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真空焼結の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 151



例文

続いて、予備成形体を無加圧状態で真空焼結する。例文帳に追加

Then, the preliminary mold is vacuum-sintered in no pressure condition. - 特許庁

アルミナ体、絶縁体、真空スイッチ用容器、及び絶縁碍子例文帳に追加

ALUMINA SINTERED COMPACT, INSULATED BODY, VESSEL FOR VACUUM SWITCH AND INSULATOR - 特許庁

この際、第2物質M2を真空状態で仮させる。例文帳に追加

At this time, the second material M2 is preliminary sintered in the vacuum condition. - 特許庁

真空蒸着用ITiO体およびその製造方法例文帳に追加

ITiO SINTERED COMPACT FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

例文

体の製造装置1は、真空排気手段11を有する真空チャンバ12と、この真空チャンバ内で、液相で得られた一次体Sを収納する体ケース2と、この体ケースの加熱を可能とする加熱手段3とを備える。例文帳に追加

The sintered compact production device 1 includes: a vacuum chamber 12 having an evacuation means 11; a sintered compact case 2 of storing a primarily sintered compact S obtained by liquid phase sintering in the vacuum chamber; and a heating means 3 capable of heating the sintered compact case. - 特許庁


例文

体の製造装置1は、真空排気手段11を有する真空チャンバ12と、この真空チャンバ内で、液相で得られた一次体Sを収納する体ケース2と、この体ケースの加熱を可能とする加熱手段3とを備える。例文帳に追加

The sintered compact production device 1 comprises: a vacuum chamber 12 having an evacuation means 11; a sintered compact case 2 storing a primarily sintered compact S obtained by liquid phase sintering; and a heating means 3 capable of heating the sintered compact case. - 特許庁

ダイヤモンド膜被覆部材を真空焼結炉に入れ、浸炭雰囲気または真空雰囲気で熱処理することによりダイヤモンド膜を除去する。例文帳に追加

The diamond film coated member is put in a vacuum sintering furnace, and subjected to heat treatment in a carbonizing atmosphere or vacuum atmosphere to remove the diamond film. - 特許庁

多孔質アルミナ質体からなる真空チャック用部材およびその製造方法例文帳に追加

MEMBER FOR VACUUM CHUCK COMPOSED OF POROUS ALUMINA SINTERED COMPACT, AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

前処理工程を不要としたうえで、しかも、低温度、低真空度での接合・を実現する。例文帳に追加

To eliminate a pretreatment process, and to enable joining and sintering at a low temperature and in a low vacuum. - 特許庁

例文

多孔質導電性ジルコニア質体およびそれよりなる真空チャック部材例文帳に追加

POROUS ELECTROCONDUCTIVE ZIRCONIA-BASED SINTERED COMPACT AND VACUUM CHUCK MEMBER MADE OF THE SAME - 特許庁

例文

この予備成形体を無加圧状態で真空焼結(ステップS106)してビレットを製造する。例文帳に追加

The preforms are sintered in a vacuum under a condition of no pressurization to manufacture billets (in a step S106). - 特許庁

暗色多孔質体を、真空チャック、成膜用治具、フィルターに用いる。例文帳に追加

The dark color porous sintered compact is used for a vacuum chuck, a jig for film forming and a filter. - 特許庁

粉末mが入れられる炭素含有素材製の型80と、型80が収容され、内部に二酸化炭素を含有する充填ガスが充満される、気密な真空チャンバ2と、真空チャンバ2内において、型80を加圧し通電する軸25とからなる。例文帳に追加

This device consists of a sintering mold 80 made of a carbon- containing material into which powder m to be sintered is put, an airtight vacuum chamber 2 in which the sintering mold 80 is housed and a packing gas containing carbon dioxide is filled and a sintering shaft 25 which pressurized and energizes the sintering mold 80 in the vacuum chamber 2. - 特許庁

