「Developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

A resist composition contains a base component (A) whose solubility to a developing solution is changed by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, and the base component (A) contains a high molecular compound (A1) having a structural unit (a5) represented by a general formula (a5-1).例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound of a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterised by containing: (A) a resin which has at least one kind of repeating unit having at least two groups of specified structures and which increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも２つ有する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The chromatography analytical method includes the steps of: fixing a reactant (for example, a biomaterial such as a capture antibody 4, and the like) reacting to a test material 5 to a predetermined position; developing a test solution 6 containing the test material 5; and combining and detecting the test material 5 by a reaction to the reactant (for example, an antigen-antibody reaction to the capture antibody 4).例文帳に追加

所定の位置に被検物質５と反応する反応物質（例えば捕捉抗体４等の生体材料）が固定され、被検物質５を含む被験溶液６を展開し、反応物質との反応（例えば捕捉抗体４との抗原抗体反応）により被検物質５を結合し検出するクロマト分析法である。 - 特許庁

A resist 104 on an aluminum pad 102 formed on a semiconductor substrate 100 is patterned to expose the pad 102 by using a resist developing solution containing at least one kind of compound selected from a group consisting of triazole, benzimidazole, benzothiazole, thiadiazole and derivatives of these.例文帳に追加

トリアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、チアジアゾール、およびこれらの誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むレジスト現像液を用いて、半導体基板１００上に形成されたアルミニウムのパッド１０２上のレジスト１０４を所定形状にパターニングし、パッド１０２を露出させる。 - 特許庁

The amine compound-containing developing solution is preferably a primary amine compound such as polyallylamine, monomethanolamine or monoethanolamine, a secondary amine compound such as dimethylamine, diethylamine, dimethanolamine or diethanolamine, a tertiary amine compound such as trimethylamine, tryethylamine, trimethanolamine or triethanolamine, or a quaternary amine compound such as tetramethylamine hydroxide.例文帳に追加

アミン化合物含有現像液は、ポリアリルアミン、モノメタノールアミン、モノエタノールアミン等の第１級アミン化合物、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン化合物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン等の第３級アミン化合物、水酸化テトラメチルアミン等の第４級アミン化合物が好ましい。 - 特許庁

An original plate for a planographic printing plate having a hydrophilic layer comprising a high molecular compound bonded directly chemically to the surface of the support and has a hydrophilic functional group and an image forming layer in order on the support is imagewise exposed and then developed with a developing solution containing an alkali metallic silicate as a principal component.例文帳に追加

支持体上に、支持体表面と直接化学的に結合しかつ親水性官能基を有する高分子化合物からなる親水性層と画像形成層とを順に有する平版印刷版用原版を画像露光後、アルカリ金属珪酸塩を主成分とする現像液で現像処理する。 - 特許庁

In the processing method in which a planographic printing plate having at least a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized aluminum substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, a developing solution used contains an alkaline earth metal and glycerol or polyglycerol.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する方法において、該現像液がアルカリ土類金属と、グリセリンまたはポリグリセロールを含有することを特徴とする平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁

To provide a composition for forming a base blocking antireflection film, the composition which has excellent coating property and significantly suppresses production of microbubbles and which results in an antireflection film sufficiently decreasing a standing wave effect and having excellent solubility with water and a developing solution, and to provide a method for forming a resist pattern using the above composition.例文帳に追加

優れた塗布性を有し、マイクロバブルの発生が著しく抑制され、形成された反射防止膜が定在波効果を十分低減でき、かつ水および現像液に対する溶解性に優れた塩基遮断性反射防止膜形成用組成物、並びに当該組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains: (A) a resin having an alicyclic structure and showing changes in a dissolving rate with a developing solution by an action of an acid; (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound expressed by general formula (EA).例文帳に追加

本発明に係るレジスト組成物は、（Ａ）脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、（Ｃ）下記一般式（ＥＡ）により表される化合物とを含有したレジスト組成物。 - 特許庁

In the method for manufacturing a planographic printing plate, a negative type photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer containing (a) a diazo resin and (b) an organic polymer, preferably a modified polyvinyl acetal resin having an acid group on the base is imagewise exposed and developed with an aqueous alkali developing solution containing ≥200 mmol/l alkanolamine.例文帳に追加

(a)ジアゾ樹脂及び(b)有機高分子、好ましくは酸基を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を含む感光層を支持体上に有するネガ型感光性平版印刷版を、画像露光した後、アルカノールアミンを２００mmol/L以上含むアルカリ水現像液で現像処理する平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

The positive resist composition includes a base component (A) of which the solubility in an alkali developing solution increases under the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymer compound (A1) having a constitutional unit (a0) represented by general formula (a0-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has at least one repeating unit selected from units expressed by general formulae (I) to (III) and increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記の一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）から選択される少なくとも１つの繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A resist film with an almost uniform film thickness is formed on the surface of a wafer by supplying a resist solution to the surface of the wafer, the resist film on the surface of the wafer is selectively exposed, and after developing the resist film formed on the surface of the wafer, fine ruggedness is formed on the surface of the resist film.例文帳に追加

