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ACID-SOLUBLEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2190件
The chemical amplification type positive type resist composition contains an alkali-insoluble resin having a polymerization unit derived from a monomer of formula (I) and made alkali-soluble by the action of an acid and an acid generator.例文帳に追加
下式(I)で表されるモノマーから導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
This corrosion preventive dispersant is composed of a water soluble copolymer obtained by copolymerizing at least two kinds of monomers, unsaturated monocarboxylic acid and/or unsaturated dicarboxylic acid and specified (substituted) amino- or amino-alkyl(meta)acrylamide.例文帳に追加
この防食分散剤は、不飽和モノカルボン酸及び/又は不飽和ジカルボン酸と特定の(置換)アミノ−又はアンモニオ−アルキル(メタ)アクリルアミドとの少なくとも2種の単量体を共重合させた水溶性共重合体である。 - 特許庁
The photoresist remover composition for a copper wiring semiconductor substrate contains at least one of the ammonium salt of a polycarboxylic acid and the ammonium salt of an aminopolycarboxylic acid, a water-soluble organic solvent and water.例文帳に追加
ポリカルボン酸アンモニウム塩またはアミノポリカルボン酸アンモニウム塩の少なくともひとつと水溶性有機溶剤及び水を含有せしめたことを特徴とする、銅配線半導体基板用フォトレジスト剥離液組成物。 - 特許庁
The positive radiation-sensitive resin composition includes (A) a calix arene type compound of a specific structure, (B) a radiation-sensitive acid generator, and (C) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin having an acid-dissociable group.例文帳に追加
(A)特定構造のカリックスアレン型化合物、(B)感放射線性酸発生剤、及び(C)酸解離性基を有するアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂、を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
The chemical amplification type negative type resist composition for electron beams and/or for X-rays contains an alkali-soluble resin containing a specified structural unit, a radiation sensitive acid generating agent and a crosslinking agent which causes crosslinking under acid.例文帳に追加
特定の構造の単位を含むアルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有する電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The liquid crystal aligning agent for a horizontal electric field system liquid crystal display element contains a soluble polyimide, having an imide structure obtained by cyclodehydrating a polyamic acid prepared by making tetracarboxylic acid dianhydride react with diamine.例文帳に追加
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて得られるポリアミック酸を脱水環化させて得られるイミド構造を有する可溶性ポリイミドを含有する横電界方式液晶表示素子用液晶配向剤 - 特許庁
The aqueous surface-treating liquid comprises a water-soluble zirconium compound, a water-dispersible fine particulate silica, a silane coupling agent, a vanadic acid compound, a phosphoric acid compound, a nickel compound and an acrylic resin emulsion in a specified ratio.例文帳に追加
水系表面処理液は、水溶性ジルコニウム化合物、水分散性微粒子シリカ、シランカップリング剤、バナジン酸化合物、リン酸化合物、ニッケル化合物およびアクリル樹脂エマルションを特定の割合で含む処理液である。 - 特許庁
The composition contains: (A) a sulfonamide compound having a sulfonylated structure of a primary or secondary amino group with a sulfonic acid of sulfonic acid derivative; (B) an IR ray absorbent; and (C) an alkali-soluble resin.例文帳に追加
(A)1級または2級アミノ基をスルホン酸またはスルホン酸誘導体でスルホニル化した構造を有するスルホンアミド化合物、(B)赤外線吸収剤、及び(C)アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする。 - 特許庁
The powder bubble bath composition includes : (A) granulated material containing a lathering surfactant, an organic acid, and a water-soluble polymer, and (B) carbonic acid salt containing 75-100 mass% dialkali metal carbonate.例文帳に追加
次の成分(A)及び(B): (A)起泡性界面活性剤、有機酸及び水溶性高分子を含む造粒物 (B)炭酸ジアルカリ金属塩を75〜100質量%含む炭酸塩を含有する粉末バブルバス組成物。 - 特許庁
This resorption promoting technique carried out by means of using a preparation prepared by formulating an ester mixture of a 6-18C fatty acid glycerol ester with a 6-18C fatty acid macrogol ester to the water-soluble hardly resorptive/low resorptive drug.例文帳に追加
