「Developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lithographic printing plate material which can be developed without requiring an alkaline developing solution having a high pH, and which is excellent in storage stability and excellent also in printing durability, and to provide a method for producing a lithographic printing plate using the same.例文帳に追加

高いｐＨを有するアルカリ性現像液を必要とせず現像が可能で、保存性に優れかつ耐刷性に優れる平版印刷版材料およびこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate material having good developability and ensuring a small amount of development sludge particularly even when a developing solution of <pH 12.5 is used in relation to improvement of high sensitivity, printing resistance, ink receptivity, etc.例文帳に追加

高い感度、耐刷性、インキ着肉性等の改良に関し、特に、現像液がｐＨ１２．５未満の場合にも現像性が良好且つ現像スラッジ量が少ない感光性平版印刷版材料の提供を目的とする。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition contains: [A] an acid generator expressed by formula (1); and [B] (b1) a polymer having a structural unit the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid.例文帳に追加

［Ａ］下記式（１）で表される酸発生剤及び［Ｂ］（ｂ１）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that enables developing processing by a dilute aqueous alkaline solution with high shape accuracy, and that can form an optical waveguide having superior transmission characteristics even under high temperature and high humidity conditions.例文帳に追加

希アルカリ水溶液による現像処理が可能であり、形状の精度が高く、高温高湿下でも優れた伝送特性を有する光導波路を形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The developing solution for diminishing defects contains 1-5 wt.% metal ion-free organic base and 100-1,500 ppm nonionic surfactant and has 45.0-65.0 mN/m (20°C) initial surface tension.例文帳に追加

また、金属イオンを含まない有機塩基を１〜５重量％、ノニオン性界面活性剤を１００〜１５００ｐｐｍ含有し、その表面張力初期値が４５．０〜６５．０ｍＮ/ｍ（２０℃）であるディフェクト低減用現像液。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an original plate for a planographic printing plate having an image forming layer which has improved in uniformity and in solubility and dispersibility in a developing solution and having a high-contrast image forming property without lowering sensitivity.例文帳に追加

均一性、現像液への溶解性及び分散性が改良された画像形成層を有し、感度を低下させることなく、硬調な画像形成性を有する平版印刷版用原版を提供すること。 - 特許庁

Monomolecular film is obtained by developing on the surface of watre, a mixed solution containing amphipathic block copolymer having a hydrophilic segment and a hydrophobic segment, and a low molecular compound having compatibility with the hydrophobic segment.例文帳に追加

親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合溶液を水面に展開して単分子膜を得る。 - 特許庁

To provide an image recorder, an information processor, and an image recording method by which the output of an image is stabilized by replenishing a developing processing solution in accordance with the size of photosensitive material and the image.例文帳に追加

感光材料のサイズと画像に応じた現像処理液の補充を行い、画像の出力を安定させることが可能な画像記録装置、情報処理装置および画像記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive resin composition having superior sensitivity and resolution and good tenting property, ensuring a crumble shape for peeled chips of a resist and forming few agglomerates in an alkali developing solution.例文帳に追加

感度、解像度に優れ、テンティング性が良好で、レジスト剥離片の形状が細片になり、加えてアルカリ現像液中の凝集物が少ない特性を有する優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide developing solution, having satisfactory solvent power and which will not cause cracks to resin, after development while minimizing a bipolar aprotic solvent whose toxicity has been pointed out.例文帳に追加

本発明は、有害性が指摘されている双極性非プロトン性溶剤を極力使用せず、かつ、十分な溶解力を有し、さらには樹脂現像後にクラックが発生しないポリイミド用現像を提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in flexibility, and resistances to solder heat, thermal deterioration, and non-electrolytic gold plating, and capable of developing with a dilute alkaline solution and suitable for a solder resist and an insulating layer between layers.例文帳に追加

硬化物の可撓性や半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When development is performed by using alkaline developing solution after exposure to light, a region which is exposed to light with the pattern 3b having L/S equal to or rougher than the resolution limit is formed in a shape having a comb tooth type section by narrow trenches 5 with depth not getting to the substrate 1.例文帳に追加