ウエハの表面にレジスト液が供給されることにより、ウエハの表面にほぼ均一な膜厚のレジスト膜が形成されて、そのウエハの表面のレジスト膜が選択的に露光され、さらにウエハの表面のレジスト膜の現像が行われた後、レジスト膜の表面に微細な凹凸が形成される。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble resin excellent in high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, adhesion to substrate and the like, and useful for forming a patterned resin films obtained by developing with an alkali aqueous solution, and to provide a positive type photosensitive resin composition containing the resin.例文帳に追加

高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なアルカリ可溶性樹脂及びそれを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method by which easy plate making is attained without requiring an alkaline developing solution, practical printed image quality and printing resistance are ensured while improving discrimination between the image area and non-image area of a printing surface and good image quality can be provided even when the resulting planographic printing plate is repeatedly regenerated and used.例文帳に追加

アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が更に改良された実用レベルの印刷画質及び耐刷性を有し、さらに平版印刷版を繰り返し再生して使用しても良好な画質を提供することのできる印刷方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an easy evaluation method for easily judging the platemaking conditions of a positive lithographic printing original plate for IR laser for direct plate making, in particular, for judging the activity state of a developing solution, and to provide a quality control method for keeping the quality of the lithographic printing plate constant by using the evaluation result as a feedback to the exposure/development process.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の活性状態を容易に判定する簡易な評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

3. There is a risk that the suspension of the round would jeopardize the multilateral free trade system and undermine sustainable growth of the world economy. The business community around the world is strongly expressing a keen interest in an early conclusion of the round. Moreover, suspension of the round would be a serious hindrance for the sound development of the developing countries as well as in finding a solution to the issue of poverty in the world. 例文帳に追加

３．交渉の停滞は、多角的な自由貿易体制を揺るがせにし、世界経済の持続的な成長を危うくしかねません。各国産業界のラウンド終結への声は強いものがあります。加えて、途上国の開発にとって、また世界の貧困問題の解決にとっても、大きなマイナスです。 - 経済産業省

In order to ensure that these movements of the labor force lead to the development of all of East Asia, it is desirable to design rules that contribute to the solution of the twin problems of changes in the social structure resulting from a falling birthrate and an aging society in the region's developed countries and the lag in human resources development in the region's developing countries.例文帳に追加

こうした労働力の移動を東アジア全体の発展につなげていくためには、域内先進国における少子高齢化の進展等に伴う社会構造の変化と、域内途上国における人材開発の遅れの双方の問題解決に資するようなルールの設計が望まれる。 - 経済産業省

A silver halide color photographic sensitive material containing a coupler which couples with the oxidized body of a developing agent and releases a photographically useful group or its precursor by intramolecular substitution by a nitrogen atom derived from the developing agent in a product of the coupling and combining directly to the coupling position is color-developed with ≤390 ml/m2 replenisher solution and/or for <2.5 min development time.例文帳に追加

現像主薬酸化体とのカップリング反応により、カップリング反応の生成物における現像主薬由来でカップリング位に直接結合した窒素原子による分子内置換反応によって写真性有用基またはその前駆体を放出するカプラーを含有する感光材料を、補充量が３９０ｍｌ／ｍ^2 以下、現像時間が２．５分以内又はその両方で発色現像を行うことを特徴とする、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

A planographic printing original plate with a photosensitive composition layer containing at least a phohothermal conversion material which absorbs light and converts it to heat and an alkali-soluble organic high-molecular substance on the substrate is produced by following steps, (a) imagewise exposure, (b) developing with an alkaline developing solution and (c) washing with water containing a chelate forming material.例文帳に追加

支持体上に、光を吸収して熱に変換する光熱変換物質、およびアルカリ可溶性有機高分子物質を少なくとも含有する感光性組成物層を具備する平版印刷版の製版方法において、前記製版方法が少なくとも(a) 画像様露光工程、(b) アルカリ性現像液を用いた現像工程及び、(c) 水洗工程を含み、かつ、前記水洗工程で用いる水洗水がキレート形成性物質を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The original plate has an underlayer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin and an upper heat sensitive layer containing a water- insoluble and alkali-soluble resin and an IR absorbing dye and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by heating in order on a hydrophilic support, both the underlayer and upper heat sensitive layer separately contain different IR absorbing dyes and the original plate is imagewise exposed and then developed with an alkali developing solution.例文帳に追加

親水性支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収染料を含有し、加熱によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層とを、順次積層して有し、前記下層及び上部感熱層の両方にそれぞれ異なる赤外線吸収染料を含有することを特徴とし、画像様に露光した後、アルカリ現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加

反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid-generator component (B) includes an acid generator (B1) composed of a compound having a base dissociable group within a cation moiety.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The positive-acting photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an onium salt compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one of a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type pbotoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure and (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The recording material using an electrochromic (EC) material, is characterized in that an liquid EC material solution obtained by dissolving the EC material and a support electrolyte or the like in a nonqueous organic solvent is used as a color developing layer to impregnate air holes of a white solid-state high polymer porous film with them.例文帳に追加

