「フッ化スズ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

複極板としてカーボン製複極板又はアルミニウム製複極板を用い、無機の導電性金属水溶液としてフッ化スズ酸アンモニウム水溶液、フッ化チタン酸アンモニウム水溶液、フッ化スズ水溶液の何れか一つ又はこれ等の一つとホウ酸水溶液との混合液を用いる。例文帳に追加

As the bipolar plate, a carbon bipolar plate or an aluminum bipolar plate is used, and as the inorganic conductive metal aqueous solution, either one of ammonium fluorostannate aqueous solution, ammonium fluorotitanate aqueous solution, and stannous fluoride aqueous solution or a mixed liquid of any one of these and boric acid aqueous solution is used. - 特許庁

ＦＴＯ膜２以外にアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化スズ（ＴＯ）、フッ素ドープ酸化亜鉛（ＦＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛（ＺＯ）などからなる透明導電膜を用いてもよい。例文帳に追加

Besides the FTO film 2, a transparent conductive film composed of antimony-doped tin oxide (ATO), tin oxide (TO), fluorine-doped zinc oxide (FZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), zinc oxide (ZO) or the like may also be used. - 特許庁

ガラス基板１の表面に酸化スズ膜２が形成され、該酸化スズ膜２の表面に酸化ケイ素膜３を形成し、該酸化ケイ素膜３の表面にはフッ素が添加された酸化スズ膜４、すなわち低放射層が形成されている。例文帳に追加

In this glass, a tin oxide film 2 is formed on a surface of a glass substrate 1, a silicon oxide film 3 is formed on the surface of the tin oxide film 2, and a fluorine-added tin oxide film 4, i.e., a low-radiation layer, is formed on the surface of the silicon oxide film 3. - 特許庁

トンネル炉等の気密性の低い簡易な設備を用いて行うことができる低抵抗化フッ素ドープ酸化スズ膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a low resistance fluorine doped tin oxide film which can be practiced using simple equipment with low airtightness such as a tunnel kiln etc. - 特許庁

好ましいルイス酸の具体例としては、塩化亜鉛、臭化亜鉛、酢酸亜鉛等の亜鉛化合物、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム等のアルミニウム化合物、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素等のホウ素化合物、４塩化チタン等のチタン化合物、塩化ジルコニウム等のジルコニウム化合物、４塩化スズ、三塩化スズ等のスズ化合物が挙げられる。例文帳に追加

The concrete example of a preferable Lewis acid is a zinc compound such as zinc chloride, zinc bromide, zinc acetate, an aluminum compound such as aluminum chloride, aluminum bromide, diethylaluminum chloride, a boron compound such as boron trifluoride, boron trichloride, a titanium compound such as titanium tetrachloride, a zirconium compound such as zirconium chloride, and a tin compound such as tin tetrachloride, tin trichloride. - 特許庁

導電性に優れ、高い結晶性を有するフッ素ドープ酸化スズ粒子およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide fluorine-doped tin oxide particles having excellent electroconductivity and high crystallinity and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁

導電性が高く、また導電性の経時安定性が高いフッ素ドープ酸化スズ粒子を提供すること。例文帳に追加

To provide fluorine-doped tin oxide particles having high electrical conductivity and high temporal stability of the electrical conductivity. - 特許庁

この前駆体組成物を製造するには、スズ塩化物又はフッ化物とチタン塩化物又はアルコキシドとをアンモニア水あるいは水酸化カリウム溶液の溶媒中で混合し、反応させた後乾燥・焼成する。例文帳に追加

The production method for the composition includes mixing the chloride or fluoride of tin and the chloride or alkoxide of titanium in a solvent of aqueous ammonia or potassium hydroxide solution, reacting, drying and then burning. - 特許庁

１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンをアンチモン、タンタル、ニオブ、モリブデン、スズ、チタンのハロゲン化物から選ばれた高原子価金属ハロゲン化物を担持した活性炭からなる触媒の存在する反応領域においてフッ化水素で気相フッ素化する。例文帳に追加

