「"w to"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

As the result, because the attitude of the object W to be conveyed is changed, the interference of the object W to be conveyed with the cam die 3f is avoided.例文帳に追加

その結果、搬送対象物Ｗの姿勢が変化するため搬送対象物Ｗとカム型３ｆとの干渉が回避される。 - 特許庁

This horizontal balancing machine 10 for testing a balancing condition of a body W to be tested when rotating the body W is provided with a support part 1 for supporting the body W to be tested, a driving means for rotating the body W to be tested, and the belt 3 for transmitting driving force of the driving means to the body W to be tested.例文帳に追加

被試験体Ｗを回転させたときの被試験体Ｗの釣合い状態を試験する横型釣合い試験機１０は、被試験体Ｗを支持する支持部１と、被試験体Ｗを回転させる駆動手段と、駆動手段の駆動力を被試験体Ｗに伝達するベルト３と、を備えている。 - 特許庁

A pump 2 for feeding water W to the mechanism 4 is provided.例文帳に追加

上記水噴霧機構４に水Ｗを供給するポンプ２を設ける。 - 特許庁

A liquid processing apparatus processes an under surface and a side surface of the body W to be processed.例文帳に追加

液処理装置は、被処理体Ｗの下面と側面を処理する。 - 特許庁

A drying gas G1 is supplied thereafter toward the substrate W to be processed in the drying chamber 10 to be brought into contact with the substrate W to be processed, thereby removing the cleaning solution DIW on the surface of the substrate W to be processed.例文帳に追加

その後、乾燥室１０内の被処理基板Ｗに向けて乾燥ガスＧ１を供給することにより、乾燥ガスＧ１を被処理基板Ｗに接触させ、被処理基板Ｗ表面の洗浄液ＤＩＷを除去する。 - 特許庁

The materials W to be treated are aerobically fermented by supplying air or heated air into the materials W to be treated by inserting the supply pipe 1 formed in a bar shape from the periphery of the laminated materials W to be treated.例文帳に追加

また積層された処理物Ｗの外周より、棒状に形成された上記の供給管１を差込み、上記処理物Ｗの内部にエア又は加熱エアを供給して処理物Ｗを好気性発酵させる方法とした。 - 特許庁

Gas is injected downward toward the upper surface of the substrate W, to be treated on the support section 20 and is sucked upward from an upper region of the substrate W to be treated, thus pressing the substrate W to be treated on the support section 20 toward the support section 20.例文帳に追加

支持部２０上にある被処理基板Ｗの上面に向かってガスを下方に噴射するとともにこの被処理基板Ｗの上方領域からガスを上方に吸引することによって支持部２０上にある被処理基板Ｗを当該支持部２０に向かって押圧する。 - 特許庁

Accordingly, when an object W to be measured is rotated and measured, the shape of the object W to be measured is analyzed, by using the diameter of the correction ball including the errors so that the shape of the object W to be measured can be analyzed with high accuracy.例文帳に追加

従って、被測定物Ｗを回転させながら測定した際に、これらの誤差を含んだ補正ボール径を用いて被測定物Ｗの形状等を解析することで、被測定物Ｗの形状等を高精度に解析することができる。 - 特許庁

In a method of oxidizing members W to be treated for oxidizing the surfaces of the members W to be treated set at a prescribed temperature in a treating container 8 put under a vacuum atmosphere, the surfaces of the members W to be treated are oxidized using hydroxyl group active species and oxygen species as the main body of a catalyst.例文帳に追加

真空雰囲気下になされた処理容器８内にて所定の温度になされた被処理体Ｗの表面を酸化する酸化方法において、水酸基活性種と酸素活性種とを主体として用いることにより酸化を行なう。 - 特許庁

Gas is injected downward toward the upper surface of the substrate W to be treated on the support section 20 and is sucked upward from an upper region of the substrate W to be treated, thus pressing the substrate W to be treated on the support section 20 toward the support section 20.例文帳に追加

支持部２０上にある被処理基板Ｗの上面に向かってガスを下方に噴射するとともにこの被処理基板Ｗの上方領域からガスを上方に吸引することによって支持部２０上にある被処理基板Ｗを当該支持部２０に向かって押圧する。 - 特許庁

Since adverse influence is exerted on the film deposition when recoil atoms from an electron beam heating source 22 reach the substrate W to be treated, a recoil atom control board 23 for preventing the arrival of the recoil atoms at the substrate W to be treated is provided; thus the charge potential of the substrate W to be treated is controlled.例文帳に追加