記録材料としてエレクトロクロミック（ＥＣ）材料を用いた記録用材料に於いて、ＥＣ材料及び支持電解質等を非水系有機溶媒に溶解した液状のＥＣ材料溶液を、白色固体高分子多孔質膜の空孔中に含浸させ発色層として用いることを特徴とする記録表示材料を提供する。 - 特許庁

In the method for fabricating the Lippmann hologram by recording a first-stage hologram of an object T in a silver salt material 1, reproducing an object image from the first-stage hologram, disposing a photopolymer close to the reproduced object image and recording the image as a second-stage volume hologram, a developer solution containing catechol as a developing agent is used to develop the first-stage hologram.例文帳に追加

銀塩材料１に物体Ｔの１段目のホログラムを記録し、その１段目のホログラムから物体像を再生させ、その再生物体像近傍にフォトポリマーを配置して２段目の体積ホログラムとして記録するリップマンホログラムの作製方法において、現像液としてカテコールを現像主薬とする現像液を用いて１段目のホログラムを現像する。 - 特許庁

In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer comprising a compound having an addition polymerizable ethylenically unsaturated bond, a titanocene photopolymerization initiator and a coloring pigment on a support is exposed and developed with a developing solution containing soybean polysaccharide.例文帳に追加

付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、チタノセン系光重合開始剤及び着色顔料を含有する光重合性感光層を支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、大豆多糖類を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The alkali negative developing photosensitive resin composition is characterized in comprising (a) a photosensitive polyimide precursor having aromatic and alicyclic skeletons and soluble with an alkali aqueous solution because of having a reactive unsaturated functional group and an acid functional group, (b) an addition polymerizable compound containing a reactive unsaturated functional group as a substituent, and (c) a photosensitive agent.例文帳に追加

(a)芳香族および脂環式骨格を有し、かつ反応性不飽和官能基および酸官能基を有することでアルカリ水溶液に可溶である感光性ポリイミド前駆体(b)置換基として反応性不飽和官能基を含む付加重合性化合物、及び(c)感光剤からなることを特徴とするアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified bridged alicyclic structure and repeating structural units each having a specified acetal structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、（ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）有機カルボン酸化合物、（ｄ）塩基性化合物、及び（ｅ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

In a waste liquid treatment method where waste developing solution is vacuum evaporated at 2-5 kPa and at <30°C to be separated into an unexposed resin component and a condensate, the residual moisture content in the waste developer after the evaporation is concentrated to 10-20%, and then taken out to be discarded as fluid waste.例文帳に追加

現像廃液を気圧が２〜５ｋＰａ、且つ温度が３０℃未満で減圧蒸発せしめて、未露光部の樹脂成分と凝縮液とに分離する廃液処理方法であって、蒸発後の現像廃液中の残存水分率を１０〜２０％の間に濃縮した後に取り出して流動性廃棄物として廃棄することを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which has a cationic moiety having at least one phenolic hydroxyl group and a specified anionic moiety and which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される塩基性化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition includes: a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of an acid; an acid-generator component (B) which generates an acid upon exposure; and a polymeric compound (F1) having a structural unit (f1) containing a base dissociable group and a sulfamoyloxyadamantyl methacrylate structural unit (f2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）およびスルファモイルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ｆ２）を有する高分子化合物（Ｆ１）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) an acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）特定の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a liquid developing agent which has a melting point at 40°C or higher and at a fixing temperature or lower as a solid plasticizer to plasticize a binding resin contained in toner particles, and is dissolved in a carrier liquid at the melting point or higher but is not dissolved in the carrier solution below the melting point, and suppresses the set-off of an image compared with such a case that the solid plasticizer is not used.例文帳に追加

トナー粒子が含有する結着樹脂を可塑化する固体可塑剤として、４０℃以上定着温度以下の融点を有し、かつ、前記融点以上で前記キャリア液体に溶解し、前記融点未満ではキャリア液体に溶解しない固体可塑剤を用いない場合に比べ、画像の裏移りを抑制する液体現像剤を提供する。 - 特許庁

The resist composition comprises: a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To obtain the positive silicone-containing photosensitive composition high in sensitivity and resolution, especially in manufacture of semiconductor devices by incorporating a specified polymer insoluble in water and soluble in alkaline solutions and polymer or the like having the property that the solubility in an alkaline developing solution is increased by action of acids.例文帳に追加

Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することであり、詳しくは高感度で且つ高い解像力を有し、更に、特に０．２μｍ以下の微細パターンに於ける現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を与える感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The inkjet recording paper sheet is coated with an ink fixing agent or provided with at least one layer of an ink absorbing layer, an ink fixing layer and a gloss developing layer on the support for inkjet recording, which is subjected to a surface treatment with a coating solution containing at least active silica on the surface of the base paper consisting essentially of cellulose pulp.例文帳に追加

主成分としてセルロースパルプからなる原紙の表面に、少なくとも活性珪酸を含む塗液で表面処理したことを特徴とするインクジェット記録用支持体上に、インク定着剤を塗工、または、インク吸収層、インク定着層、光沢発現層の少なくとも1層を設けたことを特徴とするインクジェット記録用紙である。 - 特許庁