「アパチャー」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

アパチャーグリルおよびその製造方法例文帳に追加

APERTURE GRILL AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

アパチャーグリルおよびその製造方法例文帳に追加

APERTURE GRILLE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

振動板３１２の自由端側のターゲット部３１２ｃと対向するように、アパチャープレート３３０にアパチャー３３１が形成されている。例文帳に追加

An aperture 331 is formed in the aperture plate 330 so as to face a target part 312c on the free end side of the diaphragm 312. - 特許庁

ポスト４６Ａと４６Ｂではポストの径及びポスト内に構成される酸化アパチャー４８Ａ、４８Ｂの径が異なっており、ＳＯＳ用レーザを射出するポスト４６Ａ／酸化アパチャー４８Ａは径が大きく、露光用レーザを射出するポスト４６Ｂ／酸化アパチャー４８Ｂは径が小さい。例文帳に追加

Posts 46A and 46B are different in diameter, and diameters of oxidation apertures 48A and 48B constituted in the hosts are also different; and the post 46A and oxidation aperture 48A that emit laser light for SOS are larger in diameter and the post 46B and oxidation aperture 48B that emit laser beam for exposure are smaller in diameter. - 特許庁

導電性を有するアパチャー１０を、導電性を有するネジ３０、３０を介して筐体２１に固定し、光変調デバイスであるＤＭＤ１をアパチャー１０に当接させて配設し、ＤＭＤ１がアパチャー１０及びネジ３０、３０を介して筐体２１と電気的に接続できるようにする。例文帳に追加

The conductive aperture 10 is fixed to a housing 21 through conductive screws 30 and 30, and a DMD 1 as an optical modulation device is arranged in contact with the aperture 10, and the DMD 1 is electrically connected to the housing 21 through the screws 30 and 30. - 特許庁

この静電レンズ１８の回折面には、角度制限アパチャー２２が配置されている。例文帳に追加

The diffraction plane of the electrostatic lens 18 is provided with an angle-limiting aperture 22. - 特許庁

収束レンズ32により収束した電子ビーム28の開き角を設定するＮＡアパチャー33を設ける。例文帳に追加

An NA aperture 33 for setting up an aperture angle of the electron beam 28 converged by the converging lens 32 is arranged. - 特許庁

画面端部においても画像にハレーションが起こらないアパチャーグリルの製造。例文帳に追加

To manufacture an aperture grille not producing halation in an image even in an image end part. - 特許庁

単板形態のアパチャーマスク材の電解処理装置および電解処理方法例文帳に追加

DEVICE FOR ELECTROLYZING SINGLE PLATE-SHAPED APERTURE MASK MATERIAL AND ELECTROLYTIC METHOD - 特許庁

出力ミラー７とリアミラー５からなる光共振器を備えたガスレーザ発振器１において、前記出力ミラーと前記リアミラーとの間に口径の異なる複数のアパチャー穴を備えたアパチャーディスク１７を回転位置決め自在に設け、前記複数のアパチャー穴から所望する口径のアパチャー穴を自在に選択することを特徴とするガスレーザ発振器。例文帳に追加

In the gas laser oscillator 1 having an optical resonator formed of an output mirror 7 and a rear mirror 5, an aperture disk 17 having a plurality of aperture holes different in apertures is installed between the output mirror and the rear mirror so that it can freely be rotated and positioned, The aperture hole of the desired aperture can freely be selected from a plurality of the aperture holes. - 特許庁

この後段のレンズによって電子が後段のアパチャーに収束され、このアパチャーを通過した電子がそのエネルギーを分析する為の電子アナライザーに導入され、そのエネルギーが解析される。例文帳に追加

The rear-stage lens converges the electrons into a rear-stage aperture and the electrons passing through the aperture are introduced into an electron analyzer, for analyzing the energy to be analyzed. - 特許庁

この静電レンズの回折面には、角度制限アパチャーが配置され、電子レンズによって集光された電子がアパチャーの通過口を介してその運動エネルギーを制御する第２の静電レンズに入射される。例文帳に追加

