「"second exposure"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The first exposure region and the second exposure region partly overlap on each other in scanning exposure.例文帳に追加

第１の露光領域と前記第２の露光領域とは、走査露光の際に一部分が重複している。 - 特許庁

The first and second exposure regions overlap at least partially on the substrate.例文帳に追加

第１露光領域と第２露光領域の少なくとも一部とは基板上で重複する。 - 特許庁

Thereafter, second exposure is carried out with each structure of an illumination system, a lens system and a stage system fixed.例文帳に追加

次に、照明系，レンズ系，ステージ系の各機構を固定した状態で、第２回目の露光を行なう。 - 特許庁

To record still picture data corresponding to long-second exposure in a still picture timing desired by a user without disturbing a motion picture recording operation regarding long-second exposure shooting during simultaneous motion picture and still picture recording.例文帳に追加

動画、静止画同時記録の際の長秒露光撮影に関して、動画記録の動作を阻害することなく、ユーザの望む静止画タイミングで長秒露光に対応する静止画データの記録を可能とする。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order, and it is characterized in that the quantity of light in the second exposure is 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in this order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied on the substrate and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order and the quantity of light in the second exposure is 0.3 to 15 times the quantity of light in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、基板上に塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．３〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern- forming method, the positive photosensitive resin composition is applied and subjected successively to first exposure, development, second exposure and heating, with the quantity of light in the second exposure being 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, light intensity applied in the second exposure is 1-15 times of that of a first exposure in performing the processes of spreading, the first exposure, development, the second exposure, and heat treatment one by one for the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の１〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

Next, second imaging is performed, a second exposure (Sm) applied to the imaging device is detected, an equivalent delay time (Td) is calculated based on the first exposure and the second exposure, and stored in an EEPROM.例文帳に追加

次に、第２撮像を行い、撮像素子に与えられる第２露光量（Ｓｍ）を検出し、第１露光量と第２露光量とに基づいて等価遅延時間（Ｔｄ）を算出し、ＥＥＰＲＯＭに格納する。 - 特許庁

When an exposure time is shorter than readout of the reset noise signal, the first exposure controlling means and the second exposure controlling means are to be used, while the second exposure controlling means is to be used when the exposure time is longer than that.例文帳に追加

露光時間がリセットノイズ信号読み出しより短い場合は、第１の露光制御手段及び第２の露光制御手段を用い、露光時間がそれより長い場合は第２の露光制御手段を用いる。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

Exposure is next performed exclusively on the alignment-mark forming regions 22 using second exposure masks for forming the post electrodes for alignment.例文帳に追加

次に、アライメント用ポスト電極形成用の第２の露光マスクを用いて、アライメントマーク形成領域２２のみに対して露光を行なう。 - 特許庁

When the exposure amount of light is a greater second exposure amount than the first exposure amount, the opening 46 penetrates through the photoresist 43.例文帳に追加

光の露光量が第１露光量より大きい第２露光量である場合、開口部４６はフォトレジスト４３を貫通する。 - 特許庁

Alternatively, the first exposure unit 103 may be formed by irradiation of ion beam, and the second exposure unit 104 may be formed by irradiation of electron beam.例文帳に追加

なお、イオンビームの照射により第１露光部１０３を形成し、電子ビームの照射により第２露光部１０４を形成してもよい。 - 特許庁

In the backlight photographing mode, a first and a second exposure conditions are determined according to I_max and I_min.例文帳に追加

逆光撮影モードでは、Ｉ_ｍａｘ、Ｉ_ｍｉｎによって第１および第２の露出条件を決定する。 - 特許庁

Then the resist is subjected to second exposure to irradiate the unexposed resist near the side wall of the bottom of the recessed groove 10 with light through a photomask, and then developed.例文帳に追加

次いでフォトマスクを介して凹溝１０底部の側壁寄りの未露光レジストに光を照射する２度目の露光とその後の現像とを行う。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of also implementing photographing under first exposure control together during a photographing mode wherein characteristics of second exposure control are effectively utilized.例文帳に追加

第２の露光制御の特性を活かした撮影モード時において、第１の露光制御による撮影も併せて実施可能な撮像装置を提供する。 - 特許庁

The exposure period division section (110) divides an exposure period into a plurality of divisions when selecting a photographing mode for long time-second exposure by manual settings.例文帳に追加

露光期間分割部（１１０）はマニュアル設定による長秒時露光用の撮影モードを選択したとき、露光期間を複数分割する。 - 特許庁

A cleaning unit 12 provided in a second exposure section 4 removes dust on the upper face of the stage 8 and the surface of the mask 10.例文帳に追加

第２露光部４内に備えられたクリーニングユニット１２は、そのステージ８の上面及びマスク１０の表面を除塵する。 - 特許庁

Time required for photographing of long-period exposure can be the sum of the first exposure time (T1) and the second exposure time (Ta) by simple calculation.例文帳に追加

長時間露光の撮影に必要な時間を、単純計算で第１の露光時間（Ｔ１）と第２の露光時間（Ｔａ）との合計とすることができる。 - 特許庁

Then, in a step S4, second exposure treatment is performed by only deciding an ordinary pattern forming area as a substantial object to be exposed.例文帳に追加

次に、ステップＳ４において、通常パターン形成領域のみを実質的な露光対象とする第２の露光処理を実行する。 - 特許庁

Preferably, the second photosensitive layer is made of an infrared-light emitting material and has supplementary information formed by the second exposure means emitting infrared light.例文帳に追加

