「Developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a color liquid crystal display panel capable of preventing the corrosion etc., of a reflection layer in a simple manner without increasing manufacturing processes, since the reflection layer is heretofore corroded by an alkaline developing solution at the time of developing a color filter layer in manufacturing the transflective color liquid crystal display panel provided with the reflection layer on a color filter substrate side.例文帳に追加

カラーフィルター基板側に反射層を備えた半透過型カラー液晶表示パネルの製造において、カラーフィルター層の現像の際にそのアルカリ現像液により反射層が腐食されていたため、製造工程を増やすことなく簡便に、反射層の腐食等を防止することができるカラー液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color developing service solution for a silver halide color photosensitive material with which a sufficiently high maximum density can stably be kept even when a small amount of a silver halide photosensitive material is processed, and which ensures excellent white ground properties of an unexposed portion and reduces the occurrence of tar in a color developing tank, and to provide a processing method for a silver halide color photosensitive material.例文帳に追加

ハロゲン化銀感光材料の処理量が少なくても安定して十分な最高濃度が保持でき、未露光部の白地性に優れており、発色現像処理槽でのタールの発生が軽減したハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像使用液およびハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

An original plate of a planographic printing plate having a hydrophilic layer comprising a high molecular compound bonded directly chemically to the surface of the support and has a hydrophilic functional group and an image forming layer in order on the support is imagewise exposed and developed with a developing solution which is an aqueous solution containing an alkali agent, an organic solvent and an anionic surfactant.例文帳に追加

支持体上に、支持体表面と直接化学的に結合しかつ親水性官能基を有する高分子化合物からなる親水性層と画像形成層とを順に有する平版印刷版原版を画像露光後、アルカリ剤、有機溶剤、及びアニオン界面活性剤を含む水溶液である現像液で現像処理する。 - 特許庁

An image forming method comprises a process for preparing the image forming member containing catalyst center and a water- permeable matrix, but not containing substantially photosensitive silver halide and a process for applying at least one kind of soluble coloring matter-forming coupler solution and a developing solution in the image formed on the image forming member.例文帳に追加

本発明による画像形成方法は、触媒中心と透水性マトリックスとを含む層を少なくとも一層含むが、実質的に感光性ハロゲン化銀を含まない画像形成部材を用意する工程と、前記画像形成部材に、少なくとも一種の可溶性色素生成性カプラーの溶液と現像液とを像様適用する工程とを含んで成る。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.例文帳に追加

ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁

The material for developing high organic affinity, bioactivity or biological absorbability as the composition cured by contacting with the aqueous solution as the slurry, paste or putty-like composition is prepared by dissolving a biocompatible organic polymer soluble in an organic solvent and insoluble in water in the organic solvent soluble in water and mixing the solution with the biocompatible filler.例文帳に追加

有機溶剤に可溶で水に不溶な生体適合性有機高分子を水と相溶する有機溶剤に溶かしてこれに生体適合性充填材を混合して、スラリー、ペースト又はパテ様組成物とした、水溶液に接することにより硬化する組成物であって、高い生体親和性や生体活性、生体吸収性を発現する材料を調製する。 - 特許庁

To provide a processing solution which has fixability for photosensitive materials capable of preventing the deposition matter from slicking onto drive gears and conveyance rollers of an automatic developing machine even in processing with low replenishing and thereby capable of lowering the concentration of ammonium cation in the processing solution without the occurrence of an abrasion and adhesion of a foreign matter of the sensitive material and a processing method using the same.例文帳に追加

低補充化処理においても自動現像機における駆動ギアや搬送ローラー上での固着物の付着を防止でき、さらにこれにより感材のスリ傷及び異物付着の発生を起こさず、処理液中のアンモニウムカチオン濃度を低減できる感光材料用の定着能を有する処理液及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

A method for producing the top coat film for lithography comprises: dissolving a polymer having one or more kinds selected from fluorocarbinol group which may be protected, sulfonic group, fluoroalkyl sulfonic group, and carboxylic group in its molecule and dissolving in an alkali developing solution, in an organic solvent containing an alkane hydrocarbon solvent in an amount of ≥40 wt.%; and then applying the resulting solution onto the photoresist film.例文帳に追加

保護しても良いフルオロカルビノール基、スルホン酸基、フルオロアルキルスルホン酸基、カルボキシル基を一種以上分子内に有し、かつアルカリ現像液に溶解する高分子を、アルカン類炭化水素溶媒が４０重量％以上含有される有機溶媒に溶解し、フォトレジスト膜上に塗布するリソグラフィー用トップコート膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a silver-based liquid inorganic antibacterial agent presenting silver or a silver compound in a water soluble silicic acid solution in a good stability, without developing poor dispersion of the silver or silver compounds in the water soluble silicic acid solution, and maintaining the attaching property toward fibrous products or plants becoming the objectives of antibacterial treatments, even without using a binder separately.例文帳に追加

