「マイクロ波放電法」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

反射鏡付きマイクロ波放電ランプの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MICROWAVE DISCHARGE LAMP WITH REFLECTING MIRROR - 特許庁

マイクロ波放電発生装置及び環境汚染ガスの処理方法例文帳に追加

MICROWAVE DISCHARGE GENERATING DEVICE, AND ENVIRONMENT POLLUTION GAS TREATING METHOD - 特許庁

容器内での放電を抑制したマイクロ波照射方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR IRRADIATION OF MICROWAVE IN WHICH ELECTRICAL DISCHARGE IS CONTROLLED IN CONTAINER - 特許庁

マイクロ波放電ランプシステム及びそれに用いる反射鏡付き放電ランプの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF MICROWAVE DISCHARGE LAMP SYSTEM AND DISCHARGE LAMP WITH REFLECTING MIRROR USED FOR IT - 特許庁

マイクロ波透過材料からなる容器内に収納した物質にマイクロ波を照射するマイクロ波照射方法において、容器内の該物質が収納されていない空間部にマイクロ波が直接照射されないようにマイクロ波を照射して該空間部における放電現象の発生を抑制したマイクロ波照射方法および装置。例文帳に追加

In the method and the apparatus for irradiation of microwaves irradiating a material housed in a container made of a microwave permeation material with the microwaves, the microwaves are emitted so that a space part where the material in the container is not housed is not irradiated with the microwaves directly, and the generation of discharge on the space part is controlled. - 特許庁

マイクロ波ガス放電を用いて層をプラズマ化学的に堆積させる方法及び装置例文帳に追加

METHOD FOR PLASMA-CHEMICALLY DEPOSITING LAYER USING MICROWAVE GAS DISCHARGE AND DEVICE THEREFOR - 特許庁

マイクロ波線形放電源の電力機能ランピングのためのシステムおよび方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR POWER FUNCTION RAMPING OF MICROWAVE LINER DISCHARGE SOURCE - 特許庁

マイクロ波放電による大面積・高密度プラズマの生成方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING HIGH AREA/HIGH DENSITY PLASMA BY MICROWAVE DISCHARGE - 特許庁

アーク放電の発生を抑制できるマイクロ波照射方法及び接地部材を提供する。例文帳に追加

To provide an irradiation method of microwave and a grounding member capable of suppressing generation of arc discharge. - 特許庁

マイクロ波電磁界の乱れを少なくした冷却方法を用いることによる高効率なマイクロ波放電光源装置を提供することを目的とし、特に高出力のエキシマ光放射を行う高圧エキシマランプを利用したマイクロ波放電光源装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a high-efficiency microwave discharge light source device, using a cooling method which reduces a disturbance of electromagnetic field of a microwave, where in particular, the microwave discharge light source uses a high-pressure excimer lamp which radiates a high-power excimer light. - 特許庁

マイクロ波ガス放電を用いて層をプラズマ化学的に堆積させる方法は、マイクロ波放電を単数の又は複数の分離した電子源からなる電子放出により補助することを特徴とする。例文帳に追加

The method for plasma-chemically depositing a layer by using microwave gas discharge is the one in which microwave discharge is supported by the emmision of electrons by single or plural separated electron sources. - 特許庁

大気圧での放電を可能とする新規な、マイクロ波放電発生装置及びそれを用いた環境汚染ガスの処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a new microwave discharge generating device capable of discharging under an atmospheric pressure, and to provide an environment pollution gas treating method using the same. - 特許庁

反射電力を制限して広い条件範囲で容易に放電を生じさせることができるマイクロ波プラズマ処理装置、マイクロ波処理方法及び構造体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a microwave plasma treatment apparatus which can control a reflection electric power and easily generate a discharge in a wide conditional range, a microwave plasma treatment method, and a structure manufacturing method. - 特許庁

マイクロ波照射により誘起されるフェルト状炭素繊維間の放電加熱を利用する固体高分子の分解方法および薄膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR DECOMPOSING SOLID POLYMER UTILIZING DISCHARGE HEATING BETWEEN FELT-LIKE CARBON FIBERS INDUCED BY MICROWAVE IRRADIATION, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM - 特許庁