A diffraction plane of the electrostatic lens is provided with an angle-limiting aperture through which electrons converged by the electrostatic lens are injected via an aperture passage port into a second electrostatic lens for controlling the kinetic energy. - 特許庁

回折面アパチャー２２を通過した電子は、中間レンズ電極部３０内に形成された中間レンズ２８によって中間アパチャー３２に収束され、レンズ電極部４０内の後段の静電レンズ３８に向けられる。例文帳に追加

Electrons, passing through the diffraction plane aperture 22, are converged into an intermediate aperture 32 by an intermediate lens 28, formed in an intermediate lens electrode portion 30 and directed to a rear-stage electrostatic lens 38 in a lens electrode portion 40. - 特許庁

そして、コリメータレンズ２１のレーザ光射出側レンズ面２１ａに沿うようにアパチャー部２２ｂを弾性変形させて、アパチャー部２２ｂをレーザ光射出側レンズ面２１ａに密着させる。例文帳に追加

Then, the aperture part 22b is deformed elastically along a laser beam emission side lens surface 21a of the collimator lens 21 and, thereby, the aperture part 22b is closely adhered to a laser beam emission side lens surface 21a. - 特許庁

回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法例文帳に追加

ANGLE RESOLVING ELECTRON SPECTROSCOPE OF DIFFRACTION PLANAR APERTURE TRANSMISSIVE ENERGY CONTROL TYPE, AND ANALYSIS METHOD USING THE SAME - 特許庁

電子源31あるいはＮＡアパチャー33などの消耗品を交換した場合でも、精度を維持することが可能になる。例文帳に追加

Even when the consumption articles such as the electron source 31 or the NA aperture 33 are exchanged, the accuracy of the electron gun unit can be maintained. - 特許庁

飛翔状態検出装置３００は、センサ基板３１０と、圧電／電歪素子３２０と、アパチャープレート３３０とを備えている。例文帳に追加

This flying state detector 300 is equipped with a sensor substrate 310, a piezoelectric/electrostrictive element 320, and an aperture plate 330. - 特許庁

ＮＡアパチャー33の凸部85を収束レンズ32の嵌合孔76に嵌め込んで収束レンズ32の中心軸に対して位置決めする。例文帳に追加

A projected section 85 of the NA aperture 33 is positioned by fitting into a fitting hole 76 of the converging lens 32 against the center axis of the converging lens 32. - 特許庁

後段の静電レンズ３８によって電子が減速されて後段アパチャー４２を介してエネルギー分析装置１４に入射される。例文帳に追加

The electrons are decelerated by a rear-stage electrostatic lens 38 and are injected via a rear-stage aperture 42 into an energy analyzer 14. - 特許庁

このアパチャー２２には、回折面の変化を低減するための運動エネルギー調節用の電位が印加されている。例文帳に追加

A potential for controlling kinetic energy to reduce the change of the diffraction plane is applied to the aperture 22. - 特許庁

画面端部においても画像にハレーションが起こらないアパチャーグリルおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aperture grille with no generation of halation in an image even at the end of a screen. - 特許庁

画面全域にわたって電子ビーム透過率が極めて狭い範囲に収まった高精細なアパチャーグリルとその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a high precision aperture grill in which an electron beam transmission ratio is within an extremely narrow range throughout the whole screen zone and also its manufacturing method. - 特許庁

ＮＡアパチャー38の開口部39の位置を真空容器11の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構43を有する。例文帳に追加

The X-ray source has a position adjusting mechanism 43 capable of adjusting the position of the opening portion 39 of the NA aperture 38 in a radial direction through an operation from the outside of the vacuum container 11. - 特許庁

焦点サイズを維持しつつ真空容器を開放することなくＮＡアパチャーの開口部の位置を調整できるＸ線管を提供する。例文帳に追加

To provide an X-ray tube in which an opening portion of an NA aperture can be adjusted while keeping a focus size without opening a vacuum container. - 特許庁