電子ビーム加熱源２２からの反跳電子が被処理基板Ｗに到達してしまうと膜形成に悪影響を及ぼすため、被処理基板Ｗに反跳電子が到達するのを防ぐための反跳電子制御板２３を設けて、被処理基板Ｗのチャージ電位を制御する。 - 特許庁

In this article sorting device 1, the weight of articles W to be measured is measured by a load sensor 21 while the articles W to be measured are conveyed by a conveying roller conveyor 2, and in accordance with measuring results, a pusher 8 is driven by a drive cylinder 12 during the conveyance to discharge the articles W to be measured to the sorting direction.例文帳に追加

物品選別装置１は、被計測品Ｗを搬送ローラコンベア２で搬送しながら重量を荷重センサ２１で計測し、計測結果に応じて搬送中に駆動シリンダ１２でプッシャ８を駆動して選別方向に排出する。 - 特許庁

In the case an obstacle such as a cam die 3f is installed on a press 3, the object W to be conveyed can not be conveyed because the object W to be conveyed is interfered with the cam die 3f when the object W to be conveyed is conveyed in the same attitude.例文帳に追加

カム型３ｆのような障害物がプレス機械３に設置されている場合には、搬送対象物Ｗの姿勢を同一にして搬送すると搬送対象物Ｗがカム型３ｆと干渉して搬送対象物Ｗを搬送することができない。 - 特許庁

At a circumference of the substrate W to be processed, an air flow AR1 which flows along an upper surface of the side straightening member 45 from a surface of the substrate W to be discharged through the fine gap K1 and an air flow AR2 which flows along the surface of the substrate W to be discharged through the fine gap K2 are generated.例文帳に追加

被処理基板Ｗの周囲には、基板Ｗの表面から側方整流部材４５の上面に沿って流れ、微小間隙Ｋ１を通って排気される気流ＡＲ１と、基板Ｗの表面に沿って流れ、微小間隙Ｋ２を通って排気される気流ＡＲ２とが形成される。 - 特許庁

The accessibility of the silicon wafer W to the chucking plate 11 can be evaluated from its result.例文帳に追加

その結果から、シリコンウェーハＷとチャック板１１との接触性を評価することができる。 - 特許庁

Subjects W to be carried are placed on the surfaces 16 and carried and moved by the progressive waves.例文帳に追加

そして、表面１６ａに載置された搬送対象Ｗはその進行波によって搬送移動される。 - 特許庁

Also, z is specified to 0≤z≤0.35, v to 0≤v≤1.0 and w to 0≤w≤0.35.例文帳に追加

また、ｚは０≦ｚ≦０．３５、ｖは０≦ｖ≦１．０、ｗは０≦ｗ≦０．３５とする。 - 特許庁

The inverter 5 outputs three-phase currents i_u, i_v, i_w to a salient pole motor 2.例文帳に追加

インバータ５は、３相電流ｉ_ｕ，ｉ_ｖ，ｉ_ｗを突極モータ２に出力する。 - 特許庁

Thereafter, the second patterning is conducted by transferring the wafer W to the patterning system.例文帳に追加

その後、ウェハＷをパターニングシステムに搬送して２回目のパターニングを行う。 - 特許庁

A wedge member 15 is inserted in each wedge space W to be moved up and down.例文帳に追加

各楔空間Ｗに楔部材１５を上下方向へ移動可能に挿入する。 - 特許庁

A light radiated from a light source is illuminated from above the substrate W to heat the substrate W.例文帳に追加

光源から出射された光は基板Ｗの上方より照射され、基板Ｗを加熱する。 - 特許庁

A semiconductor wafer W to be a processing object is held on a holder 7.例文帳に追加

処理対象となる半導体ウェハーＷは保持部７上に保持されている。 - 特許庁

A storage means 24 stores the dimensions of an article W to be carried out stored in a storing part 4.例文帳に追加

記憶手段２４は、収納部４に収納された搬出対象の物品Ｗの大きさを記憶する。 - 特許庁

The actuator 3 is provided in the central part of a wheel W to release air in the tire T.例文帳に追加

アクチュエータ３は、ホイールＷの中央部に設置されてタイヤＴ内の空気を放出させる。 - 特許庁

A displacement calculating means 12 calculates the displacement data of an object W to be measured from measured signals.例文帳に追加