ガス生成用発熱体の発熱方法は、アーク放電、抵抗加熱、誘導加熱及びマイクロ波加熱から選択される。例文帳に追加

A heat generating method of the heating element for producing the gas is selected from arc discharge, resistance heating, induction heating and microwave heating. - 特許庁

放電ランプをマイクロ波供給により点灯するマイクロ波放電ランプシステムに用いるための反射鏡付き放電ランプの製造方法であって、放電ランプに設けられた一対の電極間に電流を供給することによって放電ランプを点灯した状態で、放電ランプと反射鏡との光学的な位置合わせを行うステップを含むようにした。例文帳に追加

The method for manufacturing a discharge lamp with a reflecting mirror for use in a microwave discharge lamp system lighting the discharge lamp by supplying a microwave includes a step of performing an optical alignment between the discharge lamp and the reflecting mirror with the discharge lamp lit by supplying current between a pair of electrodes provided at the discharge lamp. - 特許庁

放電ランプをマイクロ波供給により点灯するマイクロ波放電ランプシステムに用いるための反射鏡付き放電ランプの製造方法であって、放電ランプに設けられた一対の電極間に電流を供給することによって放電ランプを点灯した状態で、放電ランプと反射鏡との光学的な位置合わせを行うステップを含むようにした。例文帳に追加

The manufacturing method of the discharge lamp with the reflecting mirror for use for a microwave discharge lamp system lighting the discharge lamp by supplying microwaves is to include a step of carrying out optical positioning of the discharge lamp with the reflecting mirror with the discharge lamp in a lit state with supply of current between a pair of electrodes provided at the discharge lamp. - 特許庁

平板スロットアンテナを備え、該アンテナから誘電体窓を介して放電空間内にマイクロ波を導入し、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、前記誘電体窓の前記放電空間側に複数の溝による溝構造が形成されるように構成する。例文帳に追加

In the system or method for forming the deposition film where the planar slot antenna is provided and microwaves are introduced into the electrical discharge space from this antenna via the dielectric window to form the deposited film on a substrate by the microwave plasma enhance CVD method, a groove structure consisting of a plurality of grooves is formed on the electrical discharge space side of the dielectric window. - 特許庁

誘電体窓を介して放電空間内にマイクロ波を導入し、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、前記誘電体窓の前記放電空間側に複数の薄板状部材を有し、該複数の薄板状部材によって電界方向を横切る向きに仕切られた空間が形成されるように構成する。例文帳に追加

In the apparatus and the method for depositing the film on the base material by the microwave plasma CVD method by introducing the microwave into the discharge space via the dielectric window, a plurality of thin plate-like members are disposed on the discharge space side of the dielectric window so as to form a space partitioned across the direction of the electric field by the plurality of thin plate-like members. - 特許庁

さらに、ガス導入口５に、ほぼ大気圧の窒素ガスと環境汚染ガスの混合ガスを導入し、マイクロ波放電により、環境汚染ガスを安全な物質へ分解できる処理方法を提供する。例文帳に追加

The environment pollution gas can be decomposed into harmless substances by guiding mixed gas of nitrogen gas and environment pollution gas with a pressure nearly the same as the atmospheric pressure into the gas reaction chamber 4, and applying the microwave discharge. - 特許庁

マイクロ波照射による導電性微粒子からのアーク放電を抑制し、均一な透明性を有する透明導電性基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a transparent conductive substrate which has a uniform transparency and in which an arc discharge from conductive particulates by microwave irradiation is suppressed. - 特許庁

異常放電を防止しつつ均一で高密度な大面積プラズマを生成し、且つマイクロ波入射用の誘電体窓に加わる力学的応力と熱的応力を減少させるプラズマ処理装置及び処理方法の提供。例文帳に追加

To provide a plasma processing device and a plasma processing method generating an uniform plasma of high density and large area, reducing kinetic stress and thermal stress added on a dielectric window for indentation of microwave. - 特許庁

大マイクロ波能力で使用でき同時に気体放電チャンバの有効寿命が長い、プラズマ中で励起および／またはイオン化された粒子を発生する装置および方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for generating excited and/or ionized particles in plasma, in which the apparatus may be used with large microwave capacity, and has a long effective life of a gas discharge chamber. - 特許庁

