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ETCHを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 912



例文

MASK ETCH PROCESS例文帳に追加

マスクエッチングプロセス - 特許庁

etch in aquatint 例文帳に追加

アクアチントでエッチングする - 日本語WordNet

ETCH SELECTIVITY MEASURING METHOD AND ETCH SELECTIVITY MEASUREMENT DEVICE例文帳に追加

エッチング選択比測定方法およびエッチング選択比測定装置 - 特許庁

There is provided a method for performing a metallic etch, etch mask stripping, and removal of residual sidewall passivation in a single etch chamber.例文帳に追加

単一のエッチングチャンバ内で、金属エッチングと、エッチングマスク剥離と、残留側壁パッシベーションの除去とを実行する方法。 - 特許庁

例文

LOW THERMAL EXPANSION ALLOY THIN SHEET HAVING EXCELLENT ETCH RATE AND ETCH PRECISION AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

エッチング速度とエッチング精度に優れた低熱膨張合金薄板およびその製造方法 - 特許庁


例文

MASK ETCH PLASMA REACTOR WITH BACKSIDE OPTICAL SENSOR AND MULTIPLE FREQUENCY CONTROL OF ETCH DISTRIBUTION例文帳に追加

裏面光学センサ及びエッチング分布の多周波数制御を備えたマスクエッチングプラズマリアクタ - 特許庁

Material of the first etch-stop material layer and that of the side wall insulating film are different by etch selectivity.例文帳に追加

第1エッチング阻止物質層と側壁絶縁膜とはエッチング選択比の異なる物質を用いる。 - 特許庁

I will etch that in my heart forever. 例文帳に追加

私はそれをいつまでも心に刻む。 - Weblio Email例文集

carve, cut, or etch into a material or surface 例文帳に追加

材料または表面を刻む、切る、または刻み込む - 日本語WordNet

例文

After that, oxygen plasma is used to etch the pedestal.例文帳に追加

その後、酸素プラズマを用いてペデスタルをエッチングする。 - 特許庁

例文

To precisely etch a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハのエッチングを精密に行う。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MONITORING ETCH PROCESS例文帳に追加

エッチング処理をモニタリングする方法およびシステム - 特許庁

METHOD OF SELECTIVE ETCHING USING ETCH STOP LAYER例文帳に追加

エッチング停止層(etchstoplayer)を使用する選択的エッチング法 - 特許庁

SILICON-GERMANIUM ETCH STOP LAYER SYSTEM例文帳に追加

シリコンゲルマニウムエッチング停止層システム - 特許庁

The cap layer 112 also functions as an etch stopping layer.例文帳に追加

キャップ層112は、エッチ停止層としても機能する。 - 特許庁

DRY ETCH TREATMENT DEVICE AND TREATMENT METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

ドライエッチ処理装置と、基板の処理方法 - 特許庁

COATING COMPOSITION HAVING IMPROVED ACID ETCH RESISTANCE例文帳に追加

改善された耐酸腐食性を有するコーティング組成物 - 特許庁

The oxygen plasma also cleans the etch chamber.例文帳に追加

酸素プラズマは、更に、エッチングチャンバをクリーニングする。 - 特許庁

GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR POST-ETCH TREATMENT SYSTEM例文帳に追加

エッチング後の処理システムのためのガス分配システム - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING TO ETCH WAFER EDGE例文帳に追加

ウエーハエッジのエッチング処理方法及び装置 - 特許庁

To etch or coat a substrate.例文帳に追加

基板をエッチングまたはコーティングする - 特許庁

CHANNEL ETCH TYPE THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

チャネルエッチ型薄膜トランジスタ - 特許庁

The color filter layer 28R is subjected to etch-back processing.例文帳に追加

カラーフィルタ層28Rをエッチバック処理する。 - 特許庁

A metal etch is performed on the wafer.例文帳に追加

ウエハ上で、金属エッチングが実行される。 - 特許庁

The mask is used to etch the second metal layer etc.例文帳に追加

該マスクを用いて第2金属層等をエッチングする。 - 特許庁

Hydrogen iodide 64 is effective to etch the neodymium component in the alloy and chlorine 62 is effective to etch the aluminum component in the alloy.例文帳に追加

ヨウ化水素64は合金のネオジム成分をエッチングし、塩素62はアルミニウム成分をエッチングする。 - 特許庁

An etch stopper film 2 is formed on wiring 1 formed on a substrate, and an insulating film 3 is formed on the etch stopper film.例文帳に追加

基板上に形成された配線1上にエッチストッパー膜2を形成し、エッチストッパー膜上に絶縁膜3を形成する。 - 特許庁

A first etch-stop material layer 224a and a second etch-stop material layer 224b are selectively provided over them.例文帳に追加