水溶性の難・低吸収性薬物にC6−18脂肪酸のグリセロールエステルとC6−18脂肪酸のマクロゴールエステルとのエステル混合物を配合することにより調製した製剤が、上記課題を解決した。 - 特許庁
This rapidly soluble formed product of the chlorinated isocyanuric acid is obtained by press forming a composition comprising (a) trichloroisocyanuric acid, (b) anhydrous sodium dichloroisocyanurate (c) magnesium sulfate and/or aluminum sulfate and (d) calcium carbonate.例文帳に追加
(a)トリクロロイソシアヌル酸、(b)ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム無水塩、(c)硫酸マグネシウム及び/又は硫酸アルミニウムと、(d)炭酸カルシウムを配合した組成物を加圧成形することにより、速溶性塩素化イソシアヌル酸成形物を得る。 - 特許庁
This W/O/W-type (a type comprising an inner water phase, an oil phase, and an outer water phase) emulsified skin preparation contains 4-20 pts.wt. of a sorbitan fatty acid ester and 1 pt.wt. of a saccharose fatty acid ester, wherein the inner water phase contains a water-soluble active ingredient.例文帳に追加
ソルビタン脂肪酸エステルとショ糖脂肪酸エステルとを質量比4/1〜20/1の割合で含有し、かつ内水相に水溶性有効成分を含有するW/O/W型乳化皮膚外用剤。 - 特許庁
The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound which is decomposed by the action of the acid and generates a carboxyl group in its molecule.例文帳に追加
(1)(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ水溶液に不溶性又は難溶性であり、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる性質を有するポリマー、及び、(C)酸の作用により分解して、分子内にカルボキシル基を発生する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The electroless gold plating liquid comprises 1.0 to 20 g/L water-soluble gold sulfite compound, 30 to 130 g/L at least one acid or a salt thereof selected from the group consisting of a water-soluble polyaminopolycarboxylic acid or a salt thereof and a hydroxyl acid or a salt thereof, and 5.0 to 50 g/L pyrogallol or a derivative thereof as a reducing agent.例文帳に追加
水溶性亜硫酸金化合物1.0〜20g/L、水溶性ポリアミノポリカルボン酸若しくはその塩とオキシ酸若しくはその塩とからなる群より選ばれる少なくとも1種類の酸若しくはその塩30〜130g/L、並びに、還元剤としてのピロガロール若しくはその誘導体5.0〜50g/Lを含んで成ることを特徴とする無電解金めっき液。 - 特許庁
This method for manufacturing a hydrotalcite-like compound comprises an extraction step of acid treating the dust generated from the electric furnace for producing calcium carbide to extract an acid-soluble metal component and a precipitation step of adding aluminum ions to a solution containing the acid-soluble metal component and adjusting pH to precipitate the generated product.例文帳に追加
カルシウムカーバイド製造用電炉から発生したダストを酸処理して酸可溶性の金属成分を抽出する抽出工程と、酸可溶性の金属成分を含む溶液にアルミニウムイオンを添加し、pHを調整して生成物を沈殿させる沈殿工程を備えることを特徴とするハイドロタルサイト様化合物の製造方法、及びその製造方法で製造したハイドロタルサイト様化合物である。 - 特許庁
The chemically amplified resist composition comprises a resin which comprises a structural unit, having an acid-labile group in a side chain and a structural unit represented by Formula (I) and having a lactone structure in a side chain, and which itself is insoluble or hardly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution due to the action of an acid; and an acid generator represented by Formula (II).例文帳に追加
酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに式(I)で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式(II)で表される酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁
The negative resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a crosslinker which crosslinks under an acid, (C) an alkali-soluble resin having a specified repeating unit and (D) an alkali-soluble resin having a structural unit derived from vinyl phenol.例文帳に追加
(A)活性光線または放射線の照射により、酸を発生する化合物、(B)酸により架橋する架橋剤、(C)特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、および(D)ビニルフェノール由来の構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
In the slime control method in the water system, hypochlorous acid and/or its water-soluble salt, bromide which emits bromine ions underwater and 5,5-dialkyl substituted hydantoin are added and mixed in the water system, and (A) the hypochlorous acid and/or its water-soluble salt and (B) N-monochloro-5,5-dialkyl substituted hydantoin are generated in the water system.例文帳に追加
