「プラズマ重合体」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

重合体からなる基粒子を無機ガス雰囲気中で低温プラズマを処理を行う。例文帳に追加

Base particles composed of a polymer are subjected to a low- temperature plasma treatment in an inorganic gas atmosphere. - 特許庁

この保護層は、プラズマ重合法によりナフタレンを重合して得られる絶縁性のナフタレン重合体薄膜である。例文帳に追加

The protecting layer is an insulating naphthalene polymeric thin film which is obtained by polymerizing naphthalene by plasma polymerization. - 特許庁

半導体基板上に，低い比誘電率，高い耐熱性，耐吸湿性及び高い酸素プラズマ抵抗を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。例文帳に追加

A method for forming a silicone polymer insulation film having a low dielectric constant, a high heat resistance, a high humidity resistance and a high oxygen plasma resistance on a semiconductor substrate 4 is applied to a plasma CVD apparatus. - 特許庁

本発明は更に下方処理ゾーンから排気し、重合体エッチング前駆体ガスから外部チャンバ内でプラズマを発生させ、プラズマからの副生成物を下方処理ゾーンへと導入することを含む。例文帳に追加

The method further includes evacuating the lower process zone, generating a plasma in an external chamber from a polymer etch precursor gas, and introducing a by-product from the plasma into the lower process zone. - 特許庁

容量結合型プラズマＣＶＤ装置により半導体基板上１に炭化水素系重合体膜を形成する方法が与えられる。例文帳に追加

Disclosed is a method for forming a hydrocarbon-containing polymer film on a semiconductor substrate 1 by a capacitively-coupled plasma CVD apparatus. - 特許庁

パターン側壁に堆積したプラズマ重合膜の剥離性に優れた半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a semiconductor device whereby a plasma polymer-film deposited on the side wall of a pattern of the semiconductor device can be peeled therefrom excellently. - 特許庁

光重合型の感光性蛍光体ペ—スト組成物及びこれを用いたプラズマディスプレ—パネルの蛍光膜形成方法例文帳に追加

PHOTOPOLYMERIZABLE PHOTOSENSITIVE PHOSPHOR PASTE COMPOSITION AND FORMING METHOD OF PHOSPHOR FILM FOR PLASMA DISPLAY PANEL USING THAT - 特許庁

大気圧プラズマ発生電極間において発生させたプラズマを、電極外に配置した織編物又は不織布の片面に照射して活性種を生成させ、次いで該活性種に重合性単量体をグラフト重合させる織編物又は不織布の片面改質方法。例文帳に追加

This method comprises generating plasma between atmospheric plasma generating electrodes, generating active species by irradiating the plasma to one side of the textile or the nonwoven fabric set outside the electrodes and graft-polymerizing a polymerizable monomer with the active species. - 特許庁

被覆層２は、有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより容器１の内表面上に形成された有機珪素化合物のプラズマ重合体を含む珪素含有被膜であり、５０〜７００オングストロームの厚さを備え珪素と酸素との原子比が１／１．５〜１／２．３である。例文帳に追加

The coating layer 2 is a silicon-containing film including a plasma polymer of an organosilicon compound formed on the inner surface of the container 1 by a plasma CVD from a starting raw material containing the organosilicon compound, and has a thickness of 50-700 Å and an atomic ratio of silicon to oxygen of 1/1.5-1/2.3. - 特許庁

フラーレン分子を蒸着した後、この蒸着膜４Ａに、ＲＦプラズマ等の電磁波１０を照射することによって、前記フラーレン分子を重合体化してフラーレン重合体膜４を生成する。例文帳に追加

After fullerene molecules are vapor deposited, the deposited film 4A is irradiated with electromagnetic waves 10 such as RF (radio frequency) plasma in order to polymerize the above fullerene molecules to form a fullerene polymer film 4. - 特許庁

また混合ガスをプラズマ処理することによって重合体を生成するので、当該重合体を回収するだけでＰＦＣの処理を済ませることができる。例文帳に追加

Since a polymer is produced by the plasma treatment of mixed gas, the treatment of PFC can be completed only by recovering the polymer. - 特許庁

異なるエッチング及び重合体堆積速度の重合エッチングガスを異なる半径方向ガス噴射区域において時間変調で用いるプラズマエッチング処理例文帳に追加

PLASMA ETCHING TREATMENT THAT USES POLYMER ETCHING GASES OF DIFFERENT ETCHING AND POLYMERIZATION DEPOSITION RATES IN DIFFERENT RADIAL GAS INJECTION ZONES BY APPLYING TIME MODULATION - 特許庁