This method for producing 1,1,1,3,3-pentafluoropropane comprises fluorinating 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene with hydrogen fluoride in a reaction zone containing a catalyst comprising activated carbon carrying the halogenation product of a high atomic valency metal selected from the halogenation products of antimony, tantalum, niobium, molybdenum, tin and titanium in a gaseous phase. - 特許庁

水素または低分子量有機化合物蒸気を含有する大気中で加熱処理を行うことで抵抗増加を防止し、かつ、簡易な設備で水素または低分子量有機化合物蒸気処理を行うことのできるフッ素ドープ酸化スズ膜およびフッ素ドープ酸化スズ膜を用いた太陽電池の製造方法を提供する。例文帳に追加

This manufacturing method of a fluorine doped tin oxide film and a solar cell using the fluorine doped tin oxide film can prevent resistance increase by carrying out heating treatment in an atmosphere containing hydrogen or low molecular weight organic compound vapor, and can carry out hydrogen or low molecular weight organic compound vapor treatment by the simple equipment. - 特許庁

アルカリ含有ガラス基板１の表面に、酸化スズを主成分とする下地膜２と絶縁膜３とをこの順に形成したガラス基板であって、酸化スズを主成分とする下地膜２の塩素及びフッ素の含有量が合計で５０ｐｐｍ以下であるディスプレイ用ガラス基板。例文帳に追加

The glass substrate forms an underlayer film 2 based on tin oxide and an insulation film 3 in a given order on the surface of alkali- containing glass substrate 1, and the sum of contents of chlorine and fluorine in the underlayer film 2 based on tin oxide is 50 ppm or less. - 特許庁

０．０５〜２ｍｍの厚みを有するガラス基板上にフッ素ドープ酸化スズまたはアンチモンドープ酸化スズからなる導電膜が成膜されてなる太陽電池用導電膜付ガラス基板であって、ガラス基板の歪点が５２５℃以上であることを特徴とする太陽電池用導電膜付ガラス基板。例文帳に追加

The glass substrate with the conductive film for the solar cell is configured by depositing the conductive film composed of a fluorine-doped tin oxide or an antimony-doped tin oxide on the glass substrate having a thickness of 0.05 to 2 mm, wherein a strain point of the glass substrate is 525°C or higher. - 特許庁

加熱室１０の開閉手段１７に設けた小孔を有する金属板（透視窓）１８には、インジュームとスズとの酸化物膜２０とフッ素ドープ酸化スズ膜２１を積層して製膜したガラス板１９を配設したものである。例文帳に追加

A metallic plate (see-through window) 18 mounted on an opening/closing means 17 of a heating chamber 10 and having a small hole is provided with the glass plate 19 manufactured by stacking an oxide film 20 of indium and tin, and a fluorine-doped tin oxide film 21. - 特許庁

フッ化物イオン及びホウフッ化物イオンからなる群から選ばれた少なくとも一種の陰イオンと、２価のスズイオンを含有し、更に、必要に応じて還元性物質を含有する酸性水溶液からなる還元析出皮膜形成用センシタイザー溶液。例文帳に追加

The sensitizer solution for depositing reduction-precipitation film consisting of acid aqueous solution containing at least one kind of anions selected from the group consisting of fluoride ions and borofluoride ions and bivalent tin ions, and further containing reducing substances as necessary. - 特許庁

不純物を含まず、着色の少ないビス（ペンタフルオロフェニル）ジアルキルスズ等のフッ化アリール金属化合物を簡単にかつ安価に製造・精製することができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a fluorinated aryl metal compound, with which an impurity-free fluorinated aryl metal compound such as bis(pentafluorophenyl)dialkyltin, etc., having a slight discoloration, can be simply and inexpensively produced and purified. - 特許庁