多孔性金属体の気孔に香料を浸透させることは、体を真空用に装入した後、真空雰囲気を形成して体の内部空気を除去した後、香料を注入するか、体を液状香料に浸漬することによりな達成される。例文帳に追加

The infiltration of the perfume into the pores of the porous metallic sintered compact is attained by charging the sintered body into a vacuum vessel, thereafter, forming a vacuum atmosphere to remove the air at the inside of the sintered compact and subsequently pouring perfume or immersing the sintered compact into liquid perfume. - 特許庁

粉末mが入れられた型80を上下方向に加圧するための一対の軸、すなわち上下加圧電極軸26、27と、型80を密閉するための真空チャンバ2とを備えた通電加圧装置において、真空チャンバ2の内部において、型80の側方周囲を囲んで、円筒状の加熱ヒータ170 が設けられている。例文帳に追加

In this electric pressure sintering apparatus comprising a pair of sintering shafts for pressure-sintering the sintering die 80 with the powder m to be sintered filled therein in the vertical direction, i.e., vertically pressure electrode shafts 26 and 27, and a vacuum chamber 2 for sealing the sintering die 80, a cylindrical heater 170 surrounding the side periphery of the sintering die 80 is provided inside the vacuum chamber 2. - 特許庁

本カーボンナノチューブ膜は、真空下でSiCからなる多晶質又は多孔質体を、真空真空度においてSiCが分解して体の表面から珪素原子が失われる温度に加熱することにより、SiCから珪素原子を除去して、体の表面に形成され、且つ所定の方向に配向したカーボンナノチューブからなる。例文帳に追加

The carbon nanotube film is formed on the surface of a sintered body by removing silicon atom from SiC when the polycrystalline or porous sintered body composed of SiC is heated to the temperature at which silicon atom is lost from the surface of the sintered body by SiC decomposition under vacuum condition and consists of carbon nanotubes arranged in the specific direction. - 特許庁

金属粉末またはセラミックス粉末を含む発泡したスラリーを凍したのち真空乾燥し、次いでする多孔質金属の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing porous metal, foamed slurry comprising metal powder or ceramics powder is frozen, is thereafter vacuum-dried, and is then sintered. - 特許庁

粉末冶金法により多晶構造の磁歪材料を製造するに際し、所定期間真空下でを行う。例文帳に追加

When the magnetostrictive material with a polycrystal structure is produced by a powder metallurgical process, sintering is performed in a vacuum for a prescribed period. - 特許庁

相対密度が97%以上の緻密な形態を有し、且つ、クロミア粉末を真空中若しくは不活性雰囲気中で加圧成して得られたものであることを特徴とするクロミア体、及び、該クロミア体を製造するためのクロミア体の製造方法であって、クロミア粉末を真空中若しくは不活性雰囲気中で加圧しながら加熱して成することを特徴とするクロミア体の製造方法。例文帳に追加

This sintered body of chromia is produced by firing chromia powder in vacuum or an inert atmosphere with pressure so as to result in dense form having a relative density of 97% or more. - 特許庁

また、本発明の多晶ZnS体の製造方法は、上記体の製造方法であって、原料粉末の平均粒径が0.1μm〜5μmであり、温度500℃〜850℃において真空中ですることを特徴とする。例文帳に追加

The method for producing the polycrystalline ZnS sintered body as described above comprises sintering a raw material powder having an average particle size of 0.1-5 μm in vacuo at a temperature of 500-850°C. - 特許庁

この放電プラズマ法を行う放電プラズマ装置6は、ユニット7を内部に配設している真空チャンバ8と、この真空チャンバ8の上下に設けられユニット7を間に挟んで配設された上部パンチ電極10及び下部パンチ電極11と、これら電極を介してユニット7にパルス電力を印加する電源部12とを備えている。例文帳に追加

A discharge plasma sintering device 6 is provided with a vacuum chamber 8 arranging a sintering unit 7 at the inside, an upper punch electrode 10 and a lower punch electrode 11 provided above and below the vacuum chamber 8 and arranged across the sintering unit 7 and a power source 12 impressing pulse power to the sintering unit 7 through these electrodes. - 特許庁