コロナ放電による不活性ガスのプラズマ雰囲気かつ大気圧下で、フッ素樹脂基体上でアクリル系モノマーの蒸気プラズマにより気相重合を起こし、前記フッ素樹脂基体の表面とグラフト重合したアクリル系樹脂層を得ることを特徴とする表面被覆フッ素樹脂基体の製造方法により上記課題を解決する。例文帳に追加

A method of producing the surface-coated fluororesin substrate comprises effecting the gas phase polymerization on a fluororesin substrate by a vapor plasma of an acrylic type monomer under atmospheric pressure in a plasma atmosphere of an inert gas by corona discharge, to thereby form an acrylic resin layer being graft-polymerized with the surface of the above fluororesin substrate. - 特許庁

この微粒子は、前記コア微粒子が重合体からなり、前記被覆層が、前記コア微粒子の非重合性無機ガス雰囲気中での低温プラズマ処理によって活性化された前記コア微粒子の表面とビニルモノマーとの重合によるグラフト重合層から形成されている。例文帳に追加

The core particle comprises a polymer, and the covering layer comprises the layer of a graft polymer which is formed by allowing vinyl monomers to polymerize with an activated surface of the core particle, wherein the activated surface is formed by subjecting the core particle to low-temperature plasma treatment in an atmosphere of non- polymerizing inorganic gas. - 特許庁

絶縁膜は、ソースガスを与えるようシリコン含有炭化水素化合物を気化し、ソースガス並びに不活性ガス及び酸化ガスのような添加ガスから成る反応ガスをプラズマCVD装置の反応空間へ導入し、−５０℃〜１００℃の温度でプラズマ重合反応によりシロキサン重合体膜を蒸着することによって、半導体基板上に形成される。例文帳に追加

The insulation film is formed on a semiconductor substrate by vaporizing a silicon-containing hydrocarbon compound to provide a source gas, introducing a reaction gas composed of the source gas and an additive gas such as an inert gas and oxidizing gas to a reaction space of a plasma CVD apparatus, and depositing a siloxan polymer film by plasma polymerization at a temperature of -50-100°C. - 特許庁

単量体源から少なくとも１種のプラズマ単量体を前記表面に付着させるが、前記単量体を付着させている間、前記単量体および／または前記表面を互いと相対的に動かすことで不均一プラズマ重合表面を生じさせ、そして前記プラズマ重合表面の少なくとも一部に結合体を導入することで前記結合体が不均一表面を形成するようにすることを含んで成る。例文帳に追加

This method includes depositing on the surface at least one plasma monomer from a monomer source, wherein during the deposition of the monomer, the monomer and/or the surface are moved relative to each other to provide a non-uniform plasma polymerized surface, and introducing a binding entity to at least part of the plasma polymerized surface to provide a non-uniform surface formed from the binding entity. - 特許庁

この半導体装置の製造方法は、下地膜１０１に、環状シロキサンをプラズマ重合させて第一の絶縁膜１０２を形成する工程と、第一の絶縁膜１０２を形成する工程の後、連続的に、第一の絶縁膜１０２上に、環状シロキサンをプラズマ重合させて第二の絶縁膜１０３を形成する工程と、を含む。例文帳に追加

The manufacturing method of the semiconductor device includes a step of forming a first insulating film 102 by plasma polymerizing cyclic siloxane to a basic film 101; and for forming a second insulating film 103 by plasma polymerizing the cyclic siloxane to the first insulating film 102, continuously after the step of forming the first insulating film 102. - 特許庁

耐熱性重合体フィルムの少なくとも片面に、有機金属化合物のプラズマＣＶＤ層および導電体層が逐次形成されたことを特徴とするフィルム状積層体。例文帳に追加

The film-like laminate is constituted by sequentially forming a plasma chemical vapor deposition layer of an organic metal compound and a conductor layer on at least one side surface of a heat resistant polymer film. - 特許庁

半導体基板上に低比誘電率、高い耐熱性及び高い耐吸湿性を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適応される。例文帳に追加

The method for forming a silicon-polymer dielectric film having a low dielectric-constant, high heat-resistance, and superior adsorption-proof, is applied to a plasma CVD apparatus. - 特許庁

ポリベンザゾ−ル成形体表面にプラズマ重合法等により、カルボキシル基を５％以上有するグラフト層を付与することにより厚さ１ｍｍ以下のフィルムや繊維などの成形体を得ることができる。例文帳に追加

The molded article such as a film or a fiber having a thickness of at most 1 mm is obtained by imparting a graft layer bearing at least 5% of a carboxy group to the surface of the polybenzazole molded article by a plasma polymerization method or the like. - 特許庁

