「"sample pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

XY COORDINATE CORRECTION DEVICE AND METHOD IN SAMPLE PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

試料パターン検査装置におけるＸＹ座標補正装置及び方法 - 特許庁

When this household appliance control system is switched to a crime prevention mode by an operation panel 22, etc., a presence production system control part 44 acquires the sample pattern from the sample pattern storage part 42 and transmits control signals to each household appliance according to the acquired sample pattern.例文帳に追加

操作パネル２２等で防犯モードに切替られると、在宅演出システム制御部４４はサンプルパターン記憶部４２からサンプルパターンを取得し、取得したサンプルパターンに従って各家電機器に制御信号を送信する。 - 特許庁

A sample pattern and its correction pattern are stored in a sample storage area 15.例文帳に追加

雛形記憶領域１５に、雛形パターン及びその補正パターンが記憶さる。 - 特許庁

The feature quantity is extracted from a sample pattern 1 and stored in a feature quantity database 3.例文帳に追加

サンプルパターン１から特徴量を抽出して特徴量データベース３に格納しておく。 - 特許庁

If it matches any one sample pattern, Ndpi one pixel 1 bit binary gray scale of the interested pixel is converted into gray scale of Ndpi one pixel M gray scale corresponding to the matched sample pattern.例文帳に追加

そして、いずれかのサンプルパターンと一致する場合、Ｎｄｐｉ一画素１ビット２値の注目画素の階調を、Ｎｄｐｉ一画素Ｍ値の階調に変換する際に、その一致したサンプルパターンに応じた階調に変換する。 - 特許庁

The sample pattern downloaded via the Internet is turned into a state its reuse is made unavailable, so that the sample pattern stored once in this device can be prevented from being used without authorization after its original purpose of use is achieved.例文帳に追加

インターネットを経由してダウンロードしたサンプルパターンを再利用不可能な状態にするので、装置に一度蓄積したサンプルパターンが本来の使用目的を終えた後に無断で使用される事態を防止できる。 - 特許庁

A processing equipment 10 compares the correction object pattern with the sample pattern to extract consistent parts and inconsistent parts.例文帳に追加

処理装置１０が、雛形パターンと補正対象パターンとを比較して、一致部分と不一致部分とを抽出する。 - 特許庁

A sample preparing means 14 extracts a sample pattern 12 from the objective area 27 assigned by the area assigning information input from the area assigning information input means 23 to prepare the sample 26 including the sample pattern 12.例文帳に追加

サンプル作成手段１４は、領域指定情報入力手段２３から入力した領域指定情報によって指定された対象領域２７からサンプル図形１２を抽出して、このサンプル図形１２を含むサンプル２６を作成する。 - 特許庁

To provide an object recognition system that can newly generate a sample pattern without registering all sample patterns in advance.例文帳に追加

あらかじめすべてのサンプルパターンを登録することなく、新たにサンプルパターンを生成することのできる対象物認識システムを提供する。 - 特許庁

To apply a conventional rule-based OPC method to a correction object pattern when no sample pattern is prepared that matches the correction object pattern.例文帳に追加

補正対象パターンに一致する雛形パターンが準備されていない場合には、補正対象パターンに、従来のルールベースＯＰＣ手法を適用しなければならない。 - 特許庁

Then a communication part 5 downloads the sample patterns, etc., from the outside and the latest sample pattern or the sample patterns other than those owned by the user can be available.例文帳に追加

さらに、通信部５により、見本パターン等を外部からダウンロードして、最新の見本パターンや自分のところに無い見本パターンを利用可能とする。 - 特許庁

A dead zone area preparing means 15 prepares a neighborhood area in a periphery of an area corresponding to the sample pattern 12 of an original image 11, and prepares a dead zone area excepting a processing object in at least one side out of outer and inner sides of a boundary part between the sample pattern 12 and the neighborhood area.例文帳に追加

不感帯領域作成手段１５は、原画像１１のサンプル図形１２に対応する領域の周囲に近傍領域を作成するとともに、サンプル図形１２と近傍領域との境界部よりも外側および内側のうち少なくともいずれか一方に、処理対象から除外される不感帯領域を作成する。 - 特許庁

The pattern retrieving device comprises a means for storing the feature quantities of images of a plurality of definitions different from each other of each sample pattern, a means for calculating the feature quantity of the presented pattern, and a means for measuring a distance between the feature quantity of the image of each definition of each sample pattern and the feature quantity of the presented pattern.例文帳に追加