次亜塩素酸及び/又はその水溶性塩、水中で臭素イオンを放出する臭化物、及び5,5−ジアルキル置換ヒダントインを水系に添加混合して水系において(A)次亜臭素酸及び/又はその水溶性塩と(B)N−モノクロロ−5,5−ジアルキル置換ヒダントインを生成させてなる水系におけるスライムコントロール方法。 - 特許庁
The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer having a specified repeating unit, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the action of an acid, (C) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (D) a specified quaternary ammonium salt.例文帳に追加
(A)特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)特定の4級アンモニウム塩、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The negative resist composition comprises an alkali-soluble polymer, a crosslinker which crosslinks with the alkali-soluble polymer under the action of an acid and an onium salt compound which comprises a cationic moiety having at least one phenolic hydroxy group and a specified anionic moiety and generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加
アルカリ可溶性ポリマー、酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The water-soluble anion-type polymer antistatic coating agent comprises an alkali salt comprising blending a copolymer of acrylamide-tert-butyl sulfonic acid and a (meth)acrylic acid monomer, and is added with 4-6% of a solid weight ratio of zinc acetate or magnesium acetate to make a water-soluble anion-type polymer antistatic coating agent.例文帳に追加
アクリルアミド−ターシャルブチルスルフォン酸とアクリル酸(メタを含む)モノマーとの共重合体を配合して成るアルカリ塩から成る水溶性アニオン型高分子帯電防止塗布剤であって、これに固形分重量比4〜6%の酢酸亜鉛または酢酸マグネシウムを添加して水溶性アニオン型高分子帯電防止塗布剤とする。 - 特許庁
The oil-soluble polymeric compound which is insoluble in water or a water-ethanol solution and soluble or swellable in any one of isopropyl alcohol, toluene and ethyl acetate is provided by introducing a polymerizable group into pyroglutamic acid to thereby convert the pyroglutamic acid to a polymerizable monomer, and copolymerizing this polymerizable monomer with another polymerizable monomer.例文帳に追加
ピログルタミン酸に重合性基を導入して重合性単量体化し、他の重合性単量体と共重合させることにより、水又は水エタノール溶液に不溶であり、イソプロピルアルコール、トルエン、酢酸エチルのいずれかに可溶若しくは膨潤する性質を有する油溶性高分子化合物を提供する。 - 特許庁
The positive photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(C)特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The positive resist composition comprises a resin having polymerization units expressed by general formulae (I) and (II) or polymerization units expressed by general formulae (I), (II) and (III), and the resin itself is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution but converted into soluble by the effect of an acid, and an acid generator and a polyfunctional epoxy compound.例文帳に追加
一般式(I)および(II)で表される重合単位、または、一般式(I)、(II)および(III)で表される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶または難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
Also, another slime control method consists of forming hypobromous acid and/or its water soluble salt, and an N-monochloro-5,5-dialkyl-substituted hydantoin, in a water system, by that hypochlorous acid and/or its water soluble salt, bromide for releasing bromide ions in water and 5,5-dialkyl-substituted hydantoin are added to a water system and mixed.例文帳に追加
次亜塩素酸及び/又はその水溶性塩、水中で臭素イオンを放出する臭化物、及び5,5−ジアルキル置換ヒダントインを水系に添加混合して水系において(A)次亜臭素酸及び/又はその水溶性塩と(B)N−モノクロロ−5,5−ジアルキル置換ヒダントインを生成させてなる水系におけるスライムコントロール方法。 - 特許庁
The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a specified sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加
(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定のスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
This tablet is obtained by cover-treating a mixture powdery material containing a medicinally effective ingredient and water soluble saccharides with a water soluble polymer solution dispersed with one, two or more substances selected from stearic acid, stearyl alcohol or a stearic acid monoester and then compression-forming, and the method for producing the same is also provided.例文帳に追加