（メタ）アクリルアミド系モノマーを少なくとも含んで構成される共重合体からなる含水性コンタクトレンズを、酸素ガス及び／又は炭酸ガス雰囲気中においてプラズマ処理することからなる。例文帳に追加

In this method, the hydrous contact lens made of a copolymer at least containing a (meta)acrylamide-based monomer is subjected to plasma treatment in an oxygen gas and/or carbon dioxide gas atmosphere. - 特許庁

低い比誘電率，高い耐熱性及び耐吸湿性を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。例文帳に追加

The method for forming a silicone polymer insulation film having a low relative dielectric constant, a high heat resistance and a moisture absorption resistance is applied to a plasma CVD apparatus. - 特許庁

パルプモールドから構成された容器本体の内面または／および外面に少なくともプラズマ重合により形成された薄膜層が設けられたことを特徴とするパルプモールド容器である。例文帳に追加

In this pulp mold container, at least a thin film layer formed by the plasma polymerization is provided on an inner surface and/or an outer surface of a container body formed of the pulp mold. - 特許庁

一般式（１）で表されるカゴ型シルセスキオキサン化合物の重合体を含む膜に、大気圧下にて低温プラズマ処理を施し、硬化させて得られる絶縁膜。例文帳に追加

The insulating film is obtained by treating a film containing a cage type silsesquioxane compound polymer represented by the general formula (1) with low temperature plasma under an atmospheric pressure and curing it. - 特許庁

好ましくは、Ｘ線透過性基板はアモルファスカーボン基板であり、ハロゲン化アルカリ蛍光体はＣｓＩＴｌから構成され、防湿保護層はＣ_２Ｆ_３ＨまたはＣ_２Ｆ_２Ｈ_２のプラズマ重合膜である。例文帳に追加

Preferably, the radiotransparent substrate is an amorphous carbon substrate, and the alkali halide phosphor is constituted from CsIT1, and the moisture-proof protective layer is a plasma polymerization film of C_2F_3H or C_2F_2H_2. - 特許庁

装置内に昇華性の有機白金錯体２１を置いてプラズマ化させ、それを基板２０上に堆積重合させて成膜させ、有機白金膜を成膜する。例文帳に追加

A subliming organic platinum complex 21 is placed in the device to plasmolyze it, which is deposited and polymerized on the substrate 20 for film-forming to form an organic platinum film. - 特許庁

生体分子が親和的かつ特異的に結合する均一なプラズマ重合表面であって、さらに化学的もしくは物理的特性が多様な表面を提供する。例文帳に追加

To provide a uniform plasma polymerized surface to which biomolecules bind with specificity and affinity, and further a surface with diverse chemical or physical properties. - 特許庁

真空室１２の後段には配管１４を介して真空ポンプ１６と反応ガス導入部１７とプラズマ処理部１８と重合体回収部２０とが連続して設置され、処理装置１０を構成する。例文帳に追加

A vacuum pump 16, a reaction gas introducing part 17, a plasma treatment part 18 and a polymer recovery part 20 are continuously arranged to the rear stage of a vacuum chamber 12 through pipings 14 to constitute a treatment apparatus 10. - 特許庁

基板Ｓを保持するための基板保持用電極９ａ，９ｂを有する上部板１２と、プラズマを発生させるためのプラズマ用電極を有する下部板１４と、ヒドロキシル基を有する含フッ素エチレン性重合体から構成されると共に上部板１２と下部板１４との間に介在して上部板１２と下部板１４とを互いに電気的に絶縁させた状態で接合する熱融着シート１３とを備える。例文帳に追加

The electrostatic chuck includes an upper plate 12 having substrate holding electrodes 9a and 9b for holding a substrate S, a lower plate 14 having a plasma electrode for generating plasma, and a thermal fusion sheet 13 composed of a fluorine-containing ethylene polymer having a hydroxyl group and interposed between the upper plate 12 and the lower plate 14 in order to bond them each other while insulating electrically from each other. - 特許庁

２層を積層してなるプラズマディスプレイパネルの誘電体用積層体において、第１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波長の光を吸収する光吸収剤を含み、第２の層は、無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量体及び光重合開始剤を含む。例文帳に追加

In the laminated body for dielectric of the plasma display panel formed by laminating two layers on each other, a first layer contains inorganic powder, binder resin, and light absorbing agent absorbing the light of a specified wavelength and a second layer contains inorganic powder, binder resin, photopolymerizing monomer, and photopolymerization initiator. - 特許庁