各サンプル模様の相互に異なる複数の解像度の画像の特徴量を格納する手段と、提示された模様の特徴量を計算する手段と、各サンプル模様の各解像度の画像の特徴量と前記提示された模様の特徴量との間の特徴量距離を測定する手段と、を備える。 - 特許庁

The labor and time required for preparing the sample 26 are reduced since the sample preparing means 14 extracts the sample pattern 12 from the objective area 27 by this manner.例文帳に追加

前述のようにサンプル作成手段１４が対象領域２７からサンプル図形１２を抽出するので、サンプル１６の作成に要する手間を低減することができる。 - 特許庁

An image processing procedure designing means 25 constitutes a processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12, based on the original image 11 and the sample 26.例文帳に追加

画像処理手順設計手段２５は、原画像１１およびサンプル２６に基づいて、前記サンプル図形１２に近い図形を抽出するための処理手順を構成する。 - 特許庁

By forming sample pattern images in such a manner, a developing roller is rotated before the formation of the resist pattern images, thereby decreasing a nonuniform state of a toner layer held on the surface of the developing roller.例文帳に追加

このようにサンプルパターン像を形成することで、レジストパターン像の形成前に現像ローラを回転駆動し、該現像ローラ表面に担持されるトナー層の不均一性を緩和する。 - 特許庁

The image forming apparatus has a fixed sample output function that fixes a toner image of a predetermined sample pattern in a plurality of different fixing conditions (sample A to E) and outputs the result.例文帳に追加

画像形成装置は、所定のサンプルパターンのトナー像を、複数の異なる定着条件（ｓａｍｐｌｅ Ａ〜Ｅ）で定着させて出力する定着サンプル出力機能を有している。 - 特許庁

Inside/outside pattern defining information that defines the inside and outside of a pattern formed on a sample object is generated by thinning design data for generating a sample pattern.例文帳に追加

検査対象試料を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、対象試料上に形成されたパターンの内側と外側を規定するパターン内外規定情報を生成する。 - 特許庁

To provide a technique capable of eliminating not only surplus, overlapping or mustache of border lines of a sample pattern, but also intermittence of border lines in the present invention with the view to such a situation.例文帳に追加

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、試料パターンの輪郭線の余剰、重複またはヒゲだけでなく、輪郭線の途切れも解消することのできる技術を提供するものである。 - 特許庁

To provide an image processing procedure design expert system having a feature in evaluation processing capable of enhancing stability of constitution for a processing procedure without preparing a sample pattern accurately one picture element unit by one picture element unit.例文帳に追加

サンプル図形を１画素単位で正確に作成しなくても、処理手順の構成の安定性を向上することができる評価処理に特長をもつ画像処理手順設計エキスパートシステムを提供する。 - 特許庁

The processing procedure constituted in the image processing procedure design expert system is thereby equal to the processing procedure constituted when the sample pattern 12 is same to the image in the area desired to be extracted from the original image 11, even when the sample pattern 12 is a little bit larger or smaller than the image in the area desired to be extracted, so as to constitute the highly reliable pattern extracting procedure.例文帳に追加

これによってサンプル図形１２が、原画像１１から抽出したい領域の画像よりも多少大きくなる場合、または小さくなる場合であっても、画像処理手順設計エキスパートシステムにおいて構成される処理手順が、サンプル図形が抽出したい領域の画像と同一である場合に構成される処理手順と等しくなり、より信頼性の高い図形を抽出する処理手順を構成することができる。 - 特許庁

Beams are irradiated at a constant time interval on a reference area including a linear outline part of a sample pattern to constitute images, and an amount of deviation is calculated by comparing positions of contours in the images before and after the time.例文帳に追加

試料パターンの直線状の輪郭部を含む参照領域に一定の時間をおいてビームを照射して画像を構成し、その時間の前後における画像内の輪郭線の位置を比較してずれ量を算出する。 - 特許庁

The identification mark of the most approximate sample pattern is stored in a RAM 28, and at a proper communication chance, the data of the identification mark on the RAM 28 is transferred to a game machine 40 by connecting the outside game machine 40 and a communication cable 38.例文帳に追加

最も近似している見本パターンの識別符号をＲＡＭ２８に記憶し、外部のゲーム機４０と通信ケーブル３８で結んで適宜な通信機会にＲＡＭ２８上の識別符号のデータをゲーム機４０に転送する。 - 特許庁