薬効成分および水溶性糖類を含む混合物粉体を、ステアリン酸、ステアリルアルコールもしくはモノステアリン酸エステルから選ばれる1種若しくは2種以上の物質を分散させた水溶性高分子溶液で被覆処理した後、圧縮成形することにより得られる錠剤およびその製造法。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble and becomes alkali- soluble under the action of an acid and (D) a chain compound having three or more hydroxyl groups or substituted hydroxyl groups.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The liquid washing auxiliary composition comprises a water-soluble silver salt (a), at least one amino acid (b) selected between histidine and alginin and water, and is characterized by having a molar ratio, (b)/(a), of the amino acid (b) to the silver ion in the water-soluble silver salt (a) of 5-50, and a pH of 5-11.例文帳に追加
水溶性銀塩(a)と、ヒスチジンおよびアルギニンから選択される少なくとも一種のアミノ酸(b)と、水とを含有し、前記水溶性銀塩(a)中の銀イオンと前記アミノ酸(b)とのモル比(b)/(a)が(b)/(a)=5〜50であり、かつ、pHが5〜11であることを特徴とする液体洗濯助剤組成物。 - 特許庁
In the production method by which the polyamidine-based water-soluble polymer is generated by lowering pH of the reaction product by an acid after a Hofmann reaction of a copolymer of a (meth)acrylamide monomer and a (meth)acrylonitrile, the polyamidine-based water-soluble polymer can be stably produced by coexistence of a reducing agent upon addition of the acid.例文帳に追加
(メタ)アクリルアミド単体と(メタ)アクリロニトリルとの共重合物をホフマン反応後、酸により反応物pHを低下させることによりポリアミジン系水溶性高分子を生成させる製造方法において、酸添加時に還元剤が共存していることによりポリアミジン系水溶性高分子を安定性良く製造することができる。 - 特許庁
The vesicle composition comprises one or two or more vesicle film-forming substances, selected from among phospholipids, sucrose fatty acid esters and acylamino acid metal salts, and a water-soluble polymer, and is prepared by a vesicle formation treatment under high pressure in the presence of the water-soluble polymer.例文帳に追加
リン脂質、ショ糖脂肪酸エステルおよびアシルアミノ酸金属塩から選ばれるベシクルの膜形成物質の1種又は2種以上と、水溶性高分子とを含有するベシクル組成物であって、ベシクル形成の際に水溶性高分子を存在せしめ、かつ高圧処理することにより得られることを特徴とするベシクル組成物。 - 特許庁
The negative type radiation sensitive resin composition contains (a) an alkali-soluble resin, (b) a radiation sensitive acid generating agent, (c) a compound crosslinkable with the alkali-soluble resin (a) in the presence of an acid and (d) a mixed solvent containing an alkyl lactate and a propylene glycol alkyl ether and/or a propylene glycol alkyl ether acetate.例文帳に追加
(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)感放射線性酸発生剤、(c)酸の存在下で(a)のアルカリ可溶性樹脂を架橋しうる化合物及び(d)乳酸アルキルエステルと、プロピレングリコールアルキルエーテル及び/又はプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートとを含有してなる混合溶剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) a phenolic polymer which is insoluble or slightly soluble in an alkaline developer and becomes soluble in an alkaline developer by the action of an acid; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an electron beam, an X-ray or EUV light; and (C) a solvent having a boiling point of ≥160°C.例文帳に追加
(A)アルカリ現像液は不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有するフェノール性ポリマー、 (B)電子線、X線、又はEUV光の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)沸点160℃以上の溶剤を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
In the radiation sensitive resin composition, an acid-dissociable-group-containing resin (A) which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble but becomes readily alkali-soluble under the action of an acid contains a mixture of a copolymer (A1) and a copolymer (A2) each including a repeating unit represented by specified formula and a repeating unit represented by specified formula.例文帳に追加
アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(A)が、特定式で表される繰返し単位および特定式で表される繰返し単位を含む共重合体(A1)および共重合体(A2)との混合物を含有する。 - 特許庁
This solution is obtained by incorporating (a) at least one selected from carteolol and acid addition salts thereof, (b) at least one acrylic polymer selected from linear polyacrylic acid and pharmaceutically acceptable salts thereof, and (c) at least one selected from water-soluble alkali metal salts and water-soluble amines.例文帳に追加