この静電レンズの回折面には、角度制限アパチャーが配置され、電子レンズによって集光された電子がアパチャーの通過口を介して電子のエネルギーを分析する為の電子アナライザーに導入され、そのエネルギーが解析される。例文帳に追加

The diffraction plane of the static lens is provided with an angle-limiting aperture, which electrons converged by the electron lens are introduced via an aperture passage port to an electron analyzer for analyzing electron energy to be analyzed. - 特許庁

コリメータレンズ２１を保持する鏡筒部２２ｂの一端にレーザ光を整形するアパチャー部２２ｂを一体形成してレンズホルダ２２を構成し、アパチャー部２２ｂの肉厚を容易に弾性変形することができる程度に薄く形成する。例文帳に追加

In the optical scanner, a lens holder 22 is configured by integrally forming the aperture part 22b of aligning laser beams on one end of a lens-barrel part 22b of holding a collimator lens 21, and the thickness of the aperture part 22b is formed thin to such an extent that can be easily deformed elastically. - 特許庁

また、ローラ式搬送機構１２０は、搬送方向Ｆに対して直行し、かつアパチャーマスク材Ｗの表面に平行な回転軸１２１ａを中心に回転するローラ１２１を含み、チェーン式式搬送機構１３０は、アパチャーマスク材Ｗの表面に沿って搬送方向Ｆに移動するチェーン１３１を含んでいる。例文帳に追加

Besides, the roller conveying mechanism 120 includes rollers 121 rotating around rotary shafts 121a perpendicular to the conveying direction F and parallel to the surface of the mask material W, and the chain conveying mechanism 130 includes a chain 131 moved in the conveying direction F along the surface of the mask material W. - 特許庁

回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器では、試料表面１０から放出される電子が取り込み口１６を介して静電型前段の電子レンズ１８に入射される。例文帳に追加

The angle resolving electron spectroscope of the diffraction plane aperture transmission energy control type allows electrons emitted from the surface of a sample 10 to be injected into a front-stage electrostatic lens 18 via an introducing port 16. - 特許庁

異なるエネルギーに対して回折面の位置変化の小さいレンズを有する角度分解型電子分光測定を実現可能な回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器を提供するにある。例文帳に追加

To provide an angle resolving electron spectroscope of a diffraction planar aperture transmissive energy control type, having a lens with a diffraction plane which has a small positional change with different energies for achieving angular resolution electron spectral measurement. - 特許庁

ハレーション防止のためにスリット部となるテープ状めっき被膜にエッチングを施すという操作を必要としないアパチャーグリルの製造方法の提供を目的とするものである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an aperture grille not needing an operation of etching a tape-like plating film serving as a slit part for halation prevention. - 特許庁

単板形態のアパチャーマスクに対しても、作業工数を要することなく電解処理による良好な洗浄が可能な電解処理装置および電解処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide the electrolytic device and electrolytic method by which even a single plate-shaped aperture mask is excellently cleaned by electrolysis with less man-hour for working. - 特許庁

電鋳法でアパチャーグリルを製造するに際し、電鋳物や金属基体を損傷させることなく電鋳層を金属基体より剥離する方法の提供を課題とする。例文帳に追加

To provide an aperture grill manufacturing method by an electroforming method in which an electroforming layer is peeled off from a metal base body without damaging an electroformed article and the metal base body. - 特許庁

洗浄処理部１００においてアパチャーマスク材Ｗから洗浄処理液中に溶出した金属イオンは、電解処理部３００において陰極３２１ａ，３２２ａに析出し、洗浄処理液から除去される。例文帳に追加

Eluted metal ions from an aperture mask material W into the cleaning liquid in the cleaning part 100, deposit on cathodes 321a and 322a in the electrolyzing part 300, and are removed from the cleaning liquid. - 特許庁

レンズ筒４９の上端には、レンズユニット５０を通過したスリット光のみを通過させる長方形のアパチャー４２８が形成された第１レンズボード４００が取り付けられている。例文帳に追加

A 1st lens board 400 where a rectangular aperture 428 through which only slit light passing through the lens unit 50 is passed, is formed, is attached to the upper end of the lens barrel 49. - 特許庁