フッ素化プロセスにおいて有用な担持された金属触媒であって、前記金属がアンチモンＶ、チタンＩＶ、スズＩＶ、ニオブＶ及びタンタルＶからなる群のうち１種以上から選択されたものであり、支持体はフッ素化処理された水分のない活性炭であり、前記触媒は使用前にフッ化水素を用いて活性化するもの。例文帳に追加

This deposited metal catalyst that is carried and useful for fluorination process is composed of one or more metal components selected from the group consisting of antimony(V), titanium(IV), tin(IV), niobium(V) and tantalum(V) and a support body is activated carbon that is treated by fluorination treatment and free of water and the catalyst is activated using hydrofluoric acid before use. - 特許庁

電極２ａおよび電極４として、それぞれ、基板１および５の上にＦＴＯ（フッ素がドープされた酸化スズ）などの透明導電層をスパッタリング法などによって形成する。例文帳に追加

The electrode 2a and the electrode 4 are formed by a sputtering method of sputtering a transparent conductive layer such as FTO (tin oxide doped with fluorine) respectively on substrates 1 and 5. - 特許庁

本発明のフッ素ドープ酸化スズ粒子は、ラマンスペクトル測定において、少なくとも１２３±５ｃｍ^-1、１３９±５ｃｍ^-1及び１７０±５ｃｍ^-1にピークを示す構造を有することを特徴とする。例文帳に追加

The fluorine-doped tin oxide particles have a structure showing peaks at least at 123±5 cm^-1, 139±5 cm^-1 and 170±5 cm^-1 in Raman spectrum measurement. - 特許庁

キャリア電子の移動度が高く、光電変換素子の入射光側電極として好適に用いられるフッ素ドープ酸化スズ膜の形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for forming a fluorine-doped tin oxide film that has high carrier mobility and is suitably used as an electrode on a light incidence side of a photoelectric conversion element. - 特許庁

周期表IIIa族、 IVa族、 IVb族、Va族、Vb族、及び VIb族元素の金属の誘導体から選ばれる触媒、特に五塩化アンチモン及び四塩化スズの存在下、温度50℃〜150℃で、圧力２〜40barでフッ化水素により一般式Ｃ_4Ｈ_5Ｃｌ_XＦ_5-X（式中、ｘ＝１〜５）のクロロ（フルオロ）ブタンをヒドロフルオロ化する。例文帳に追加

The process hydrofluorinates chloro(fluoro)butane of the general formula: C_4H_5Cl_xF_5-x (wherein, x=1 to 5) with hydrogen fluoride in the presence of a catalyst chosen from the derivatives of IIIa, IVa, IVb, Va, Vb and VIb metals, especially antimony pentachloride or tin tetrachloride, at 50-150°C and under 2-40 bar. - 特許庁

電極２および電極４は、基板上に形成されたＦＴＯ（フッ素がドープされた酸化スズ）などの透明導電層からなる電極２ａおよび４で構成し、一方（電極２ａ）の上にのみ、酸化チタンなどのポーラス電極２ｂを形成する。例文帳に追加

The electrodes 2 and 4 are formed by electrodes 2a and 4 which comprise a transparent conductive layer such as FTO (tin oxide where fluorine is doped) formed on a substrate, and a porous electrode 2b such as titanium oxide is formed on only one electrode (the electrode 2a). - 特許庁

本発明に係る熱線反射ガラスは、ガラス部材からなる被処理体の一方又は両方の面に、波長２０００ｎｍの近赤外線に対して３０％以上の反射率を有するフッ素添加酸化スズ膜（ＦＴＯ膜）からなる透明導電体を配したことを特徴とする。例文帳に追加

The heat ray reflection glass comprising a fluorine-containing tin oxide film (FTO film) having ≥30% reflectance to 2,000 nm near infrared ray is arranged on one or both surfaces of a material to be treated which comprises a glass member. - 特許庁

本発明に係る透明導電性基板１０は、透明部材からなる被処理体１１の一方の面１１ａに、比抵抗が４．０×１０^−４Ωｃｍ以下であるフッ素添加酸化スズ膜からなる透明導電体１２を配したことを特徴とする。例文帳に追加

