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鉄薄膜の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 79



例文

シリサイド結晶を含有する薄膜及びその薄膜の製造方法例文帳に追加

THIN-FILM CONTAINING IRON SILICIDE CRYSTAL AND MANUFACTURING METHOD FOR THE THIN FILM - 特許庁

ベータシリサイド及びその薄膜と、ベータシリサイド薄膜の製造方法及び同薄膜を用いた発光・受光素子例文帳に追加

BETA IRON SILICIDE AND ITS THIN FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THE THIN FILM AND LIGHT EMITTING/LIGHT RECEIVING ELEMENT USING THE THIN FILM - 特許庁

リン酸リチウム薄膜電極の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF IRON LITHIUM PHOSPHATE THIN FILM ELECTRODE - 特許庁

シリサイド半導体薄膜及びその製造方法例文帳に追加

IRON SILICIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM AND ITS MANUFACTURE - 特許庁

例文

シリサイド薄膜およびその製造方法例文帳に追加

IRON SILICIDE THIN FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁


例文

窒化鉄薄膜及びその製造方法例文帳に追加

IRON NITRIDE THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

励起時の発光能を有するβ−シリサイド薄膜、該薄膜の製造方法及び薄膜の製造装置の提供。例文帳に追加

To provide a β-iron silicide thin film having light emission capability when excited, a method of manufacturing the same, and a device for manufacturing a thin film. - 特許庁

薄膜形成用高純度材料及びその製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY IRON MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND ITS PRODUCTION - 特許庁

ここで、シリサイド薄膜は、PL測定により発光が認められる。例文帳に追加

In this case, in the iron silicide thin film, luminescence is observed by PL measurement. - 特許庁

例文

高価な真空装置や原料を用いることなく、成膜速度が大きい窒化鉄薄膜を大気圧中でエピタキシャル成長させる窒化鉄薄膜の製造方法とその方法によって作製する窒化鉄薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a producing method for thin film of iron nitride by which a thin film of iron nitride having a high growth speed can be epitaxially grown under the atmospheric pressure without using an expensive vacuum equipment and raw material. - 特許庁

例文

コバルト・ニッケル・合金薄膜およびその製造方法ならびに薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法例文帳に追加

COBALT.NICKEL.IRON ALLOY THIN FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

結晶性、表面性に優れた酸化物磁性薄膜を成膜するための、めっき液および磁性薄膜、および磁性薄膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plating solution for depositing an iron oxide magnetic thin film excellent in crystallinity and surface properties, to provide a magnetic thin film and to provide a method for producing the magnetic thin film. - 特許庁

コバルト系合金およびコバルト系合金めっき磁性薄膜の製造方法、並びに4成分系合金およびコバルトモリブデン合金めっき磁性薄膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING COBALT IRON ALLOY AND PLATED MAGNETIC THIN-FILM OF COBALT IRON ALLOY, AND METHOD FOR MANUFACTURING QUATERNARY ALLOY AND PLATED MAGNETIC THIN-FILM OF COBALT IRON MOLYBDENUM ALLOY - 特許庁

磁気特性を向上可能なコバルト系合金および4成分系合金並びにコバルト系合金めっき磁性薄膜およびコバルトモリブデン合金めっき磁性薄膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a cobalt iron alloy and a quaternary alloy which can improve magnetic properties, and a method for manufacturing a plated magnetic thin-film of a cobalt iron alloy and a plated magnetic thin-film of a cobalt iron molybdenum alloy. - 特許庁

骨に薄膜を張り,ワイヤーで引っ張って屋根を架ける建築構造例文帳に追加

a structure of a building in which the roof is built with filmed steel frames and using wire to stretch the roof  - EDR日英対訳辞書

垂直磁気異方性を有するコバルト−−シリコン−ボロン/白金多層薄膜例文帳に追加

COBALT-IRON-SILICON-BORON/PLATINUM MULTILAYER THIN FILM EXHIBITING PERPENDICULAR MAGNETIC ANISOTROPY - 特許庁

−ジルコニウム−ホウ素−銀系軟磁性材料及び薄膜の製造方法例文帳に追加

ION-ZIRCONIUM-BORON-SILVER SOFT MAGNETIC MATERIAL AND METHOD FOR DEPOSITION OF THIN FILM - 特許庁

磁性体薄膜101は、鉛を使用せずに、を含む合金材料をスパッタ等して形成される。例文帳に追加

The magnetic film 101 is formed by sputtering an alloy material containing iron without using lead. - 特許庁

固定層18の上によりなる薄膜19を形成し、薄膜19を研磨することにより、カーボンナノチューブ16の先端部によりなる磁性層19Aを挿入して、記録装置20として用いることができる。例文帳に追加