水溶性珪酸溶液中において銀もしくは銀化合物が分散不良を起こさず、水溶性珪酸溶液中に銀もしくは銀化合物が安定良く存在し、別途バインダーを用いなくても抗菌処理の対象となる繊維製品や植物に対する付着性を維持させる銀系液体無機抗菌剤を提供する。 - 特許庁

The optical pattern etching method includes steps of: forming a photosensitive hydrofluoric acid etching material on a semiconductor or quartz glass substrate; exposing the substrate along a pattern; heating the substrate; subjecting the substrate to development by using an alkali developing solution; and subjecting the substrate to hydrofluoric acid etching by using a solution having ≥30% to ≤50% concentration of hydrofluoric acid.例文帳に追加

光パターンエッチング方法は、半導体または石英ガラスからなる基板上に感光性フッ酸エッチング材料を形成する工程と、基板をパターン露光する工程と、基板を加熱する工程と、基板にアルカリ現像液を用いて現像を施す工程と、基板にフッ酸濃度30％以上50％以下の溶液を用いてフッ酸エッチングを行う工程とを備える。 - 特許庁

In this method of rendering the used photographic processing solution less corrosive to low carbon steel, at least the used photographic processing solution contains a color developing agent and a bleaching agent, and the used photographic processing solution is delivered to a collection vessel to form a used photographic processing composition, then the pH of the used photographic processing composition is adjusted to 6.5 to 11.例文帳に追加

発色現像主薬を含有する使用済み写真処理溶液および漂白主薬を含有する使用済み写真処理溶液を少なくとも取り、前記使用済み写真処理溶液を回収容器に引き渡して、使用済み写真処理組成物を形成し、そして前記使用済み写真処理組成物のｐＨを６．５〜１１に調節することを含んでなる、使用済み写真処理溶液の低炭素鋼に対する腐食性をより低下させる方法。 - 特許庁

To provide base paper for photographic printing paper capable of suppressing the permeation of a developing solution from a cut section with productivity enhanced by the improvement of water drip on wires in a producing step.例文帳に追加

切断面端部からの現像液の浸透を著しく低減させることができると共に、写真印画紙用原紙の製造工程におけるワイヤー上での水切れを改善することによって生産性を挙げるのに好適な写真印画紙用原紙の提供。 - 特許庁

The method for producing the green tea paste comprises mixing an extract obtained by extracting tea leaves with hot water at low temperature, with a tea green soup prepared by developing and fixing color of chlorophyll from extracted tea leaf residues by a geen soup producing method, and then concentrating the mixed solution.例文帳に追加

茶葉から温水で低温抽出した抽出液と、抽出後の茶殻から青汁製造方法により葉緑素を発色・固定させて作った茶青汁を混合し、その混合液を濃縮して緑色茶ペーストをつくる。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition to be used as an interlayer insulating resin used for a silicon wafer or the like, the composition having favorable developing property to a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution and causing no decrease in adhesion property under PCT conditions.例文帳に追加

シリコンウエハー等に用いられる層間絶縁樹脂として用いられるネガ型感光性樹脂組成物において、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する良好な現像性を有し、かつＰＣＴ条件下において密着性を低減させないこと。 - 特許庁

The automatic developing device corrects the target value of electric conductivity while performing replenishment and processing replenishment of an alkaline replenishing solution with lapse of time and replenishes diluting water in accordance with the corrected target value and the measured value of electric conductivity (steps 302 to 308).例文帳に追加

自動現像装置は、アルカリ補充液の経時補充及び処理補充、電導度水補充を行いながら、電導度の目標値を補正し、補正した目標値と電導度の計測値に基づいて希釈水の補充を行う（ステップ３０２〜３０８）。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer having a narrow molecular weight distribution, and exhibiting excellent solubility in a developing solution of the polymer, resolution of a resist composition and depth of focus, when used for a resist composition.例文帳に追加

分子量分布が狭い重合体の製造方法を提供することを目的とし、レジスト組成物に用いた場合に重合体の現像液への溶解性並びにレジスト組成物の解像度および焦点深度に優れた性能を発揮できるようにする。 - 特許庁

The first resist frame 6 is formed by means of washing the developing solution with a cleaning liquid, and the minute pattern formation material 8 including a material corsslinking with an existence of an acid, is applied on a substrate 1, on which the cleaning liquid 7 is forced to stick.例文帳に追加

現像液を洗浄液で洗浄して第１のレジストフレーム６を形成し、洗浄液７を基板１上に付着させた状態で基板１上に酸の存在で架橋する材料を含む微細パターン形成材料８を塗布する。 - 特許庁