The transparent conductive substrate 10 has a transparent conductor 12 consisting of a fluorine added tin oxide film with a specific resistance of 4.0×10^-4 Ωcm or less is arranged on one face 11a of a treating body 11 made of a transparent member. - 特許庁

色素増感型光電変換装置１０を、ガラスなどの透明基板１、ＦＴＯ（フッ素がドープされた酸化スズ(IV)）などの透明導電層２、光増感色素を保持した半導体電極層（負極）３、電解質層４、対向電極（正極）５、対向基板６などで構成する。例文帳に追加

The dye sensitized photoelectric converter 10 is constructed including a transparent substrate 1 of a glass or the like, a transparent conductive layer 2 of a FTO (fluorine doped tin oxide (IV)) or the like, a semiconductor electrode layer (negative electrode) 3 holding a photosensitized dye, an electrolyte layer 4, a counter electrode (positive electrode) 5, and a counter electrode substrate 6 or the like. - 特許庁

塩基で処理したイソシアナートを用い、触媒としてフッ化カリウムとともに（１）ポリエチレンオキサイド化合物、（２）第４級アンモニウム塩、（３）ホスホニウム化合物より選ばれた化合物の１種または２種以上の組み合わせを使用し、さらに助触媒としてジアルキルスズ化合物を使用する、イソシアヌレート環含有ポリイソシアナートの製造方法。例文帳に追加

This method for producing the isocyanurate ring-containing polyisocyanate, characterized by using an isocyanate treated with a base, using potassium fluoride and a mixture of one or more compounds selected from (1) a polyethylene oxide compound, (2) a quaternary ammonium salt, and (3) a phosphohium compound as a catalyst, and using dialklytin compound as an auxiliary catalyst. - 特許庁

フッ素をドープした酸化スズをコーティングした導電性ガラスを２０mm×２０mmの大きさに切断加工したもの（導電性支持体）の導電面側に二酸化チタン分散液をエクストルージョン型コータにより塗布した後、赤外線乾燥装置で４５０℃まで膜面を加熱し、乾燥膜厚１０μm の二酸化チタン層（半導体微粒子層）を形成した。例文帳に追加

A conductive surface side of a conductive support 11 of the conductive glass is coated with titanium dioxide dispersed solution by an extrusion coater, and dried so as to form a semi-conductor particulate layer 12 of a titanium dioxide layer. - 特許庁

水酸基含有フッ素含有樹脂、ポリイソシアネート化合物、および、シリケート化合物を含んだ樹脂組成物を含有する耐汚染性塗料組成物であって、さらに、アセテート系有機スズ触媒を、上記樹脂組成物固形分に対して３０〜３００ｐｐｍ含んでいることを特徴とする耐汚染性塗料組成物。例文帳に追加

This antifouling coating composition containing a resin composition comprising a hydroxy-containing fluorine-containing resin, a polyisocyanate compound and a silicate compound is characterized in that the antifouling coating composition contains 30-300 ppm acetate-based organotin catalyst based on the solid components of the resin composition besides the components. - 特許庁

ガラス基材及び少なくとも２つの層を有するドープされた酸化スズコーティングを含み、一つの層は、アンチモン、タングステン、バナジウム、鉄、クロム、モリブデン、ニオブ、コバルト、ニッケル又はこれらの混合物であるドーパントを含有するＳｎＯ_２を含むソーラー吸収層であり、別の層は、フッ素又はリンの群より選ぶドーパントを含有するＳｎＯ_２を含む低輻射率層であるソーラーコントールガラス。例文帳に追加

The solar control glass includes a glass substrate and a doped tin oxide coating containing at least two layers with one layer being a solar absorbing layer comprising SnO2 containing a dopant selected from among antimony, tungsten, vanadium, iron, chromium, molybdenum, niobium, cobalt, nickel, and mixture thereof, and another layer being a low emissivity layer containing SnO2 containing a dopant selected from the group comprising fluorine or phosphorus. - 特許庁