本発明の水溶性点眼液は、(a) カルテオロール及びその酸付加塩から選ばれた少なくとも1種、(b) 直鎖型ポリアクリル酸及びその医薬的に許容される水溶性塩から選ばれた少なくとも1種のアクリルポリマー、並びに (c) 水溶性のアルカリ金属塩及び水溶性アミンから選ばれた少なくとも1種を含有する。 - 特許庁
The positive photoresist composition contains a compound (A) generating an acid by the irradiation with active ray or radial ray, a resin (B) made to be alkali soluble from insoluble or hardly soluble in alkali by the action of the acid and a nitrogen-containing compound (C) having at least one specific nitrogen-containing partial structure in the molecule.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(C)特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The entry sheet for boring with a drill is obtained by forming a resin composition layer including: a water soluble resin (a); one or more water-soluble substances (b) selected from a group of polyhydric alcohols, amino acid derivative alcohols, organic acids and organic salts; and a water soluble lubrication material (c), on a sheet-like base material.例文帳に追加
シート状の基材に、水溶性樹脂(a)と、多価アルコール類、アミノ酸誘導体アルコール類、有機酸類および有機塩類からなる群から選択された1種もしくは2種以上の水溶性物質(b)ならびに水溶性滑材(c)を含有する樹脂組成物層を形成したドリル穴明け用エントリーシート。 - 特許庁
The entry sheet for boring the drilled hole is composed by forming a resin composition layer including a water soluble resin (a), one or a plurality of water soluble materials (b) selected from a group of polyhydric alcohols, amino acid derivative alcohols, organic acids, and organic salts, and a water soluble lubrication material (c) on a sheet-like base material.例文帳に追加
シート状の基材に、水溶性樹脂(a)と、多価アルコール類、アミノ酸誘導体アルコール類、有機酸類および有機塩類からなる群から選択された1種もしくは2種以上の水溶性物質(b)ならびに水溶性滑材(c)を含有する樹脂組成物層を形成したドリル穴明け用エントリーシート - 特許庁
This entry sheet for boring the drilled hole, forms a resin composition layer including (a) a water soluble resin, (b) one kind or two kinds or more of water soluble substances selected from a group composed of polyvalent alcohols, amino acid derivative alcohols, organic acids and organic salts and (c) a water soluble lubricant, on a sheet-like base material.例文帳に追加
シート状の基材に、水溶性樹脂(a)と、多価アルコール類、アミノ酸誘導体アルコール類、有機酸類および有機塩類からなる群から選択された1種もしくは2種以上の水溶性物質(b)ならびに水溶性滑材(c)を含有する樹脂組成物層を形成したドリル穴明け用エントリーシート。 - 特許庁
This electroconductive composition includes (A) a water soluble electroconductive polymer having a sulfonic acid group and/or a carboxy group, and a water soluble polymer compound other than (A) the water soluble electroconductive polymer, and/or (B) a water dispersible polymer compound, (C) nanofibers having ≥10^6 Ω cm volume specific resistance and (D) an aqueous medium.例文帳に追加
スルホン酸基および/またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー(A)と、前記水溶性導電性ポリマー(A)以外の水溶性高分子化合物および/または水分散性高分子化合物(B)と、体積固有抵抗が10^6Ω・cm以上のナノファイバー(C)と、水性媒体(D)を含有する導電性組成物。 - 特許庁
The IR curable composition contains (a) an alkali-soluble resin obtained by reacting a compound having an epoxy group with an α,β-unsaturated carboxylic acid compound and modifying the resulting product with a polybasic acid and/or a polybasic acid anhydride, (B) an IR, absorbent and (C) a polymerization initiator.例文帳に追加
(a)エポキシ基を有する化合物にα、β−不飽和カルボン酸化合物を反応させ、さらに、多塩基酸及び/又は多塩基酸無水物で変性させたアルカリ可溶性樹脂、(b)赤外吸収剤及び(c)重合開始剤を含有することを特徴とする赤外光硬化性組成物。 - 特許庁
The easily alkali soluble polyester component 2 is a polylactic acid stereocomplex made of a poly-L-lactic acid having 70-100% optical purity with a poly-D-lactic acid having 70-100% optical purity in (30/70)-(70/30) ratio and having ≥180°C crystal melting initiation temperature.例文帳に追加
前記アルカリ易溶性ポリエステル成分2は、光学純度70%〜100%のポリL乳酸と光学純度70%〜100%のポリD乳酸とが30/70〜70/30の比率で構成された結晶融解開始温度180℃以上のポリ乳酸ステレオコンプレックスである。 - 特許庁
The photosensitive resin composition comprises: (A) a soluble polyimide including acid dianhydride residues and diamine residues, including a pyromellitic acid dianhydride residue by ≥50 mol% in the acid dianhydride residues, and having a weight average molecular weight of ≥10,000 and ≤30,000; and (B) a photosensitive component.例文帳に追加