露光後、アルカリ性現像液で現像すると、解像限界以下のＬ／Ｓのパターン３ｂにより露光された領域は、基板１に達しない深さの狭い溝５によって断面櫛歯状に形成される。 - 特許庁

To provide a developing solution which combines prevention of contamination with printing durability during printing without degrading image forming property, and in particular, is suitable for environment-friendly ink, and to provide a method for processing a photosensitive planographic printing plate material.例文帳に追加

画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、特に環境対応の印刷インキに適用できる現像液および感光性印刷版材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making a planographic printing plate in which both stain in printing and printing resistance are ensured without impairing image forming property, a developing solution can be stabilized and even processing stability is improved.例文帳に追加

画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、現像液を安定化でき、処理安定性をも向上することができる平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

An end of a probe substrate formed out of a material transparent with respect to the excitation light is coated with a substance from which a substance or metal of a large refractive index insolubilized in a developing solution separates out when it is irradiated with active light.例文帳に追加

励起光に対して透明な材料で構成したプローブ基体先端に、活性光線を照射すると現像液に不溶化する屈折率の大きい物質又は金属が析出する物質をコーティングする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The chemical amplification resist composition contains a resin which is decomposed by an action of a specified acid to increase the solubility with an alkali developing solution, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are also disclosed.例文帳に追加

特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。 - 特許庁

A photosensitive material 10a having been exposed is carried by rollers in a carrying rack 28, dipped in the developer in a developing tank 21 and the bleaching and fixing solution in a bleaching and fixing tank 22, and carried to a 1st washing tank 23.例文帳に追加

露光済みの感光材料１０ａは、搬送ラック２８によりローラ搬送され、現像槽２１の現像液、漂白定着槽２２の漂白定着液に順次浸漬された後、第１水洗槽２３に搬送される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good solubility in a developing solution and capable of forming a pattern having low water absorption, and a pattern forming method and electronic parts using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

現像液に対する溶解性が良好であり、吸水率が低いパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

A print station 3 is equipped with a processing liquid replenishing mechanism 20 for replenishing appropriate necessary amount of the processing liquid to each processing tank 15a to 15c, containing various kinds of processing liquids, such as a color developing solution.例文帳に追加

プリントステーション３は、発色現像処理液等の各種処理液を貯留している各処理槽１５ａ〜１５ｃに対して、適宜必要な量の処理液を補充する処理液補充機構２０を備えている。 - 特許庁

The resist pattern slimming treatment method includes slimming treatment steps S16 to S18 of carrying out slimming treatment on the resist pattern by coating a substrate where the resist pattern is formed with a solution containing acid, and carrying out heat treatment and then developing treatment.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板上に酸を含む溶液を塗布し、次に熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程Ｓ１６〜Ｓ１８を含む。 - 特許庁

The developing solution for the photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer on an aluminum support contains an inorganic alkaline agent and a polyoxyalkylene polystyrylphenyl ether type nonionic surfactant.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版の現像液であって、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテル型ノニオン系界面活性剤とを含有することを特徴とする。 - 特許庁

When the cation exchange resin or the chelate resin used to treat the used photoresist developing solution primarily containing the photoresist and TAAH (tetraalkylammonium hydroxide) is regenerated, acid treatment is carried out after alkali treatment with TAAH, or the like.例文帳に追加

フォトレジストとＴＡＡＨを主として含むフォトレジスト現像廃液を処理したイオン交換樹脂又はキレート樹脂を再生する際に、ＴＡＡＨ等によるアルカリ処理を行った後に酸処理を行う。 - 特許庁

To provide a material for forming an electroless plating, which has good catalyst sticking property and from which a catalyst sticking layer is not eluted into a plating solution in a catalyst sticking process, a developing process or the like.例文帳に追加