プラズマ処理により、内層８０の外周面８００にアミノ基またはアミン重合体が導入され、該アミノ基または該アミン重合体と外層８１のポリアミド樹脂との化学結合により、内層８０と外層８１とが接着される。例文帳に追加

Through the plasma treatment, an amino group or an amine polymer are introduced onto the outer peripheral surface 800 of the inner layer 80, and the inner layer 80 and the outer layer 81 are adhered through the chemical bonding of the amino group or the amine polymer with the polyamide resin of the outer layer 81. - 特許庁

半導体製造装置において、蒸着重合中に蒸着重合室の内壁面に付着した原料モノマー、該原料モノマーの重合物、または該モノマーと該重合物との両者の混合物からなる膜を酸素プラズマでクリーニングするために、該蒸着重合室が酸素の導入および放電が可能な電極またはアンテナを備えている。例文帳に追加

In this semiconductor manufacturing apparatus, an evaporation- polymerizing chamber 3 has an antenna or an electrode capable of introducing oxygen and electric discharge for cleaning with an oxygen plasma a film of raw material monomers A, B deposited to the inner wall of the evaporation- polymerizing chamber 3 during evaporation-polymerizing, or polymers of the raw material monomers A, B or mixtures of these monomers and polymers. - 特許庁

この有機ＥＬ素子１が有する陽極バッファ層８は、前駆体（モノマー）をプラズマ重合して得られたポリシロキサン誘導体の被膜に、紫外線を照射することにより、ポリシロキサン誘導体をＳｉＯ_２に変化させて形成されたものである。例文帳に追加

A positive electrode buffer layer 8 which the organic EL element 1 comprises is formed by changing a polysiloxane derivative into SiO_2 by irradiating ultraviolet rays on the coating film of the polysiloxane derivative obtained by the plasma polymerization of a precursor (monomer). - 特許庁

本発明の印刷装置は、気体をプラズマ状態として陰イオンを生成する生成手段２と、該生成手段２により生成された陰イオンを、媒体に印刷された酸化重合型インキに接触させる接触手段３とを有することを特徴とする。例文帳に追加

This printing equipment has a producing means 2 for producing anions by turning gas into a plasmatic state and a contact means 3 for bringing the anions produced by the producing means 2 into contact with an oxidative polymerization type ink printed on the medium. - 特許庁

エチレン−ポリプロピレンランダム共重合体からなるプラスチック成形品の内面または外面の何れかの面もしくは両面にプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法にてセラミック薄膜層を形成したことを特徴とするポリプロピレン成形体およびそれを用いた真空採血管である。例文帳に追加

There are provide a polypropylene molding prepared by forming a ceramic thin film layer, by a plasma chemical vapor deposition(CVD) process, on either the inner or outer surface or on both the surfaces of a plastic molded article comprising an ethylene-polypropylene random copolymer, and a vacuum blood-gathering tube prepared therefrom. - 特許庁

複合フィルムの具体例として、ポリイミド基板１上に、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）モノマをプラズマ重合させたＨＭＤＳＯポリマからなるバインダ膜２Ａが形成され、このバインダ膜２Ａ上に、Ｃｕからなる金属薄膜３を形成したものが挙げられる。例文帳に追加

As a practical example of composite films, a binder film 2A of a hexamethyl disiloxane (HMDSO) polymer obtained by polymerizing an HMDSO monomer is formed on a polyimide substrate 1, and a thin metal film 3 of Cu is formed on the binder film 2A. - 特許庁

高機能化付与に適した蒸気圧の低いモノマーを用いる場合も、プラズマ処理による活性化及びグラフト重合またはグラフト化処理を能率的に、かつ均一良好に行なえ、また、全体構造の簡素化及び低コスト化が図れるようにする。例文帳に追加

To make efficiently, uniformly and smoothly performable an activation and graft polymerization or grafting treatment by a plasma treatment even in using a monomer having a low vapor pressure and suitable to impart high functions, and to simplify and make the cost of the whole structure of a treating apparatus low. - 特許庁

気相中で結合した場合に多数の原子が重合することによってポリマーを形成する元素を含有する第１原料気体と、気相中でポリマーを形成することのない第２原料とを用いてプラズマＣＶＤ法によって微結晶を成膜する方法に関するものである。例文帳に追加

The method is used to form a microcrystal into a film through a plasma CVD method by using a first material gas containing such an element that a number of atoms are polymerized to form a polymer when they are joined in a vapor phase, as well as a second material gas that does not form a polymer in a vopor phase. - 特許庁