The carbon nanotube can be used as a recording apparatus 20 by inserting a magnetic layer 19A made of iron into the tip of the carbon nanotube 16 by forming a thin film 19 made of iron on the fixed layer 18 and polishing it. - 特許庁

架橋アルギン酸ゲルは、薄膜状であることが好ましく、薄膜状の架橋アルギン酸ゲルの厚さは、1μm〜1mmであることが好ましい。例文帳に追加

The iron-crosslinked alginic acid gel is preferably in a thin-film state and the thickness of the thin-film iron-crosslinked alginic acid gel is preferably 1 μm-1 mm. - 特許庁

シリサイド薄膜の製造方法は、レーザアブレーション法により、基板上にシリサイド薄膜を形成する工程と、この工程により得られたものをアニーリングする工程とを含んでいる。例文帳に追加

The method of manufacturing an iron silicide thin film comprises a step of forming an iron silicide thin film on a substrate by a laser ablation method, and a step of annealing the resulted product obtained by the former step . - 特許庁

ガラス基板1 上に化学蒸着装置2 を用いて触媒金属として3 を蒸着させ、粒子からなる薄膜4 を形成した。例文帳に追加

Iron 3 is deposited as catalyst metal on a glass substrate 1 using a chemical vapor deposition apparatus 2, and thereby a thin film 4 consisting of iron particles is formed. - 特許庁

ニッケル、、コバルトを含む遷移金属から選択される少なくとも1種の金属とIV族元素とを含み、軟磁性体である多結晶薄膜からなる微結晶金属薄膜102を含む。例文帳に追加

The magnetic recording medium comprises the microcrystal metal thin film 102 which is made of a polycrystal thin film which contains one or more kinds of metals selected from transition metals including nickel, iron, and cobalt and group IV elements and is a soft magnetic material. - 特許庁

次いで、第2金属薄膜3の上に、電解銅めっきにより、銅からなる導体パターン4を形成し、その導体パターン4から露出する第2金属薄膜3を、塩化第二水溶液を用いてエッチングする。例文帳に追加

Then a copper conductor pattern 4 is formed on the second metallic thin film 3 by electrolytic copper plating, and the second metallic thin film 3 exposed from the conductor pattern 4 is etched by using ferric chloride water solution. - 特許庁

本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造工程の研磨洗浄工程間において、浮上面に,クロム及びモリブデンの2種以上の金属酸化物を被覆し、磁気ヘッドの腐食を抑制した薄膜磁気ヘッドにある。例文帳に追加

This thin-film magnetic head suppresses the corrosion of the magnetic head by coating the floating surface with a metal oxide of ≥2 kinds among iron, chromium and molybdenum between the polishing and washing stages of the process for manufacturing the thin-film magnetic head. - 特許庁

基板上に下部電極を形成し、該下部電極上に鉛を含有する圧電薄膜を形成し、該圧電薄膜の上に更に上部電極を配した薄膜圧電素子において、該基板としてを主成分とする材料を用い、かつ該下部電極と基板との間に1層以上の拡散防止層を配することを特徴とする薄膜圧電素子。例文帳に追加

The thin film piezoelectric element comprises a lower electrode formed on a substrate, a piezoelectric thin film containing lead formed on the lower electrode and an upper electrode arranged on the piezoelectric thin film wherein a material principally comprising iron is employed in the substrate and one or more diffusion preventive layer is arranged between the lower electrode and the substrate. - 特許庁

表面に、金属、酸化クロム、そして他の合金成分酸化物からなる合金組成物の薄膜、あるいは金属、酸化、酸化クロム、そして他の合金成分酸化物からなり、酸化の状態に在るの量が金属の量に比べて少ない合金組成物の薄膜が形成されたステンレス鋼成型体。例文帳に追加

In the stainless steel molding, a thin film of an alloy composition consisting of metallic iron, chromium oxide and other alloy component oxides, or a tin film of an alloy composition consisting of metallic iron, iron oxide, chromium oxide and other alloy component oxides and in which the content of iron in the iron oxide is lower than the content of metallic iron is deposited on the surface. - 特許庁

インジウム酸化物とスズ酸化物の混合触媒と、混合触楳の表面に形成された鉄薄膜から構成してもよい。例文帳に追加

The catalyst can be made by forming an iron thin film on the surface of a composite catalyst of indium oxide and tin oxide. - 特許庁

可変抵抗薄膜2は、Fe()およびO(酸素)と構成元素をとして含み、且つ、膜厚方向に酸素含有量が変調されている。例文帳に追加

The variable resistance thin film 2 contains Fe (iron) and O (oxygen) as its constituent elements, and changes the content of oxygen in film thickness direction. - 特許庁

被膜特性に優れたSiNX系セラミック薄膜を有する超低損一方向性けい素鋼板およびその製造方法例文帳に追加

ULTRA LOW CORE-LOSS GRAIN ORIENTED SILICON STEEL SHEET HAVING SiNX CERAMIC THIN FILM EXCELLENT IN FILM CHARACTERISTIC, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