これらの上に第1エッチング阻止物質層224a、第2エッチング阻止物質層224bを選択的に設ける。 - 特許庁

The etch pit is formed at a dislocation part, so the dislocation can be detected through the etch pit.例文帳に追加

このエッチピットは転位部分に形成されたものであるから、エッチピットを通して転位を検出できる。 - 特許庁

A post-etch treatment system is described for removing photoresist remnants and etch residues formed during an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセス中に形成されるフォトレジストおよびエッチング残渣を除去するエッチング後の処理システムは、記載されている。 - 特許庁

The self-mask layer has a low etch rate during the bulk absorber layer etch step, thereby, acting as a hard mask.例文帳に追加

バルク吸収層エッチング工程中の自己マスク層のエッチング速度は低いため、自己マスク層はハードマスクとして機能する。 - 特許庁

An HBT further includes a first segment 126 of an etch stop layer, wherein the first segment of the etch stop layer contains InGaP.例文帳に追加

HBTはエッチストップ層の第1の部分126をさらに含み、エッチストップ層の第1の部分はInGaPを含む。 - 特許庁

The etch process may be a multiple etch process to provide better edge and thickness control when forming the taper.例文帳に追加

エッチングプロセスは、テーパを形成する場合に、優れたエッジおよび厚み制御を提供するために多重エッチングプロセスであってもよい。 - 特許庁

The head slider may be produced with a two step etch process, as opposed to a three step etch process.例文帳に追加

ヘッドスライダは、3ステップエッチングプロセスとは対照的に、2ステップエッチングプロセスで作製してもよい。 - 特許庁

Methods are provided for manufacturing optical display devices which remove an etch resist and residual post-etch metal in a single step.例文帳に追加

エッチングレジストとエッチング後の金属残渣を単一工程で除去する、光学ディスプレーデバイスの製造方法が提供される。 - 特許庁

The transparent film 14 is used for detection of the end point of etch-back processing, so that the end point of etch-back processing can be easily predetermined.例文帳に追加

透明膜14をエッチバック処理の終点検出に用いることで、エッチバック処理の終点を容易に特定することができる。 - 特許庁

In order to securely carry out an etch back, the reference edge is used in two etch back stages.例文帳に追加

エッチバックを確実に遂行するため、この基準エッジは、2つのエッチバック段階中に用いられる。 - 特許庁

To selectively etch a specific amorphous oxide semiconductor.例文帳に追加

特定のアモルファス酸化物半導体を選択的にエッチングする。 - 特許庁

To selectively etch TiW films and improve its etching speed.例文帳に追加

TiW膜を選択的にエッチングし、そのエッチング速度を向上させる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE HAVING LOCAL ETCH STOPPER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

局部エッチストッパーを有する半導体メモリ素子及びその製造方法 - 特許庁

METHOD TO ETCH CHROME DEPOSITED ON CALCIUM FLUORIDE OBJECT例文帳に追加

フッ化カルシウム物上に堆積されたクロムのエッチング方法 - 特許庁

For example, the etch residues may contain a material including halogens.例文帳に追加

たとえば、エッチング残渣は、ハロゲンを含む材料を含むことができる。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING ETCH PIT DENSITY IN SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTAL例文帳に追加

半導体単結晶におけるエッチピット密度の測定方法 - 特許庁

REAL-TIME CONTROL OF GATE ETCH CRITICAL DIMENSION BY OXYGEN MONITORING例文帳に追加

酸素モニタリングによるリアルタイム・ゲート・エッチ限界寸法制御 - 特許庁

To etch only silicon, without eroding an oxide film and a nitride film.例文帳に追加

酸化膜および窒化膜を腐食させずにシリコンのみをエッチングする。 - 特許庁

THERMAL F2 ETCH PROCESS FOR CLEANING CVD CHAMBER例文帳に追加

CVDチャンバーのクリーニングのためのサーマルF2エッチングプロセス - 特許庁

To etch the surface of quartz glass with good precision.例文帳に追加

精度の良い石英ガラスの表面エッチング法を提供すること。 - 特許庁

Etch-back is executed by depositing polycrystalline silicon 16 in the trench.例文帳に追加

トレンチの内部に多結晶シリコン16を堆積してエッチバックを行う。 - 特許庁

Then, tungsten plugs 14 are formed by etch back.例文帳に追加

その後、エッチバックすることでタングステンプラグ14を形成する。 - 特許庁

例文

Here, during etching the etch stop layer, the dielectric layer is covered.例文帳に追加

ここで、誘電体層はエッチング止め層のエッチングの間覆われている。 - 特許庁

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