触媒付着性が良好であり、また、触媒付着工程、現像工程その他工程において、触媒付着層がメッキ液に溶出したりすることがない無電解メッキ形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide an original plate of a planographic printing plate having excellent developability, sensitivity, printing durability and dot reproducibility, with less production of development scum in the developing solution at the development, and also to provide a manufacturing method of a planographic printing plate.例文帳に追加

現像性、感度、耐刷性及び網点再現性に優れ、現像時の現像液における現像カスの生成が少ない平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide: a liquid developing agent solution satisfying development property, inhibiting the influence on coloring by magnetic powder, and permitting formation of clear images; a process cartridge using the same; and an image forming device.例文帳に追加

現像性を満足させつつ、磁性粉による発色への影響を抑制し、鮮明な画像が形成される液体現像剤液、並びに、それを利用したプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Consequently, closer analysis and examination are enabled to make the technique high in level, minute, and substantial into numerical examination, examination for optimization, combination with an evaluation method as other methods, and solution by macroviewing, thereby developing the application of the method.例文帳に追加

より深い分析と検討として、数値的な検討、最適化の検討、他の手法なり評価法との組み合わせや、大きく眺めた時の解へと、高度化、精細化、本質化して、手法の適用を発展させる。 - 特許庁

To provide a photopolymerization initiator which can eliminate or at least reduce the accumulation of scum and residue in a developing solution and a resist stripper and the deposition of the scum and residue on a device and a printed wiring board.例文帳に追加

現像液と剥離液中のスカムと残渣の蓄積並びに装置とプリント配線板上のスカムや残渣の堆積をなくすか、少なくとも低下させることの出来る光重合開始剤成分を提供する。 - 特許庁

To obtain a negative type photosensitive planographic printing plate having satisfactory alkali developability, causing no stain in printing and not producing adverse effects such as the deterioration of image strength and the lowering of printing durability and to provide a process for the negative type photosensitive planographic printing plate by developing the planographic printing plate with an alkaline aqueous solution not substantially containing a solvent.例文帳に追加

十分なアルカリ現像性を有し、印刷時の汚れの発生がなく、また画像強度の劣化や耐刷性の低下といった副作用のないネガ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources.例文帳に追加

本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁

The processing method for a photosensitive planographic printing plate is characterized in that a photosensitive planographic printing plate material having a photosensitive layer on a support is imagewisely exposed, developed in a developing solution containing substantially no silicate, and then processed with an alkali aqueous solution containing a silicate by 0.1 to 2.0 mass%.例文帳に追加

支持体上に感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、実質的に珪酸塩を含まない現像液で現像処理した後、珪酸塩を０．１〜２．０質量％含有するアルカリ水溶液で処理することを特徴とする感光性平版印刷版材料の処理方法。 - 特許庁

A composite material, which is prepared by developing a solution of a polymer B having a molecular structure different from that of a solid polymer A on the polymer A to dry the developed solution, is used on the main body of the electrode 3 as a target and a polymer film 4 is formed on the main body of the electrode 3 by high frequency sputtering.例文帳に追加

電極本体上に、固体の高分子Ａの上に、前記高分子Ａと異なる分子構造を有する高分子Ｂ溶液を展開し乾燥させた複合材料をターゲットとして用い、高周波スパッタで前記電極３本体上に高分子膜４を形成することを特徴とする。 - 特許庁

Therefore, when a wafer W which is wet with a processing solution is carried to the high- pressure processing unit 26, even if the processing solution adhering to the substrate W or its evaporation material is moved to the main carrying path 21, the developing units 231, 232, and 243 exist before the main carrying path 21.例文帳に追加

したがって、処理液で濡れた基板Ｗを高圧処理ユニット２６に搬送している際に、基板Ｗに付着している処理液、またはその蒸発物が主搬送路２１側に移動しようとしても、主搬送路２１に至るまでに現像処理ユニット２３１，２３２，２４３が介在することとなる。 - 特許庁