Before the resist pattern images RP(C), RP(M), RP(Y) and RP(K) are formed, sample pattern images SP(C), SP(M), SP(Y) and SP(K) that have a width SL greater than the width RL of the resist pattern images in a conveyance direction D16 are formed on an intermediate transfer belt.例文帳に追加

中間転写ベルト上にレジストパターン像ＲＰ(C)，ＲＰ(M)，ＲＰ(Y)，ＲＰ(K)を形成する前に、搬送方向Ｄ1６における該レジストパターン像の幅ＲＬより広い幅ＳＬを有するサンプルパターン像ＳＰ(C)，ＳＰ(M)，ＳＰ(Y)，ＳＰ(K)を形成する。 - 特許庁

The filtering processing is executed, and the image obtained by executing the plurality of processings according to the processing procedure is processed to remove the noise components having features quite different from the sample pattern out of the components included in the image.例文帳に追加

このフィルター処理を実行して、処理手順に従って複数の処理を実行して得られる画像を処理すると、この画像に含まれる成分のうちサンプル図形とは全く異なる特徴を有するノイズ成分を取り除くことができる。 - 特許庁

The filtering processing is used as one of the plurality of processings according to the processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12 from the original image 11 to constitute the processing procedure for generating the highly reliable image.例文帳に追加

前記フィルター処理を、原画像１１からサンプル図形１２に近い図形を抽出する処理手順に従う複数の処理の１つとすることによって、より信頼性の高い画像を生成する処理手順を構成することができる。 - 特許庁

A filtering processing generating means 20 generates the filtering processing for removing components having a feature amount larger than a feature amount in an area corresponding to a sample pattern 12 and a feature amount smaller than it therein, based on an image obtained by executing a plurality of processings according to the processing procedure to an original image.例文帳に追加

フィルター処理生成手段２０は、原画像１１に処理手順に従う複数の処理を実行して得られる画像から、サンプル図形１２に対応する領域の特徴量よりも大きな特徴量および小さな特徴量を有する成分を除去するフィルター処理を生成する。 - 特許庁

In a controller and display device for a sample pattern providing system for realizing efficiency of the preparation of designs and application software or the like, vague needs or abstract image of a user can be made concrete in a short time, and any time to be spent on the definition of requirements or special knowledge becomes unnecessary.例文帳に追加

デザイン及びアプリケーションソフトなどの作成を効率化するためのサンプルパターン提供システム用制御装置及び表示装置により、ユーザーの漠然としたニーズや抽象的なイメージが短時間で具体化し、要件定義に費やす時間と専門的知識が不要となる。 - 特許庁

An operation input pattern sampling part 140 samples an analysis pattern obtained when detection request signals are given from an external unit 200 as an operation input pattern, and a pattern selection part 160 selects a pattern that matches the sampled pattern from the sample pattern storage part 150.例文帳に追加

操作入力パターン採取部１４０は、外部ユニット２００から検知要求信号が与えられた時に得られた解析パターンを操作入力パターンとして採取し、パターン選択部１６０は、当該採取パターンに合致するパターンを、サンプルパターン格納部１５０から選択する。 - 特許庁

A second aspect is to acquire an optimal stigma value (astigmatism correction signal) by using the standard sample, to store the value as a default value, to have the default value superimposed in accordance with the height of an observation target sample pattern, and to perform an astigmatism correction on the basis of the stigma value with the default value superimposed.例文帳に追加

上記目的を達成するための第２の態様では、標準サンプルにて最適なスティグマ値（非点補正信号）を取得し、その値をデフォルト設定値として記憶させ、観察対象サンプルのパターン高さに応じて、デフォルト値を重畳し、当該デフォルト値が重畳されたスティグマ値に基づいて、非点補正を行う。 - 特許庁

A function showing a transition of a change of a pattern dimension when the electron beam is irradiated on a sample is prepared in each the sample pattern, a dimension value of the pattern measured by scanning the electron beam on a specific pattern is applied to the function prepared for the specific pattern, and the dimension of the specific pattern before the change is calculated.例文帳に追加

この目的を達成するために、本発明によれば、試料パターンの種類ごとに、試料上に電子線を照射したときのパターン寸法の変化の推移を示す関数を用意し、特定パターンに前記電子線を走査して測定された前記パターンの寸法値を、当該特定パターンのために用意された前記関数に当てはめて、前記特定パターンの変化前の寸法を算出する。 - 特許庁