砒素系超伝導体の高品質な超伝導薄膜を備えた超伝導体構造、その製造方法、及び電子素子を提供すること。例文帳に追加

To provide a superconductor structure provided with a high quality superconductor thin film of an iron arsenic-based superconductor, a production process therefor, and an electronic device. - 特許庁

電気伝導型制御方法が改良された電気伝導型シリサイド薄膜の形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for forming an conductive iron silicide thin film improved in a conduction-type control method. - 特許庁

これにより、可動芯15に固定された突棒14が鋭利な先端を金属薄膜12に突き刺して孔を開ける。例文帳に追加

By this, a push rod 14 fixed to the movable core 15 pierces its sharp tip into the metal thin-film 12 to open a hole. - 特許庁

安価なを主成分とする粉末表面に、薄膜の高電気抵抗層を有する軟磁性粉末材料を、簡単な工程で製造する。例文帳に追加

To produce a soft magnetic powder material having a high electric resistance layer of a thin film on the surface of powder essentially composed of inexpensive iron by a simple process. - 特許庁

液体の状態で輸送が可能で且つ蒸気圧が大きく気化させやすい化合物、特に、組成制御性に優れた薄膜の製造を実現することができ、多成分薄膜をCVD法により製造する場合に好適な化合物を提供すること。例文帳に追加

To provide an iron compound which can be transported in a liquid state, has a high vapor pressure, and is easily vaporized; especially, an iron compound which can realize the production of a thin film excellent in composition controllability and is suitable for producing a multi-component thin film by a CVD method. - 特許庁

基体上に形成された下地膜に対して酸素過剰雰囲気下でスパッタ処理した後、反応スパッタすることによって前記下地膜上にマグネタイトを主成分とするスピネル型酸化鉄薄膜を形成し、次いで、当該マグネタイトを主成分とするスピネル型酸化鉄薄膜を酸化してマグヘマイト薄膜に変態させる磁気記録媒体の製造法である。例文帳に追加

This method of manufacturing magnetic recording medium comprises subjecting a ground surface film formed on a substrate to a sputtering treatment under an oxygen excess atmosphere, then to reactive sputtering to form a thin spinel type iron oxide film essentially consisting of magnetite on the ground surface film, then oxidizing the thin spinel type iron oxide film essentially consisting of this magnetite to transform the thin film to the thin maghemite film. - 特許庁

各種光学機器の光学ガラス表面に形成された弗化マグネシウム膜等を形成した光学薄膜の形成不良品を、高濃度の塩化第2、もしくは更に塩酸、硝酸等の強酸を含有する水溶液、又は非水溶液で処理して弗化マグネシウム薄膜等の光学薄膜を剥離する。例文帳に追加

The optical thin films, such as the magnesium fluoride thin films formed on the optical glass surfaces of various kinds of the optical apparatus are peeled by treating the articles defectively formed with the optical thin films, such as the magnesium fluoride thin films, with an aqueous solution containing ferric chloride at a high concentration or further strong acids, such as hydrochloric acid and nitric acid, or a non-aqueous solution. - 特許庁

基体上に形成されたCr金属薄膜又はCr合金薄膜からなる下地膜に対して酸素過剰雰囲気下でスパッタ処理した後、反応スパッタによって前記下地膜上にマグヘマイトを主成分とするスピネル型酸化鉄薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造法である。例文帳に追加

The manufacturing method for the magnetic recording medium is characterized in that after a base film formed on a substrate and consisting of a Cr metallic thin film or a Cr alloy thin film is subjected to sputtering treatment under an oxygen-excess atmosphere, the spinel type iron oxide thin film consisting essentially of maghemite is deposited on the base film by a reaction sputtering method. - 特許庁

基板と基板上に形成した電極材料との間に拡散防止層を形成することによって、系の汎用基板上で高い圧電特性を有する圧電薄膜を形成することを実現し、実用に耐えうる薄膜圧電素子を安価に提供する。例文帳に追加

To provide a practically durable thin film piezoelectric element inexpensively by forming a diffusion preventive layer between a substrate and an electrode material formed thereon thereby forming a piezoelectric thin film having high piezoelectric characteristics on an iron based general purpose substrate. - 特許庁

膜表面における不純物としてのフッ素化合物の発生を抑制しながら、簡易な方法で、希土類元素、フッ素、、ヒ素、及び酸素からなる超伝導体を含む超伝導薄膜を形成することができる超伝導薄膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a simple method for producing a superconducting thin film including a superconducting body consisting of a rare earth element, fluorine, iron, arsenic and oxygen while preventing a fluorine compound from being produced as an impurity on a film surface. - 特許庁