本発明は、黒化処理によってもテープに印加される張力の著しい低下を招かないダブルテープ式アパチャーグリルの提供を課題とする。例文帳に追加

To provide a double tape type aperture grille that does not bring about a drastic lowering of tension applied on the tape even by blackening treatment. - 特許庁

通過させるべき平行光束をアパチャーによって遮断してしまうことがなく、安定して所望のビームスポット径を得ることができる光走査装置を低コストで提供する。例文帳に追加

To provide an optical scanner which does not intercept parallel luminous flux to be passed with an aperture and can stably obtain a desired beam spot diameter at a low cost. - 特許庁

開口部39を備え、収束レンズ18により収束した電子ビーム44の開き角を設定して透過ターゲット37に入射させるＮＡアパチャー38を真空容器11に対して可動的に配置する。例文帳に追加

An aperture 38, which has an opening portion 39, sets an open angle of the electron beam 44 converged by the convergent lens 18, and allows the electron beam 44 to be incident to the transmission target 37, is disposed so as to be movable with respect to the vacuum container 11. - 特許庁

アパチャー３３１を通過してターゲット部３１２ｃに微小物体が衝突すると、振動板３１２が振動し、この振動の状態に応じた起電力が圧電／電歪素子３２０に発生する。例文帳に追加

When small objects pass through the aperture 331 and collides with the target part 312c, the diaphragm 312 vibrates to cause an electromotive force corresponding to the state of vibration to be generated on the element 320. - 特許庁

ｚ方向の検出感度が高く、かつ照明アパチャーの交換が不要なフォーカスモニタ方法およびフォーカスモニタ用装置ならびに半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for focus monitor which have a high detection sensitivity in the z direction and don't require replacement of an illumination aperture and to provide a manufacturing method of a semiconductor device. - 特許庁

光学窓からチャンバー内に光を導入して成膜を行う成膜装置において、光学窓への膜物質の付着を低減することができるようにし、アパチャーの開口部を広くでき、光軸を合わせ易くする。例文帳に追加

To widen the opening of an aperture and facilitate the alignment of an optical axis by reducing the deposition of a film material onto an optical window, in a film-forming apparatus for forming a film while introducing light from the optical window into a chamber. - 特許庁

めっき厚さを薄くした場合でもテープ部の変形や断線等が生じないダブル構造の高精密、高精細用アパチャーグリルの提供。例文帳に追加

To provide an aperture grille of double structure for high precision and high minuteness, prevented from causing the deformation, disconnection or the like of a tape part even if plating thickness is made thin. - 特許庁

高精細で、かつ蛍光面の発色に悪影響をおよぼす可能性がある銅が表面に露出することのないアパチャーグリルとその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a high precision aperture grill to which surface the copper prone to giving a bad effect on color generation at an fluorescent surface is not exposed externally and its manufacturing method. - 特許庁

高精細で、かつ画質に直接影響をおよぼす電子ビーム透過率が面内において均一なアパチャーグリルが得られる電気めっき法の提供。例文帳に追加

To provide an electroplating method making it possible to obtain an aperture grill which has high fineness and is uniform in electronic beam transmittance to directly affect image quality within the plane. - 特許庁

本発明は、黒化処理を行ってもテープ部が破断に至ることのない十分な耐熱強度を有しする、めっき法で作成したアパチャーグリルの提供を課題とする。例文帳に追加

To provide an aperture grille that is formed by an electric plating method and has a sufficient thermal resistance strength such that the tape part may not be broken even by blackening treatment. - 特許庁

酸化アパチャー４８の径が小さい（＝４８Ｂ）と射出されるレーザはシングルモードとすることができるので微少な光スポットに集光可能であり、精細な画像露光が可能となるが、レーザの光量が小さくなる。例文帳に追加

When an oxidation aperture 48 is smaller in diameter (=48B), the emitted laser beam is in single mode and then converged in a very small light spot, and fine image exposure becomes available, but the quantity of the laser beam becomes small. - 特許庁