好ましくは、第２感光層は、赤外発光物質により形成され、赤外光を発する第２露光手段により、付帯情報が形成される。 - 特許庁

Each of first exposure and second exposure is performed by scanning exposure of an exposure head 16 emitting a plurality of light beams.例文帳に追加

第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。 - 特許庁

The second exposure of an area R4 partially overlapping the areas R2 and R3 is performed without deciding the edges.例文帳に追加

２回目に、これらの端縁を規定せずに領域Ｒ２，Ｒ３と部分的に重なる領域Ｒ４を、露光する。 - 特許庁

The first exposure and the second exposure are performed in parallel, by using a number of projection systems, thereby achieving multiple exposures which save time.例文帳に追加

多数の投影系を使用することにより、並行して行なわれるとともに、したがって時間が節約される多重露光が可能になる。 - 特許庁

An exposure change data calculation section 103 calculates second target data corresponding to the second exposure on the basis of the first target data.例文帳に追加

露出変化データ算出部１０３は第２の露出に対応した第２ターゲットデータを第１ターゲットデータに基づいて算出する。 - 特許庁

The unexposed resist near the side wall of the bottom of the recessed groove is hardened by the second exposure, which makes a loose inclination angle of the side wall of the recessed groove in the bottom side.例文帳に追加

２度目の露光によって凹溝底部の側壁寄りの未露光レジストが硬化し、凹溝側壁の傾斜角が凹溝底部側において緩やかになる。 - 特許庁

Calculated is a first noise amount corresponding to a first exposure time, and is a second noise amount corresponding to a second exposure time (S203).例文帳に追加

第１の露光時間に対応する第１のノイズ量、第２の露光時間に対応する第２のノイズ量を求める（Ｓ２０３）。 - 特許庁

The first and second exposure regions have a central region corresponding to the region different from the overlapping regions.例文帳に追加

第１および第２の露光領域は、重複する領域とは異なる領域に対応する中央領域を有する。 - 特許庁

In the second exposure, photographing sensitivity, a stop value and a shutter speed are determined so that exposure is reduced by two or more steps from the brightness of the background.例文帳に追加

第２露光では、背景の明るさに対して２段階以上の露光アンダとなるように撮影感度，絞り値，シャッタ速度を決定する。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a first conductivity type semiconductor substrate 10; and a first exposure part 26 and a second exposure part 26 exposed to the outside.例文帳に追加

半導体装置は、第１導電型の半導体基板１０と、外部に露出した第１露出部２６及び第２露出部２６とを具備する。 - 特許庁

To provide an imaging device that can know exposure state under exposure in a long second exposure.例文帳に追加

長秒露光における露光中の露光状態を知ることができる撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The first exposure is carried out, for example, using an amplitude mask (6), and the second exposure is carried out using a phase mask (9).例文帳に追加

前記第１の露光は、たとえば振幅マスク（６）を用いて、前記第２の露光は位相マスク（９）を用いて行なわれうる。 - 特許庁

A still picture in long-second exposure during motion picture recording is created by composing a plurality of pieces of motion picture recording data.例文帳に追加

動画記録時の長秒露光時における静止画を動画記録データを複数枚合成して作成する。 - 特許庁

Then, the control unit 9 makes the imaging element 5 output an image signal P3 accumulated in second exposure time.例文帳に追加

続いて、制御部９は撮像素子５に第２露光時間において蓄積された画像信号Ｐ３を出力させる。 - 特許庁

To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加

第１の露光マスクと第２の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁

In a second exposure process, the region exposed during the first exposure process is doubly exposed at the second division pattern portion 20.例文帳に追加

第二露光工程において、第一露光工程で露光された露光領域に第二分割パターン部２０が二重露光される。 - 特許庁

A second exposure condition different from a first exposure condition set when acquiring a first video signal is set to acquire a second video signal.例文帳に追加

第１の映像信号を取得した時の第１の露出条件とは異なる第２の露出条件を設定し、第２の映像信号を取得する。 - 特許庁

USING SECOND EXPOSURE TO ASSIST PSM EXPOSURE IN PRINTING TIGHT SPACE ADJACENT TO LARGE FEATURE例文帳に追加

大きいフィーチャに隣接する狭いスペースをプリントする際にＰＳＭ露光を支援するための第２の露光の使用 - 特許庁

For example, the first exposure is performed using an amplitude mask (6), and the second exposure is performed using a phase mask (9).例文帳に追加

前記第１の露光は、たとえば振幅マスク（６）を用いて、前記第２の露光は位相マスク（９）を用いて行なわれうる。 - 特許庁

Then, the control unit 9 makes the imaging element 5 output an image signal P1 accumulated in the second exposure time.例文帳に追加

続いて、制御部９は撮像素子５に第２露光時間において蓄積された画像信号Ｐ１を出力させる。 - 特許庁

Preferably, the second photosensitive layer is made of a photosetting material and has supplementary information formed by the second exposure means emitting ultraviolet light.例文帳に追加

好ましくは、第２感光層は、光硬化性物質により形成され、紫外光を発する第２露光手段により、付帯情報が形成される。 - 特許庁

In a second exposure process, the second divided pattern portion 20C is doubly exposed to an exposure region, which has been exposed in the first exposure process.例文帳に追加

第二露光工程において、第一露光工程で露光された露光領域に第二分割パターン部２０Ｃが二重露光される。 - 特許庁