被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を形成するための方法であって、処理室内において、窒素ガス又はアンモニアガスを導入しながら、原料炭素類をホローカソード放電を利用して加熱、昇華させ、それと同時に被処理材の表面近傍にマイクロ波プラズマ放電を誘起して窒素及び炭素を活性化し、前記被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を蒸着形成することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for depositing a hard carbon nitride film on the surface of a work, raw carbon materials are heated and sublimed by utilizing hollow cathode discharge while introducing gaseous nitrogen or ammonium gas, and nitrogen and carbon are activated by inducing microwave plasma discharge in a vicinity of the surface of the work at the same time, and the hard carbon nitride film is vapor-deposited on the surface of the work. - 特許庁

誘電体窓を介しマイクロ波を導入してプラズマＣＶＤ法により堆積膜を形成するに際し、誘電体窓に堆積膜が付着することを防止し、比較的大きなマイクロ波投入電力を、大面積において、長時間、安定的に放電空間に伝送して均質なプラズマを形成し、高品質で優れた均一性を有する堆積膜を形成することが可能となる堆積膜形成装置および堆積膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for depositing a film in which deposition of a film on a dielectric window is prevented, a homogeneous plasma is formed by transmitting relatively large microwave power into a discharge space of large area consistently for a long time, and a film of high quality and excellent uniformity can be deposited when depositing the film by the plasma CVD method by introducing a microwave via the dielectric window. - 特許庁

真空チャンバー内にガスを導入してマイクロ波や高周波により放電プラズマを形成すると共に基板に負のバイアス電圧を印加して、基板上に堆積したポーラスシリカを含有する材料の薄膜をエッチングする方法において、 エッチングガスとして二重結合を持たないフッ素系ガスを使用してエッチングを行うことを特徴としている。例文帳に追加

In the method of forming discharge plasma by microwaves or high frequency by introducing gas into a vacuum chamber, and etching the thin film of the material containing porous silica accumulated on the substrate by applying negative bias voltage to the substrate, the etching is performed using the fluoric gas not having double coupling as etching gas. - 特許庁

カーボンナノチューブの製造方法において、金属炭素複合クラスターを用いて、ガス雰囲気中で、直流アーク放電により複合クラスターを製造し、得られた複合クラスターを回収し、該複合クラスターをシリコン基板に蒸着堆積させるとともにマイクロ波プラズマ中で、カーボンナノチューブを合成する。例文帳に追加

This method for production of the carbon nanotube comprises producing a composite cluster using a metal-carbon composite cluster by DC arc discharge in a gas atmosphere, collecting the obtained composite cluster, vapor-depositing the composite cluster on a silicon substrate and synthesizing the carbon nanotube in a microwave plasma. - 特許庁

金属部材と金属キャビティとの間における放電の発生を防止できるとともに、少ない作業工数で金属部材を金属キャビティに取り付けることができ、しかも金属部材の取り外しを自由に行うことができるマイクロ波焼成炉の金属キャビティ内部への金属部材取り付け方法を提供する。例文帳に追加

To provide a metal member attaching method to a metal cavity inner part of the microwave firing furnace capable of preventing electrical discharge between a metal member and a metal cavity, attaching the metal member to the metal cavity with small working man-hour and capable of freely removing the metal member. - 特許庁

反応容器８の内部に設けた試料台７上に試料基板６を配置し、該反応容器８内に材料ガス４と電力を供給しながら放電によりプラズマを発生させ、該プラズマ中に試料基板を保持する処理方法において、反応容器８内にマイクロ波電力と直流電力を同時に供給することにより、発生するプラズマ５の形状をコントロールするプラズマ処理方法とその装置を基本手段として提供する。例文帳に追加

The plasma treatment method which arranges a sample substrate 6 on a sample bed 7 provided inside a reaction vessel 8, generates plasma by discharge while supplying a material gas 4 and electric power into the reaction vessel 8, and holds the sample substrate in the plasma, is characterized by controlling a shape of generating plasma 5 through simultaneously supplying microwave electric power and direct current power into the reaction vessel 8. - 特許庁