To provide a fluoropolymer expressing properties including low dielectric property and high transparency while maintaining high fluorine content and holding high adhesiveness for attaining its high solubility to an aqueous alkaline solution used as developing solution and an organic solvent, its high adhesiveness to a substrate and high film formability.例文帳に追加

低誘電性、高透明性を有し、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供する。 - 特許庁

The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加

本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide the silver halide color photographic sensitive material high in activity and superior in storage stability and manufacturable at low cost and containing a novel capturer of the oxidation product of a developing agent and freed of anxiety of pollution of waste processing solution.例文帳に追加

高活性で保存安定性に優れ、安価に製造可能でかつ処理液汚染の懸念のない新規な現像主薬酸化体の捕捉剤を含有し、粒状性に優れたハロゲン化銀感光材料を提供すること。 - 特許庁

Since a distribution is applied to a developing-solution/resist solubility characteristic in the thickness (depth) direction of resist films (R1, R2), a contrast between one of the layers more soluble to the developer and less soluble thereto in the resist film thickness direction can be provided.例文帳に追加

レジスト膜（Ｒ１、Ｒ２）の厚さ（深さ）方向で現像液に対するレジストの溶解特性に分布をつけることで、レジスト膜厚方向に現像液に溶解しやすい層と溶解しにくい層のコントラストを形成することができる。 - 特許庁

To secure a gas permeability, even for a high PC ratio by charging a small lump coke in the upper part of the furnace core position at the lower part of a large lump coke and developing a solution loss in the small lump coke prior to the large bulky coke.例文帳に追加

本発明は、大塊コークスの下部の炉芯位置の上方に小塊コークスを装入し、大塊コークスに比べて優先的にソリューシヨンロスを起こさせ、高ＰＣ比下でも通気性を確保することを目的とする。 - 特許庁

To provide a novel fluorine containing polymer compound useful as a base resin for radiation sensitivity resist excellent in properties such as transparency to radiations at wave length of 200 nm or less, adhesiveness to a base plate, affinity to a developing solution and dry etching resistance.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の放射線に対する透明性、基板密着性、現像液親和性、ドライエッチング耐性等の性能に優れる感放射線レジスト用のベース樹脂として有用な新規含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

A belt 15 is moved in the same direction as the conveyance direction of the film 2 at higher speed than a conveyance speed of the film 2 while in contact with a surface of the bead 38 of the developing solution formed on the photosensitive surface of the film 2.例文帳に追加

そして、ベルト１５が、フィルム２の感光面上に形成された現像液のビード３８の表面に接触しつつ、フィルム２の搬送方向と同じ方向にフィルム２の搬送速度よりも大きい速度で移動するようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent developing property in a diluted alkali aqueous solution and having particularly excellent flexibility, heat resistance, heat resistance for soldering, adhesion property, water resistance, flexural durability, chemical resistance or the like of the coating film after hardened.例文帳に追加

希アルカリ水溶液での現像性に特に優れ、且つ硬化後の塗膜が、特に可撓性、耐熱性、半田耐熱性、密着性、耐水性、耐屈曲性、耐薬品性等に優れた感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate excellent in development latitude, that is, both sensitivity and the residual film rate of an unexposed part after alkali development and free of the impairment of processing stability even when many plates are developed with a developing solution.例文帳に追加

現像ラチチュード、つまり感度とアルカリ現像後の未露光部の残膜率とが共に優れ、且つ現像液で多量の枚数を現像処理した場合にも処理安定性を損なわない感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in flexibility, and restances to solder heat resistance, thermal deterioration, and non-electrolytic gold plating, and capable of developing with an organic solvent or a dilute alkaline solution and suitable for a solder resist and an insulating layer between layers.例文帳に追加

硬化物の可撓性や半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、有機溶剤又は希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After applying a post baking to the resist film 102 which is pattern exposured, the film 102 is developed by an alkaline developing solution to be able to obtain a resist pattern 105 comprising an unexposed part 102b of the resist film 102 and having a satisfactory shape.例文帳に追加

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０５が得られる。 - 特許庁