To provide a copolymer for lithography excellent in lithography properties such as a maximum rate (Rmax) at which a lithographic thin film is dissolved in an alkali developing solution and development contrast in chemically amplified positive lithography and to provide a composition containing the copolymer.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度（Ｒｍａｘ）や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating agent for a resist pattern, which is excellent in performance (curing performance) of insolubilizing and curing a resist pattern, and allows an insoluble resist pattern which is sufficiently stable against a subsequent exposure process, a developing solution and a positive radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。 - 特許庁

To provide a photo development apparatus which maximizes productivity even with a minimum number of photo backup apparatuses, by unifying the developing solution to be used for a photo development apparatus for a color filter substrate, and to provide a method for fabricating a color filter substrate by using the apparatus.例文帳に追加

カラーフィルター基板のフォト装備に利用される現像液を一元化することにより、最小限のフォトバックアップ装備でも生産力の極大化が可能であるフォト装備及びこれを利用したカラーフィルター基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing precursor which is capable of undergoing image recording with laser light and on-press development or development with an aqueous solution having pH of 11 or less, is excellent in developing property after the passage of time, and exhibits high printing durability and good stain resistance after the passage of time.例文帳に追加

レーザー光による画像記録および機上現像やｐＨ１１以下の水溶液による現像が可能であり、経時後の現像性に優れ、しかも高耐刷かつ経時後の耐汚れ性が良好な平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains: a base material component (A) of which the solubility in an alkali developing solution varies by an action of an acid; a fluoro-alkyl-substituted sulfonium salt type photo-acid generator (B); and a compound (D) expressed by general formula (d1) or general formula (d2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、フッ素アルキル置換スルホニウム塩型光酸発生剤（Ｂ）、一般式（ｄ１）又は一般式（ｄ２）で表される化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide an ink-jet printing ink excellent in color-developing performance and scratch resistance, and capable of giving good images with suppressed color bleed, and to provide an ink-jet printing method using the ink and a pretreatment solution, to provide a cartridge filled with the ink, and to provide printed matter.例文帳に追加

発色性と耐擦過性に優れ、カラーブリードが抑えられた良好な画像を実現できるインクジェット記録用インク、並びに、該インクと前処理液とを用いたインクジェット記録方法、該インクを収容したカートリッジ、及び記録物の提供。 - 特許庁

To provide a development processing method and development processing apparatus for uniformizing development processing, reducing a pattern collapse by developing solution or generation of a development loading effect, and capable of acquiring a high-quality substrate without variations in size in the surface to be processed.例文帳に追加

現像処理を均一化し、現像液によるパターン倒れや現像ローディング効果の発生を低減し、処理面内おける寸法ばらつきのない高品質な基板を得ることが可能な現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having high sensitivity and high resolving power, giving a rectangular photoresist, having good wettability with a developing solution, nearly free from development defects and ensuring a slight dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

高感度及び高解像力で、矩形形状を有するフォトレジストを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写時に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を得る。 - 特許庁

To obtain a resin composition having excellent photosensitivity, providing a cured product excellent in flexibility, solder heat resistance, heat deterioration resistance and electroless gold plating resistance, allowing developing with an organic solvent or a dilute alkaline solution and suitable for a solder resist and an interlayer insulation layer.例文帳に追加

感光性に優れ、硬化物の可撓性や半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、有機溶剤又は希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material capable of suppressing uneven development by shortening the development time of a thermoplastic resin layer by improving the solubility of the thermoplastic resin layer in a developing solution and to provide an image forming method using the same.例文帳に追加

熱可塑性樹脂層の現像液溶解性を向上させて熱可塑性樹脂層の現像時間の短縮化を図ることにより、現像むらを抑制することのできる感光性転写材料及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming projections and/or spacers includes the processes of: forming a film of the above composition; exposing the film through a photomask; developing the film after exposure with an alkaline solution to form a pattern; and exposing the pattern.例文帳に追加

突起および／またはスペーサーの形成方法は、該組成物の被膜を形成する工程、フォトマスクを介し該被膜に露光する工程、露光後の該被膜をアルカリ現像してパターンを形成する工程および該パターンに露光する工程を備えてなる。 - 特許庁

After exposing and developing are performed on a positive type photosensitive resin layer formed on a substrate to form the rectangular pattern 18, water solution containing non-reactive silicone oil is applied and dewatered, and the rectangular pattern is thermally reflowed by heat treatment to make the microlens.例文帳に追加