波長193nmの真空紫外光の透過性に優れた新たなスピネル体を提供する。例文帳に追加

To provide a novel spinel sintered compact having excellent permeability of vacuum ultraviolet light having a wavelength of 193 nm. - 特許庁

同時生成の酸化カルシウムを酸溶解で除去した后真空乾燥して成形用原料とする。例文帳に追加

Calcium oxide formed at the same time is removed by acid dissolution and vacuum drying is performed to obtain a starting material for molding and sintering. - 特許庁

さらに、前記希土類磁石用粉末を成形後、真空中または水素中で脱バインダー処理し、してなる希土類磁石に関する。例文帳に追加

The rare-earth magnet is produced by molding the powder for the rare-earth magnet and subsequently subjecting it to binder removal treatment in a vacuum or hydrogen atmosphere and sintering it. - 特許庁

部分的に又は完全にガラス化されたSiO2成形体の製造方法、この種の成形体、及びこの方法のための真空レーザー装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING SIO2 SHAPED BODY WHICH HAS BEEN VITRIFIED PARTIALLY OR ENTIRELY, SUCH SHAPED BODY, AND VACUUM LASER SINTERING APPARATUS USED IN THE METHOD - 特許庁

条件としては、真空中または不活性ガス雰囲気中で590〜635℃の温度で行うことが望ましい。例文帳に追加

It is preferable that the sintering is performed under condition at 590 to 635°C in a vacuum or in an inert gas atmosphere. - 特許庁

前記セラミックス粒子の成形体は1100℃以上1500℃以下の温度で10^−1Pa以下の真空中にてさせて光学素子を得る。例文帳に追加

The optical device is obtained by sintering the molded body of the ceramic particle at 1,100-1,500°C under vacuum of10^-1 Pa. - 特許庁

高いパワーの電子ビームを照射しても、破損の起こらない真空蒸着用ITiO体およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ITiO sintered compact for vacuum vapor deposition which does not be broken even when irradiated with high-power electron beams and to provide its production method. - 特許庁

真空蒸着法に用いられる酸化物体タブレットを歩留まりよく安定して量産できる製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for mass-producing an oxide sintered compact tablet used in a vacuum deposition method stably and in a high yield. - 特許庁

真空遮断器用電極材料は、混合工程と、プレス工程と、Cu溶浸工程で製造する。例文帳に追加

The electrode material for a vacuum circuit breaker is produced by a method comprising a mixing step, a press-sintering step and a Cu infiltration step. - 特許庁

二酸化炭素を含有する充填ガスによって真空チャンバ2内を充満しているから、被粉末mが酸化物であっても、被粉末mが型80中の炭素と反応して分解されることを防ぐことができる。例文帳に追加

Since the inside of the vacuum chamber 2 is filled with the charged gas containing carbon dioxide, the oxide powder m is prevented from decomposition by reacting with carbon in the sintering mold 80. - 特許庁

チタン又はチタン合金のガスアトマイズ法による球状粉粒体を、不活性ガス雰囲気又は真空において無加圧、850〜1200℃でし、体の空隙率が35〜55%であるチタンフィルタ。例文帳に追加

The sintered titanium filter the percentage of void of which is 35-55% is obtained by sintering a spherical granule obtained by a gas- atomizing method of titanium or a titanium alloy at 850-1,200°C under no pressure in an inert gas atmosphere or a vacuum. - 特許庁

また、到達圧力10^-4Pa以下の真空度でを行うことで、成形体や成形体後の体に含まれる酸素量が大幅に低減され、不純物量を低減される。例文帳に追加

Furthermore, since sintering is carried out under vacuum where ultimate pressure is 10^-4 Pa or below, the quantity of oxygen contained in the molding or the sintered molding is reduced sharply and the quantity of impurities is reduced. - 特許庁