(A)酸二無水物残基とジアミン残基を有し、ピロメリット酸二無水物残基を酸二無水物残基中50mol%以上有する、重量平均分子量が10,000以上30,000以下の可溶性ポリイミドおよび(B)感光性成分を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁
The resist material includes a polymer that turns soluble in an alkaline solution after reaction with acid, a PAG that decomposes to form acid after absorption of radiation energy, and a quencher capable of neutralizing acid and having a reduced mobility, wherein the quencher has a concentration in the resist higher than 0.5 wt.%.例文帳に追加
レジスト材料は、酸と反応した後にアルカリ性溶液に溶解するポリマーと、照射エネルギーを吸収した後に、分解して酸を形成するPAGと、酸を中和し、移動度が低いクエンチャーとを含み、クエンチャーは、レジスト内の濃度が0.5重量%よりも高い。 - 特許庁
The rust-preventive agent for treating a metal surface has a composition containing a water-soluble resin and water as main components, wherein at least one selected from the group of thiosulfuric acid ion, sulfurous acid ion and bisulfurous acid ion is contained in an amount of 0.1-10 wt.% based on the solid resin content.例文帳に追加
水性樹脂および水を主成分とする組成物で、かつ樹脂固形分に対してチオ硫酸イオン、亜硫酸イオンおよび亜硫酸水素イオンから選ばれる少なくとも1種類以上を0.1〜10wt%含有する金属表面用防錆処理剤を、塗布、乾燥する。 - 特許庁
The organic synthesis is carried out by Lewis acid catalytic reaction through using a water soluble Lewis acid catalyst composed of the anion of heteropoly acid substituted by at least one metal (element) selected from among the 3rd group and 4th group in a periodic table in the organic solvent containing the water solution or water.例文帳に追加
水溶液、または水を含有する有機溶媒中において、周期表の第3及び第4族から選ばれる少なくとも1種の金属(元素)によって置換されたヘテロポリ酸アニオンからなる水溶性ルイス酸触媒を用いてルイス酸触媒反応を行い有機合成する。 - 特許庁
This alkali-soluble resin is characterized by being a (C) reactional product obtained by reacting (A) a compound having at least one epoxy group with (B) a monocarboxylic acid compound and further reacting the resultant reactional product with a polycarboxylic acid having ≥2 carboxyl groups and/or a polycarboxylic acid anhydride.例文帳に追加
本発明のアルカリ可溶性樹脂は、少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(A)とモノカルボン酸化合物(B)との反応生成物に、更にカルボキシル基を2個以上有するポリカルボン酸及び/又はポリカルボン酸無水物を反応させて得られる反応生成物(C)であることを特徴とする。 - 特許庁
This fluidization method of the soil cement slurry uses a material in which a fluidizing agent, which consists of a specific water-soluble vinyl copolymer and/or a polyacrylic acid salt and an alkali metal salt of diphosphoric acid and/or an alkali metal salt of triphosphoric acid, is incorporated into the cement milk so as to become a proportion of 0.5-25 kg per 1 m^3 of soil.例文帳に追加
特定の水溶性ビニル共重合体及び/又はポリアクリル酸塩と、第二リン酸アルカリ金属塩及び/又は第三リン酸アルカリ金属塩とから成る流動化剤を、土壌1m^3当たり0.5〜25kgの割合となるよう、セメントミルクに含有させて用いた。 - 特許庁
The composition for etching silicon nitride which contains phosphoric acid, a soluble silicon compound, nitric acid and/or nitrate, and water and contains no hydrofluoric acid has a high etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide and is free of a problem of redeposition of silicon oxide when a batch process is repeated.例文帳に追加
リン酸、可溶性ケイ素化合物、硝酸及び/又は硝酸塩、水を含んでなり、しかもフッ酸を含有しない窒化ケイ素のエッチング用組成物では、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比が高く、なおかつバッチ処理を繰り返した場合における酸化ケイ素の再析出の問題がない。 - 特許庁
The potassium salt of the water soluble polymer to become the binder is selected from a potassium salt of polyacrylic acid, a potassium salt of an acryl amide-acrylic acid copolymer, a potassium salt of an acryl amide-acrylic acid-acrylic ester copolymer, a potassium salt of carboxyl methyl cellulose and a potassium salt of xanthan gum is used.例文帳に追加
前記バインダとなる水溶性ポリマーのカリウム塩が、ポリアクリル酸のカリウム塩、アクリルアミド−アクリル酸共重合体のカリウム塩、アクリルアミド−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体のカリウム塩、カルボキシメチルセルロースのカリウム塩、キサンタンガムのカリウム塩から選ばれるものを用いることができる。 - 特許庁
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