the work function value of silicon valence band's upper end as well as by bringing the work function of the P channel transistor's gate electrode close to the work function value of silicon conduction band's lower end.例文帳に追加

Ｐチャネルトランジスタのゲート電極の仕事関数をシリコンの価電子帯上端の仕事関数値に近づけるとともに、Ｐチャネルトランジスタのゲート電極の仕事関数をシリコンの伝導帯下端の仕事関数値に近づけることで、しきい値電圧の低減を図る。 - 特許庁

INTEGRATED CIRCUIT WITH MOSFET INCLUDING SPLIT WORK FUNCTION GATE例文帳に追加

スプリット仕事関数ゲートを含むＭＯＳＦＥＴを有する集積回路 - 特許庁

METHOD FOR PROVIDING DOUBLE WORK FUNCTION DOPING AND PROTECTIVE INSULATION CAP例文帳に追加

２重仕事関数ドーピング及び保護絶縁キャップを提供する方法 - 特許庁

The conductive layer is subjected to a patterning process to form a second gate electrode 25 having a second work function value different from the first work function value.例文帳に追加

導電層（１８）にパターニングを行い、第１仕事関数値とは異なる第２仕事関数値を有する第２ゲート電極（２５）を形成する。 - 特許庁

Where, the step for setting the gate work function includes setting a gate work function, substantially corresponding to the second thickness of the second metal layer.例文帳に追加

ここで、ゲート仕事関数を設定するステップは、第２金属第２厚さに実質的に応じるゲート仕事関数を設定するステップを含む。 - 特許庁

CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH DOUBLE WORK FUNCTION METALLIC GATE STACK例文帳に追加

二重仕事関数金属ゲートスタックを備えるＣＭＯＳ半導体装置 - 特許庁

The electrode has low resistance, high transmittancy, and a small work function.例文帳に追加

該電極は、低抵抗、高透光度及び小さい仕事関数を有する。 - 特許庁

DUAL WORK FUNCTION DEVICE HAVING STRESSOR LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

ストレッサ層を有するデュアル仕事関数デバイスおよびその製造方法 - 特許庁

A high-work-function compound semiconductor with a work function of 5.5 eV or more, such as indium nitride or zinc nitride, is used for a floating gate 104.例文帳に追加

フローティングゲート１０４に窒化インジウム、窒化亜鉛等の仕事関数が５．５電子ボルト以上の高仕事関数化合物半導体を用いる。 - 特許庁

The dual work function semiconductor device manufactured by the method is disclosed.例文帳に追加

この方法により得られるデュアル仕事関数半導体デバイスも記載される。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING DUAL WORK FUNCTION SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURED DEVICE例文帳に追加

デュアル仕事関数半導体デバイスの製造方法および製造されたデバイス - 特許庁

Two electrode members sandwiching a barrier plate made of a solid substance having Na ion conductivity are formed by a metal having a work function the absolute value of which is lower than the absolute value of the work function of Na, and a metal having a work function the absolute value of which is higher than the absolute value of the work function of Na, to obtain this liquid sodium battery.例文帳に追加

Ｎａイオン伝導性の固体物質からなる隔壁を挟む２つの電極部材を前記Ｎａの仕事関数の絶対値よりも仕事関数の絶対値が低い金属と、前記Ｎａの仕事関数の絶対値よりも仕事関数の絶対値が高い金属によって構成された液体ナトリウム電池が得られる。 - 特許庁

To provide a double work function doping and a borderless array diffusion contact.例文帳に追加

２重仕事関数ドーピング及びボーダレス・アレイ拡散コンタクトを提供すること。 - 特許庁