そして、真空引きを体9に加えて体9の多孔部内に分散液を浸透させて体9上のPZT膜13の表面全体を分散液の膜で覆う。例文帳に追加

The sintered compact 9 is evacuated to immerse the liquid dispersion into pores in the compact 9 and to cover the entire surface of the PZT film 13 on the sintered compact 9 with the film of the dispersion fluid. - 特許庁

少なくとも体形成用金属粉と、溶剤と分散剤とからなる分散液を、凍真空乾燥させることにより溶剤を除去、乾燥させ、表面処理された体形成用金属粉を得る。例文帳に追加

A dispersion liquid at least consisting of metal powder for forming a sintered body, a solvent and a dispersant is subjected to freeze vacuum drying to remove the solvent, so that the dried and surface-treated metal powder for forming a sintered body can be obtained. - 特許庁

粒径が2〜10μmのタングステン粉末を用い、真空または還元雰囲気中でホットプレスにて体を形成し、その後、該体をカプセリング後、続いて熱間等方加圧(HIP)処理し、スパッタリング用タングステンターゲットを製造する方法。例文帳に追加

In this method for manufacturing the tungsten sputtering target, tungsten powder of 2 to 10 μm particle size is used and hot press sintering is performed in vacuum or in a reducing atmosphere to form a sintered compact, and then the sintered compact is encapsulated and successively subjected to hot isostatic pressing (HIP) treatment. - 特許庁

鈍工程では、真空または不活性ガスの雰囲気下で、金属磁性粒子10を粉末組成における変態温度以上、が始まる温度未満の温度範囲で鈍処理を行なう。例文帳に追加

In the annealing stage, the metal magnetic particles 10 are annealed under a vacuum or in an atmosphere of inert gas within a temperature range above phase transformation temperature of powder composition, and below temperature at which the annealing starts. - 特許庁

鈍は、真空または不活性ガス雰囲気の熱処理炉内で行い、再鈍条件は、加熱温度を430〜750℃に設定し、0.5〜24時間保持する。例文帳に追加

The recrystallization annealing is performed in a heat treating furnace in a vacuum or inert gas atmosphere, and as the recrystallization annealing condition, the heating temperature is set to 430-750°C and held for 0.5-24 hours. - 特許庁

タンタル繊維1の集合体の繊維間にタンタル粉末2が均一に存在するプレス成形体を作製し、真空焼結することで多孔質体を得る。例文帳に追加

A press-molded body having a tantalum powder 2 existent uniformly among the fibers of the assembly comprising tantalum fibers 1 is so created as to obtain a porous sintered body by vacuum-sintering the powder 2. - 特許庁

これらは、バインダーと真空焼結炉内でのプロセスである脱脂、を一つの工程内(One−Step)で行う事と、複雑な形状はインサート(置き中子)し、それを溶媒で除去する装置。例文帳に追加

This is attained by performing defatting and sintering processes of the binder in a vacuum sintering furnace as a single process (One-Step), and a device for forming a complicated shape by an insert (a placed core) and removing it by solvent. - 特許庁

2種類以上の酸化物を混合した粉末材料を、5.0×10^−3Pa以下の真空雰囲気で、パルス電流を印加した放電プラズマ法により、及び溶融することで、光学素子用材料を作製する。例文帳に追加

This method comprises sintering and melting the powder material which is prepared by blending two or more oxides in a vacuum atmosphere of ≤5.0×10^-3 Pa by a discharge plasma sintering method in which a pulsed current is applied to produce the optical element material. - 特許庁

真空下において、炭化ケイ素を主体とする体または成形体上に電流を流し、発生するジュール熱によって前記体または成形体を加熱して溶断させる。例文帳に追加

An electric current is made to flow on a sintered compact or a formed body mainly comprising silicon carbide under vacuum, so that the sintered compact or the formed body is heated and fusion-cut by generated Joule heat. - 特許庁