カーボンブラックもしくは酸化第二錫で表面をコーティングした酸化チタン微粒子を分散せしめた熱可塑性重合体組成物を導電成分とする導電性合成繊維を１０ｍｍ以下の間隔で配列して製織した織物に低温プラズマ処理を行なう。例文帳に追加

This method for producing the woven fabric comprises subjecting the woven fabric in which electroconductive synthetic fibers containing a thermoplastic polymer composition dispersing fine titanium oxide particles having the surface coated with carbon black or stannic oxide as an electroconductive component are arranged at ≤10 mm interval to a low-temperature plasma treatment. - 特許庁

単繊維太さが８μｍ以下の合成繊維から構成された不織布にプラズマ放電処理による改質を施した後、水系弾性重合体の含浸処理、水溶性染料を用いた染色処理が施されたことを特徴とする人工皮革用不織布。例文帳に追加

This non-woven fabric for the artificial leather is obtained by performing a plasma electric discharge treatment on a non-woven fabric constituted with a synthetic fiber having ≤8 μm single fiber thickness, then impregnating with the aqueous elastic polymer and dyeing with the water soluble dyestuff. - 特許庁

（メタ）アクリル系モノマー（Ａ）、プラズマによる表面処理を施した水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）を水媒体（Ｃ）中に溶解または均一に分散させた後、重合開始剤を用いずに、前記モノマー（Ａ）を加熱又は紫外線の照射により重合させ、有機無機複合体（Ｘ）を形成する有機無機複合体分散液の製造方法を提供する。例文帳に追加

In the method for preparing an organic and inorganic composite material fluid dispersion, (meth)acrylic monomers (A) and a water-swellable clay mineral (B) subjected to surface treatment by plasma are dissolved or uniformly dispersed into a water medium (C), thereafter, the monomers (A) are polymerized by heating or the irradiation with ultraviolet without using a polymerization initiator to form an organic and inorganic composite material dispersion (X). - 特許庁

脂環式オレフィン重合体又は芳香族ポリエーテル重合体を含有する硬化性樹脂組成物が硬化してなる電気絶縁層の表面を、あらかじめ５０〜２５０℃に加熱し温度を保持しながらプラズマと接触させ、次いで乾式メッキし、次いで湿式メッキ又は乾式メッキすることによって、導電体層を形成することを含む多層回路基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

In the manufacturing method of the multilayer circuit board, the surface of the electrical insulating layer, where a curing resin composition containing an alicyclic olefin polymer or aromatic series polyether polymer is cured is heated to 50-250° for retaining the temperature and brought into contact with plasma, then is subjected to dry plating, and then wet plating or dry plating, thus forming the conductor layer. - 特許庁

エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムへのプラズマエッチングによる影響を改善し、その黄変、弱界面層の形成を防止し、エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムと無機酸化物からなる薄膜層との密着強度等を改良し、その密着性に優れ、かつ、ガスバリア性に優れ、更に、これを使用した真空断熱材を構成する外装容器を提供する。例文帳に追加

To provide an exterior container which constitutes a vacuum heat insulating material improving the effect on an ethylene/vinyl ester copolymer saponified film due to plasma etching, preventing the yellowing thereof and the formation of a weak interface layer and superior in its adhesion and gas barrier properties. - 特許庁

グラフト重合可能な前駆体ポリマ膜の表面を予め酸化雰囲気下でプラズマ処理することにより膜表面を酸化して親水性を付与した後、その前駆体ポリマ膜に側鎖ポリマとしてプロトン伝導性官能基を導入可能な炭化水素系ポリマをグラフト重合し、側鎖ポリマ単位にプロトン伝導性官能基を導入する。例文帳に追加

After a film surface is oxidized for granting hydrophilic property thereto, by previously subjecting the surface of a precursor polymer film capable of graft polymerization under an oxidizing atmosphere to plasma treatment, a hydrocarbon-based polymer capable of introducing proton conductive functional groups, as a side-chain polymer, is graft-polymerized with the precursor polymer film to introduce the proton conductive functional groups into side-chain polymer units. - 特許庁

プラズマディスプレイの製造に用いるガラスペースト組成物であって、（メタ）アクリル（共）重合体、ガラス微粒子及び高沸点溶剤を含有し、前記（メタ）アクリル（共）重合体は、側鎖末端に水酸基を有する（メタ）アクリレートモノマーに由来するセグメントを有し、ガラス転移温度が−１０℃以下であるガラスペースト組成物。例文帳に追加

The (meth)acrylic copolymer has, at a side-chain end thereof, a segment derived from a (meth)acrylate monomer having a hydroxyl group, and a glass transition temperature of -10°C or lower. - 特許庁