変位演算手段１２は、測定信号から測定対象Ｗの変位データを演算処理する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes the substrate placing table 5 on which the substrate W to be processed is placed in a processing vessel.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、処理容器内で被処理基板Ｗを載置する基板載置台５を備える。 - 特許庁

The machine tool 1 and a loader for delivering the workpiece W to the machine tool 1 are provided.例文帳に追加

工作機械１と、この工作機械１にワークＷを渡すローダとを設ける。 - 特許庁

The DIW receiving heat then flows from the central part of the wafer W to its edge part.例文帳に追加

そして、熱を受けたＤＩＷがウエハＷの中央部から周縁部に向けて流れる。 - 特許庁

The rotary cam 50 has a supporting part 51a for supporting the plate workpiece W to be formed.例文帳に追加

回転カム５０は、成形対象となる板状素材Ｗを支持する支持部５１ａを有している。 - 特許庁

This invention is related to a control equipment 20 of a loader 5 which hands work W to a chuck 2 of external equipment 1.例文帳に追加

外部装置１のチャック２にワークＷを渡すローダ５の制御装置２０に適用する。 - 特許庁

The slide fork 29 can transfer the cargo W to the article storage shelf 13.例文帳に追加

スライドフォーク２９は、荷物Ｗを物品収納棚１３に移載可能である。 - 特許庁

A part from a point W to a free edge F is rotatable to a rear side with the point W as a fulcrum.例文帳に追加

Ｗ点を支点として、Ｗ点から自由端Ｆまでの部分は後方へ回動可能である。 - 特許庁

For each model of keyboard W to be screwed, the exclusive plate 18 is prepared.例文帳に追加

また、螺子止めの対象となるキーボードＷのモデル毎に、専用のプレート18を用意しておく。 - 特許庁

A temporary card is then set to a card R/W to read a card ID (S2).例文帳に追加

次に、仮カードをカードＲ／Ｗにセットして、カードＩＤを読み込む（Ｓ２）。 - 特許庁

A solvent S1 is fed to the center part of a wafer W to pre-wet the surface of the wafer W.例文帳に追加

先ずウェハＷの中心部に溶剤Ｓ１を供給し、ウェハＷの表面をプリウェットする。 - 特許庁

In the cleaning bath 2, a cleaning liquid is stored, and a substrate W to be cleaned is placed.例文帳に追加

洗浄槽２には、洗浄液が貯留されており、被処理物である基板Ｗが収容される。 - 特許庁

Additionally a pressure shoe 32 pressurizes the surface of the work W to apply a dynamic friction resistance force on it.例文帳に追加

さらに加圧シュー３２でワークＷの表面に加圧力を与え、動摩擦抵抗力を作用させる。 - 特許庁

A substrate W to be processed is immersed into cleaning liquid stored in a cleaning tub 12.例文帳に追加

被処理基板Ｗは、洗浄槽１２に貯留された洗浄液内に浸漬される。 - 特許庁

The main conveyer 11 immediately conveys the wafer W, to which heating processing is completed, to a cleaning device.例文帳に追加

主搬送装置１１は，加熱処理の終了したウェハＷを直ちにクーリング装置に搬送する。 - 特許庁

The base 19 includes a loading face 19a for loading the substrate W to be treated.例文帳に追加

ベース１９は、被処理基板Ｗを搭載するための搭載面１９ａを有する。 - 特許庁

A laser oscillator 10 outputs the laser beam for irradiating an object W to be machined with the same.例文帳に追加

レーザ発振器１０は加工対象物Ｗに照射するためのレーザ光を出力する。 - 特許庁

The substrate conveying mechanism 9 conveys the substrates W to each processing part of a process unit 2.例文帳に追加

基板搬送機構９は、プロセスユニット２の各処理部へ基板Ｗを搬送する。 - 特許庁

The transfer system 29 transfers a cargo W to and from a cargo storage rack 11.例文帳に追加

移載装置２９は、荷物Ｗを荷物収納棚１１との間で移載する。 - 特許庁

The plasma processing equipment is equipped with a processing container 1 which contains an object W to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、被処理体Ｗを収納する処理容器１を備えている。 - 特許庁

A substrate W to be treated is immersed into a cleaning liquid stored in a cleaning tub 12.例文帳に追加

被処理基板Ｗは、洗浄槽１２に貯留された洗浄液内に浸漬される。 - 特許庁