基板上に形成されたポジ型感光性樹脂層に露光、現像して矩形パターン１８を形成した後に、非反応性シリコーンオイルを含有する水溶液を塗布、水切りし、熱処理にて該矩形パターンを熱リフローさせマイクロレンズとすること。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which ensures high contrast using a stable developing solution and achieves improvement in defective conveyance in an exposure machine by automatic conveyance, such as an image setter, and in adhesion of dirt during development in an automatic processing machine.例文帳に追加

安定な現像液を用いて、極めて硬調で、イメージセッター等の自動搬送による露光機での搬送不良や、自動現像機での現像処理における汚れ付着が著しく改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of an insoluble material by the reaction of a polyvalent metal ion in a developing solution with an IR absorber and to carry out stable development over a long period of time.例文帳に追加

現像処理液中の多価金属イオンが赤外線吸収剤と反応して生ずる不溶物の発生を抑制し、長期間安定に現像しうる平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To prevent developer from containing air bubbles and dripping off from a nozzle even if wafer is larger than 12 inches (30 cm) in diameter, when developing solution is sprayed on the wafer, thus improving product yield.例文帳に追加

ウエハの口径が１２インチ（３０ｃｍ）以上と大型化した場合であっても、現像液をウエハに吐出した際、発生する空気を巻き込む気泡問題を解決するとともにノズルからの液垂れの問題も解決し、製品の歩どまりを向上させる。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent and has 2-7 cP viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有し、２５℃での粘度が２〜７センチポアズであるポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The photolithographic process is carried out by using a photosensitive composition containing a polyarylene resin having a crosslinking functional group, wherein development is carried out by using a developing solution composition containing a proper solvent and a poor solvent with respect to the polyarylene resin.例文帳に追加

架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、前記ポリアリーレン樹脂に対する良溶媒および貧溶媒を含有する現像液組成物を用いて現像を行う。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin having a specified alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when the resin is decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

A recording layer containing a dihydropyridine compound, a polymer soluble in an alkaline developing solution and a near IR absorbing dye is disposed on a substrate previously treated with a specified amino compound to obtain the objective positive type photosensitive composition.例文帳に追加

予め、特定のアミノ化合物で処理を施した支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有する記録層を設ける事を特徴とするポジ型の感光性組成物。 - 特許庁

The color developing solution for a silver halide color photographic sensitive material contains an N-2 substituted hydroxylamine derivative having a specified structure and an N-1 substituted hydroxylamine derivative having a specified structure in a molar ratio of 1,000:1 to 1:1.例文帳に追加

特定構造のＮ−２置換ヒドロキシルアミン誘導体と特定構造のＮ−１置換ヒドロキシルアミン誘導体を含有し、そのモル比率が１０００：１乃至１：１であることを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料用発色現像液。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having a specified structural unit and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定の構造単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a developing solution for negative photoresist which removes residue on a substrate, prevents unevenness and enables uniform development even after repeated use in the production of a color filter for a liquid crystal display or the like by a pigment dispersion method.例文帳に追加

液晶ディスプレー用等のカラーフィルタを顔料分散法により製造するに際し、基板上の残さ除去や、ムラ防止を達成できて、しかも繰り返し使用しても均一な現像が可能であるネガ型フォトレジスト用現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a developing solution composition capable of improving development properties, such as sensitivity, resolution, pattern features, and film residual rate in a photolithographic process which uses a photosensitive composition containing a polyarylene resin having a crosslinking functional group.例文帳に追加

架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、感度、解像度、パターン形状、残膜率などの現像性を向上させることができる現像液組成物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which satisfies desired transmittance properties, has stability in a state of a chemical solution such as dispersion uniformity or long-term viscosity stability, is excellent in developing properties and is capable of forming a color pattern with high resolving power.例文帳に追加

所望の透過率特性を満足し、且つ分散の均一性、経時粘度安定性といった薬液状態での安定性を保ち、且つ現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making a planographic printing plate in which high sensitivity and good raw stock preservability are ensured, neither emission of a foul odor nor pollution of a work environment is caused by a developing solution, good adhesion of an oxygen intercepting layer is attained and good ink receptivity and high printing durability are imparted.例文帳に追加

高感度で、生保存性が良く、現像液による臭気や作業環境の汚染がなく、該酸素遮断層の膜付きが良好で、インキ着肉性が良好で、耐刷力の高い平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

When a feed nozzle with a curved discharge opening is provided, or a means that generates an air flow which move along the surface of the substrate to restrain a developing solution from returning together is provided, the same effect can be obtained.例文帳に追加

また本発明では湾曲した吐出口が形成された供給ノズルを設けた構成、あるいは液の寄り戻しを抑えるために基板表面に沿って気流を形成する手段を設けた構成としても同様の効果が得られる。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin which has a specified repeating unit and of which the solubility in an alkaline developing solution increases in the presence of an acid; and a compound which generates an acid by the action of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有する、酸によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ｂ） 活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