基体上に、分子線エピタキシー法により、少なくとも希土類元素の固体原料及び希土類三フッ化物の固体原料を用い、希土類元素、フッ素、、ヒ素、及び酸素からなる超伝導体を含む超伝導薄膜を形成する工程を有する超伝導薄膜の製造方法である。例文帳に追加

The method for producing the superconducting thin film includes a step of forming, by using at least a solid raw material of a rare earth element and a solid raw material of rare earth trifluoride, the superconducting thin film including the superconducting body consisting of a rare earth element, fluorine, iron, arsenic and oxygen, on a substrate by a molecular beam epitaxy method. - 特許庁

本発明は、第1の電極と、第2の電極と、第1の電極と第2の電極との間に接続される可変抵抗薄膜から成る記憶素子の製造方法であって、可変抵抗薄膜として、第1の酸化膜を形成する工程と、第1の酸化膜を酸素が存在しない雰囲気で熱処理して、第2の酸化膜へと変化させる工程とを含む事を特徴とする。例文帳に追加

The method relates to manufacturing a memory element composed of a first electrode, a second electrode and a variable resistance thin film connected between the first electrode and the second electrode and includes a process for forming a first iron oxide film as a variable resistance thin film and a process for heat treating the first iron oxide film in an atmosphere including no oxygen to change it into a second iron oxide film. - 特許庁

シリコンや石英の基板上に突起を形成し、その基板に触媒金属としてニッケル、、コバルト等の族元素やその化合物の薄膜を堆積する。例文帳に追加

Projections are formed on a silicon or quartz substrate, and then a thin film of iron group elements such as nickel, iron and cobalt or compounds of these is deposited as a catalyst metal on the substrate. - 特許庁

ケイ素基板1の一方の面上に拡散防止緩衝層2とベータシリサイド半導体薄膜3を形成し、他方の面上に無反射誘電体層5を形成する。例文帳に追加

An iron-diffusion preventing buffer layer 2 and a beta-iron silicide semiconductor thin film 3 are formed on one surface of a silicon substrate 1, and an antireflection dielectric layer 5 is formed on the other surface. - 特許庁

焼鈍時のアモルファス心内の焼鈍温度分布を調整するため、熱源である加熱機2aを、心1aの積層された薄膜アモルファス材間に挟んで、焼鈍を行う。例文帳に追加

In order to adjust the annealing temperature distribution within the amorphous core during an annealing operation, a heater 2a functioning as a heat source is provided between laminated thin-film amorphous elements of an iron core 1a, to anneal the iron core. - 特許庁

シリンダブロック基材のシリンダボア内面上に形成され、複数の系溶射粒子が層状に積み重なって形成された積層構造を有するシリンダブロック用系溶射薄膜である。例文帳に追加

The ferrous spray deposited thin film for the cylinder block is formed on an inner surface of a cylinder bore of a cylinder block base material and has a laminate structure in which a plurality of ferrous spray deposited particles are laminated in layers. - 特許庁

系溶射粒子は、シリンダブロック用系溶射薄膜の膜厚方向における粒子径が30μm以下であり、且つシリンダボアの軸方向における粒子径が30〜300μmである。例文帳に追加

The diameter of the ferrous spray deposited particles in the film thickness direction of the ferrous spray deposited thin film for the cylinder block is30 μm, and the particle diameter in the axial direction of the cylinder bore is 30-300 μm. - 特許庁

薄膜原料51であるハロゲン化を気化させたハロゲン化ガスと窒素を含有した窒素源ガス7とを反応させて窒化ガスを生成するステップと、この窒化ガスを大気圧中で基板61上に吸着させてエピタキシャル成長させることによって、窒化のエピタキシャル膜63を基板61上に生成するステップとを含んでなる方法である。例文帳に追加

The method includes the following steps: a step where an iron nitrogen gas is produced by reacting an iron halide gas vaporized from an iron halide, a thin film raw material 51, and a nitrogen source gas 7 containing nitrogen; and a step where an epitaxial film 63 of iron nitride is formed on a substrate 61 by epitaxially growing the above iron nitride gas adsorbed under the atmospheric pressure on the substrate 61. - 特許庁

また、前記金属薄膜は、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、またはこれらの合金からなり、前記転写フィルムに蒸着されていることを特徴とする。例文帳に追加

Further, it is characterized in that the metal thin film comprises aluminium, copper, gold, silver, nickel, iron or these alloys, and is deposited on the transfer film. - 特許庁

例文

電気メッキ方式により-ニッケル(Fe-Ni)合金層を形成させることで、より単純化された、安価な製造工程により、精密な湾曲値を持つ薄膜化されたバイメタルとこれを製造するための方法とを提供する。例文帳に追加

To provide a thinned bimetal having a precise curvature value manufactured by a simplified inexpensive production process, by forming an iron-nickel (Fe-Ni) alloy layer by means of an electric plating system, and a method of manufacturing the same. - 特許庁

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