金属ペースト20を塗布した後、これを乾燥器にて真空乾燥し、チップを230℃で30分加熱して金属ペーストをし、粉末金属体21とした。例文帳に追加

After that, the semiconductor chip is vacuum-dried with a dryer, and is heated at 230°C for 30 minutes to sinter the metal paste, thereby forming a sintered powder metal body 21. - 特許庁

放電プラズマ装置に、高純度ZnOを装填したグラファイト製専用容器をセットして、真空に引いた後、放電電流を流して、700℃から800℃の温度範囲の中でする。例文帳に追加

The manufacturing method thereof comprises the steps of setting a graphite-made exclusive vessel filled with high purity ZnO in a discharge plasma sintering apparatus, and evacuating, and then sintering in a temperature range of from 700°C to 800°C while sending an electrical discharge current. - 特許庁

樹脂の粘度が低い状態でセラミック体10に樹脂を真空含浸させ、樹脂の粘度が高い状態でセラミック体表面に付着した樹脂を溶剤で洗浄する。例文帳に追加

The resin is permeated into the ceramic sintered body 10 under vacuum in a state that the viscosity of the resin is low, and the resin adhered to the surface of the ceramic sintered body is cleaned with a solvent in a state that the viscosity of the resin is high. - 特許庁

常圧型窒化硼素を出発物質として、超高圧高温下でcBNに直接変換させると同時にさせて作製したcBN体を、真空中もしくは不活性ガス中にて800℃以上1400℃未満の温度で熱処理する。例文帳に追加

A cBN sintered compact produced by directly converting a normally sintered boron nitride as a starting material into cBN under high pressure-high temperature, and simultaneously sintering the cBN is subjected to heat treatment at 800 to <1,400°C in a vacuum or in an inert gas. - 特許庁

鉛を含有せず、また脱ガス処理時及び真空封着処理時等の成時において晶析出が少なく、550℃以下の低温で良好に且つ歩留まりよく、確実に封着を行うことができる金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。例文帳に追加

To provide a lead-free glass composition for sealing a metal-made vacuum double container which contains no lead, is small in the crystal deposition when degassing and firing in vacuum sealing or the like and is surely sealing at a low temperature of ≤550°C at high yield. - 特許庁

Al_2S_3、BaS、EuSの各硫化物粉末を真空若しくは不活性ガス雰囲気中で調整し、得られた混合粉末を0.1Paより良い真空雰囲気中において50〜150℃で30分以上保持した後、不活性ガス雰囲気中にて900〜1100℃の温度でする。例文帳に追加

Each sulfide powder of Al_2S_3, BaS and EuS is prepared in vacuum or in an inert gas atmosphere, the obtained powdery mixture is held at 50 to 150°C for ≥30 minuites in an atmosphere at a vacuum better than 0.1 Pa, and is thereafter sintered at 900 to 1,100°C in an inert gas atmosphere. - 特許庁

Cu−Ga合金粉末を、真空又は不活性ガス雰囲気中で250℃〜1000℃の温度で熱処理し、熱処理したCu−Ga合金粉末を、真空又は不活性ガス雰囲気中で250℃〜1000℃の温度と、5MPa〜30MPaのプレス圧力とでホットプレス法によりする。例文帳に追加

The Cu-Ga alloy powders are subjected to heat treatment in a vacuum or inert gas atmosphere at a temperature of 250-1,000°C, and the heat-treated Cu-Ga alloy powders are sintered by a hot-press method in a vacuum or inert gas atmosphere at a temperature of 250-1,000°C and a pressing pressure of 5-30 MPa. - 特許庁

例文

この窒化アルミニウム体は、炭素繊維と窒化アルミニウムを混合し、混合粉を得た後、これを成形し、さらにこの成形体を真空雰囲気、不活性雰囲気または還元雰囲気で加熱し、成を行うことで得られる。例文帳に追加

It is obtained by mixing the carbon fiber and aluminum nitride to obtain a mixed powder, molding the resulting mixed powder, and heating this molded body in a vacuum atmosphere, an inert atmosphere, or a reducing atmosphere to sinter it. - 特許庁

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